CN110741463B - 带有微细凹凸图案的基板的制造方法、树脂组合物及层叠体 - Google Patents

带有微细凹凸图案的基板的制造方法、树脂组合物及层叠体 Download PDF

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Abstract

本发明的带有微细凹凸图案的基板(101a)的制造方法为用于制造表面具有微细凹凸图案的基板的制造方法，其具备下述工序：工序(a)，准备层叠体(100)，所述层叠体(100)具备基板(101)、以及设置于基板(101)上且表面形成有第1微细凹凸图案(102)的第1树脂层(103)；工序(b)，通过将第1树脂层(103)作为掩模来对第1微细凹凸图案(102)的表面进行蚀刻，从而在基板(101)的表面(104)形成与第1微细凹凸图案(102)对应的第2微细凹凸图案(105)，第1树脂层(103)由包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)或树脂组合物(P)的固化物构成。

Description

带有微细凹凸图案的基板的制造方法、树脂组合物及层叠体
技术领域
本发明涉及带有微细凹凸图案的基板的制造方法、树脂组合物以及层叠体。
背景技术
作为在基板的表面形成微细凹凸图案的方法，已知光刻法、纳米压印光刻法。光刻法的装置昂贵，工艺复杂，而与此相对，纳米压印光刻法具有通过简便的装置和工艺就能够在基板的表面制作微细凹凸图案这样的优点。此外，纳米压印光刻法被认为是对于形成宽度比较宽且深的凹凸结构、圆顶状、四方锥、三角锥等多种多样的形状而言优选的方法。
使用纳米压印光刻法在基板上形成微细凹凸图案的方法为例如下述方法：使用表面具有纳米级的微细凹凸图案的模具，将微细凹凸图案转印至形成于基板上的树脂层(也称为抗蚀剂层。)，接着，将所得的具有微细凹凸图案的树脂层作为掩模而对上述基板进行蚀刻，在上述基板上赋予微细凹凸图案。
作为关于使用这样的纳米压印光刻法在基板上形成微细凹凸图案的方法的技术，可举出例如，专利文献1(日本特开2010-284970号公报)和专利文献2(日本特开2015-71741号公报)所记载的技术。
专利文献1中记载了一种纳米压印的方法，其特征在于，包括以下步骤：将包含超支化聚氨酯低聚物、全氟聚醚、甲基丙烯酸甲酯树脂以及有机稀释剂的纳米压印的抗蚀剂涂布于基板的一个表面上来形成抗蚀剂层的步骤；提供一个表面具有纳米级的图案的模型，将上述纳米级的图案转印至上述抗蚀剂层的步骤；与上述纳米级的图案相对应地加工上述基板，在该基板的上述一个表面形成上述纳米级的图案的步骤。
专利文献2中记载了一种图案形成方法，其包括下述工序：将固化性组合物涂布于基板上来形成被转印层的工序，所述固化性组合物包含作为固化成分的具有2个以上烯属不饱和基团的多官能不饱和化合物(A)和具有2个以上硫醇基的多官能硫醇化合物(B)，并且包含重均分子量为12,000以下且实质上不具有氟原子的合物(C)；使模具压接于上述被转印层的工序；在将上述模具压接之后，对于上述被转印层进行光照射的工序；在该光照射之后将上述模具与上述被转印层分开，接着将上述被转印层作为掩模对上述基板进行蚀刻的工序。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2010-284970号公报
专利文献2：日本特开2015-71741号公报
发明内容
发明所要解决的课题
根据本发明人等的研究，关于使用纳米压印光刻法在基板上形成微细凹凸图案的方法，认识到能够将模具表面的微细凹凸图案进行转印的树脂层有时蚀刻性差。在该情况下，有时无法将位于树脂层下方的基板蚀刻成所期望的形状。即，有时无法在基板的表面精度良好地形成微细凹凸图案。可知特别是在树脂层比较厚的情况下，存在该倾向显著的倾向。
另一方面，要求精度更高，宽度、深度的自由度高的凹凸形状的基板。
本发明是鉴于上述情况而提出的，提供一种能够获得微细凹凸图案的尺寸精度优异的基板的、带有微细凹凸图案的基板的制造方法以及该制造方法所使用的树脂组合物。
用于解决课题的方法
本发明人等为了完成上述课题而反复深入研究。其结果发现，包含含氟环状烯烃聚合物的树脂层能够以高精度将模具表面的微细凹凸图案进行转印，并且蚀刻耐性、蚀刻的操控性优异。即，发现了能够制造具有各种精度高的凹凸形状的基板，由此完成了本发明。
根据本发明，提供以下所示的带有微细凹凸图案的基板的制造方法、树脂组合物以及层叠体。
[1]
一种带有微细凹凸图案的基板的制造方法，为用于制造表面具有微细凹凸图案的基板的制造方法，其具备下述工序：
工序(a)，准备层叠体，所述层叠体具备基板、以及设置于上述基板上且表面形成有第1微细凹凸图案的第1树脂层；
工序(b)，通过将上述第1树脂层作为掩模来对上述第1微细凹凸图案的表面进行蚀刻，从而在上述基板的表面形成与上述第1微细凹凸图案对应的第2微细凹凸图案，
上述第1树脂层由包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)或上述树脂组合物(P)的固化物构成。
[2]
根据上述[1]所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述含氟环状烯烃聚合物(A)包含下述通式(1)所示的重复结构单元。
[化1]
(上述通式(1)中，R1～R4中的至少1个为选自氟、含有氟的碳原子数1～10的烷基、含有氟的碳原子数1～10的烷氧基和含有氟的碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团。在R1～R4为不含氟的基团的情况下，R1～R4为选自氢、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基和碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团。R1～R4可以相同也可以不同。R1～R4也可以彼此键合而形成环结构。n表示0～2的整数。)
[3]
根据上述[1]或[2]所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述树脂组合物(P)进一步包含光固化性化合物(B)和光固化引发剂(C)。
[4]
根据上述[3]所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述树脂组合物(P)中的上述含氟环状烯烃聚合物(A)的含量与上述光固化性化合物(B)的含量的质量比((A)/(B))为1/99以上99/1以下。
[5]
根据上述[3]或[4]所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述光固化性化合物(B)包含能够阳离子聚合的开环聚合性化合物。
[6]
根据上述[3]～[5]中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)的表面张力为20mN/m以上60mN/m以下，
上述工序(a)包括下述工序：使用喷墨涂布法，在上述基板上涂布上述树脂组合物(P)来形成上述第1树脂层。
[7]
根据上述[1]～[6]中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述工序(a)包括下述工序(a1)：通过使具有微细凹凸图案的模具压接于设置在上述基板上的上述包含含氟环状烯烃聚合物(A)的第1树脂层，从而在上述第1树脂层的表面形成与上述微细凹凸图案对应的微细凹凸图案。
[8]
根据上述[7]所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述工序(a)进一步包括下述工序：
工序(a2)，在上述第1树脂层的表面形成上述第1微细凹凸图案之后，通过照射光，从而使上述第1树脂层固化；以及
工序(a3)，从上述第1树脂层剥离上述模具。
[9]
根据上述[1]～[8]中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，其进一步包括下述工序(c)：
除去位于构成上述第2微细凹凸图案的凸部的上方的上述第1树脂层。
[10]
根据上述[1]～[9]中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述基板选自石英基板、硅基板、镍基板、铝基板和蓝宝石基板。
[11]
一种树脂组合物，为用于形成上述[1]～[10]中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法中的上述第1树脂层的树脂组合物，其包含含氟环状烯烃聚合物(A)。
[12]
根据上述[11]所述的树脂组合物，通过下述方法1测定得到的O2气体的蚀刻速率(O2)与CHF3气体的蚀刻速率(CHF3)之比((O2)/(CHF3))为1以上100以下。
(方法1：将上述树脂组合物以使固化后的厚度成为200nm以上350nm以下的范围的方式涂布于硅晶片上，然后使所得的涂布膜固化。接着，对于所得的固化膜，以10秒、20秒和30秒分别实施O2气体等离子体蚀刻，算出由上述O2气体等离子体蚀刻所导致的上述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)来进行描点，由所得的图表的斜率算出上述O2气体的蚀刻速率(O2)(nm/sec)。同样地，对于所得的固化膜，以30秒、60秒和90秒分别实施CHF3气体等离子体蚀刻，算出由上述CHF3气体等离子体蚀刻所导致的上述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)来进行描点，由所得的图表的斜率算出上述CHF3气体的蚀刻速率(CHF3)(nm/sec)。)
[13]
根据上述[11]或[12]所述的树脂组合物，表面张力为20mN/m以上60mN/m以下。
[14]
一种层叠体，为上述[1]～[10]中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法中的上述层叠体，其具备基板、以及设置于上述基板上且表面形成有第1微细凹凸图案的第1树脂层，
上述第1树脂层由包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)或上述树脂组合物(P)的固化物构成。
发明的效果
根据本发明，能够获得微细凹凸图案的尺寸精度优异的基板。
附图说明
上述目的以及其它目的、特征和优点通过以下所述的优选实施方式及其附带的以下附图来进一步变得清楚。
图1为表示本发明涉及的带有微细凹凸图案的基板的制造方法的一例的流程图。
图2为表示本发明涉及的带有微细凹凸图案的基板的制造方法的一例的流程图。
图3为表示本发明涉及的带有微细凹凸图案的基板的制造方法的一例的流程图。
具体实施方式
以下，对于本发明的实施方式，使用附图来进行说明。另外，在全部附图中，对同样的构成要素附上共同的符号，适当省略说明。此外，图为概略图，与实际的尺寸比率并不一致。此外，只要没有特别规定，数值范围的“A～B”就表示A以上B以下。此外，在本说明书中，有时将皮升记载为“pL”。
图1～3为表示本发明涉及的带有微细凹凸图案的基板的制造方法的一例的流程图。
本实施方式涉及的带有微细凹凸图案的基板101a的制造方法为用于制造表面具有微细凹凸图案的基板的制造方法，其至少具备以下2个工序。
工序(a)：准备层叠体100的工序，所述层叠体100具备基板101、以及设置于基板101上且表面形成有第1微细凹凸图案102的第1树脂层103，
工序(b)：通过将第1树脂层103作为掩模来对第1微细凹凸图案102的表面进行蚀刻，从而在基板101的表面104形成与第1微细凹凸图案102对应的第2微细凹凸图案105的工序，
而且，第1树脂层103由包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)或树脂组合物(P)的固化物构成。
这里，在本实施方式中，所谓微细凹凸图案，例如，是指具备凸部和凹部，且凸部和/或凹部的宽度为10nm～50μm，凹部的深度和/或凸部的高度为10nm～50μm，凸部的宽度与凸部的高度之比即长宽比为0.1～500的结构。
作为其它例，可举出圆顶状、四方柱状、圆柱状、棱柱状、四方锥状、三角锥状、多面体状、半球状等形状。在这些形状中，可举出凹部的深度和/或凸部的高度为10nm～50μm，凸部的宽度与凸部的高度之比即长宽比为0.1～500的结构作为优选例。
根据本发明人等的研究，关于使用纳米压印光刻法在基板上形成微细凹凸图案的方法，认识到能够将模具表面的微细凹凸图案进行转印的树脂层有时蚀刻性差。发现在该情况下，有时存在以下情形：例如，在树脂层的O2气体等离子体蚀刻耐性小，将基板表面与凹部底面的树脂层进行蚀刻时，有时图案的凸部也被蚀刻，导致无法作为基板加工的蚀刻掩模来使用；蚀刻无法进行到位于树脂层下方的基板处，即，蚀刻在中途就无法进行下去，无法在基板的表面精度良好地形成微细凹凸图案。
即，本发明人等发现，使用纳米压印光刻法在基板上形成微细凹凸图案的方法中，在与蚀刻相关的整体性能(蚀刻耐性的平衡、控制等)方面存在改善的余地。
本发明人等为了完成上述课题而反复深入研究。其结果发现，包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂层能够以高精度将模具表面的微细凹凸图案进行转印，即，蚀刻耐性与蚀刻操控性(例如，蚀刻会随着时间的推移稳定地进行等)的平衡优异。
即，通过将包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂层用作在利用纳米压印光刻法在基板上形成微细凹凸图案的方法中所使用的抗蚀剂层，从而能够将模具表面的微细凹凸图案以高精度转印至抗蚀剂层，进一步能够精度良好地进行在构成微细凹凸图案的凹部的下方残存的抗蚀剂层的蚀刻以及接下来的基板的蚀刻。
包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂层能够将模具表面的微细凹凸图案以高精度转印，并且对用于蚀刻基板的气体、液体等的蚀刻耐性与蚀刻操控性的平衡优异。如果具有这样的蚀刻性能，则在将具有微细凹凸图案的树脂层作为掩模来对基板进行蚀刻时，能够对基板的所期望的位置进行蚀刻，因此能够将形成于树脂层的微细凹凸图案以高精度转印至基板。进而，由于能够使树脂层的厚度变薄，因此在对形成于树脂层的微细凹凸图案进行蚀刻时，能够抑制构成树脂层的微细凹凸图案的凸部的侧壁被蚀刻。
这些结果表示，如果将具有上述那样的特性的包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂层用作纳米压印光刻法中的抗蚀剂层，则能够将微细凹凸图案以高精度赋予至基板。而且，能够获得具有特定的结构的基板。
如以上那样，根据本实施方式涉及的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，通过具备上述工序(a)和工序(b)，使用包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)或树脂组合物(P)的固化物作为第1树脂层103，从而能够在基板表面精度良好地形成微细凹凸图案，其结果是能够获得微细凹凸图案的尺寸精度优异的基板。
1.树脂组合物(P)
接下来，对于在本实施方式涉及的带有微细凹凸图案的基板的制造方法中所使用的树脂组合物(P)进行说明。
本实施方式涉及的树脂组合物(P)包含含氟环状烯烃聚合物(A)作为必需成分。此外，从对所得的第1树脂层103赋予光固化性的观点考虑，本实施方式涉及的树脂组合物(P)优选进一步包含光固化性化合物(B)和光固化引发剂(C)。如果第1树脂层103被赋予光固化性，则能够使用所谓光纳米压印光刻法，因此能够将加热工序、冷却工序最小化，能够抑制将第1树脂层103固化时的尺寸变化等。
此外，本实施方式涉及的树脂组合物(P)优选全部构成要素由有机化合物形成。在该情况下，由于本实施方式涉及的树脂组合物(P)的全部构成要素由有机化合物形成，而且具有特定的结构，因此对于蚀刻工艺的初始过程中实施的O2气体等离子体蚀刻，能够进一步减少残膜，能够进一步减小蚀刻速率相对于蚀刻时间的变动，其结果是能够在进一步高的操控性下进行O2气体等离子体蚀刻。该性质对于制造微细结构的基板而言是有利的。
进一步，在本实施方式涉及的树脂组合物(P)中，通过下述方法1测定得到的O2气体的蚀刻速率(O2)与CHF3气体的蚀刻速率(CHF3)之比((O2)/(CHF3))优选为1以上100以下，更优选为5以上80以下，进一步优选为10以上70以下，进一步更优选为15以上70以下，特别优选为20以上70以下。
通过将氧(O2)气体与氟系(CHF3)气体的蚀刻速率之比调整至上述范围内，从而利用基板加工时的气体(例如，氟系(CHF3)气体)进行加工时，容易控制对于由本实施方式涉及的树脂组合物(P)构成的树脂层所形成的蚀刻掩模的影响(也称为蚀刻破坏)，还能够在加工基板的表面精度良好地形成凹凸结构。
在(O2)/(CHF3)为上述上限值以下的情况下，对于氧(O2)气体的蚀刻耐性变得适度，由此，利用在蚀刻工艺的初始过程中所实施的O2气体等离子体蚀刻等等离子体蚀刻对基板表面与凹部底面的树脂层进行蚀刻的工序的负荷变小，能够提高生产率。此外，在(O2)/(CHF3)为上述下限值以上的情况下，能够减少由基板加工时的气体引起的对于由本实施方式涉及的树脂组合物(P)构成的树脂层所形成的蚀刻掩模的蚀刻破坏，易于在加工基板表面加工所期望的形状。
(方法1：将树脂组合物(P)以使固化后的厚度成为200nm以上350nm以下的范围的方式涂布于硅晶片上，然后使所得的涂布膜固化。接着，对于所得的固化膜，以10秒、20秒和30秒分别实施O2气体等离子体蚀刻，算出由上述O2气体等离子体蚀刻所导致的上述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)来进行描点，由所得的图表的斜率算出上述O2气体的蚀刻速率(O2)(nm/sec)。同样地，对于所得的固化膜，以30秒、60秒和90秒分别实施CHF3气体等离子体蚀刻，算出由上述CHF3气体等离子体蚀刻所导致的上述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)来进行描点，由所得的图表的斜率算出上述CHF3气体的蚀刻速率(CHF3)(nm/sec)。)
以下，对于构成树脂组合物(P)的各成分进行说明。
＜含氟环状烯烃聚合物(A)＞
本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)为含有氟的环状烯烃聚合物，优选包含下述通式(1)所示的重复结构单元。此外，还能够例示主链具有1,2-降冰片烷骨架等多元环结构的单元。
包含下述通式(1)所示的重复结构单元的含氟环状烯烃聚合物(A)由于主链具有烃结构且侧链具有含氟脂肪族环结构，因此能够在分子间或分子内形成氢键。因此，在树脂组合物(P)包含含有下述通式(1)所示的重复结构单元的含氟环状烯烃聚合物(A)的情况下，能够抑制在表面形成有第1微细凹凸图案102的第1树脂层103的制造工序中的加热、冷却工艺中的树脂层的尺寸变化，此外，从基板剥离时，由于氟原子和/或含氟取代基的效果，能够减小与基板的界面的表面能，因此剥离性良好，结果是能够在第1树脂层103上尺寸精度良好地形成第1微细凹凸图案102。
此外，含氟环状烯烃聚合物(A)通过主链具有烃结构且侧链具有氟或含氟取代基，从而分子内具有比较大的极性。由此，与光固化性化合物(B)的相容性优异。
[化2]
上述通式(1)中，R1～R4中的至少1个为选自氟、含有氟的碳原子数1～10的烷基、含有氟的碳原子数1～10的烷氧基和含有氟的碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团。在R1～R4为不含氟的基团的情况下，R1～R4为选自氢、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基和碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团。R1～R4可以相同也可以不同。R1～R4也可以彼此键合而形成环结构。n表示0～2的整数，优选为0～1的整数，更优选为0。
作为上述通式(1)中的R1～R4，更具体而言，可举出氟；氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、三氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、六氟异丙基、七氟异丙基、六氟-2-甲基异丙基、全氟-2-甲基异丙基、全氟正丁基、全氟正戊基、全氟环戊基等烷基的氢的一部分或全部被氟取代的碳原子数1～10的烷基；氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、三氟乙氧基、五氟乙氧基、七氟丙氧基、六氟异丙氧基、七氟异丙氧基、六氟-2-甲基异丙氧基、全氟-2-甲基异丙氧基、全氟正丁氧基、全氟正戊氧基、全氟环戊氧基等烷氧基的氢的一部分或全部被氟取代的碳原子数1～10的烷氧基；氟甲氧基甲基、二氟甲氧基甲基、三氟甲氧基甲基、三氟乙氧基甲基、五氟乙氧基甲基、七氟丙氧基甲基、六氟异丙氧基甲基、七氟异丙氧基甲基、六氟-2-甲基异丙氧基甲基、全氟-2-甲基异丙氧基甲基、全氟正丁氧基甲基、全氟正戊氧基甲基、全氟环戊氧基甲基等烷氧基烷基的氢的一部分或全部被氟取代的碳原子数2～10的烷氧基烷基等。
此外，R1～R4可以彼此键合而形成环结构，例如，可以形成全氟环烷基、隔着氧的全氟环醚等环。
作为不含氟的其它R1～R4，更具体而言，可举出氢；甲基、乙基、丙基、异丙基、2-甲基异丙基、正丁基、正戊基、环戊基等碳原子数1～10的烷基；甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等碳原子数1～10的烷氧基；甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基、丁氧基甲基、戊氧基甲基等碳原子数2～10的烷氧基烷基等。
其中，作为上述通式(1)的R1～R4，优选为氟；氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、三氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、六氟异丙基、七氟异丙基、六氟-2-甲基异丙基、全氟-2-甲基异丙基、全氟正丁基、全氟正戊基、全氟环戊基等烷基的氢的一部分或全部被氟取代的碳原子数1～10的氟烷基。
本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)可以仅是上述通式(1)所示的重复结构单元，也可以由上述通式(1)的R1～R4的至少1个与其他不同的两种以上的结构单元形成。
进一步，在本实施方式中，作为含有上述通式(1)所示的重复结构单元的含氟环状烯烃聚合物(A)的具体的例子，可举出聚(1-氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-氟-1-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-1-氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1-二氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟乙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟异丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟异丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1,2-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2,2,3,3,3a,6a-八氟环戊基-4,6-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2,2,3,3,4,4,3a,7a-十氟环己基-5,7-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟异丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟叔丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟异丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟异丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟乙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(1-三氟甲基-2,2,3,3,4,4,5,5-八氟环戊基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚((1,1,2-三氟-2-全氟丁基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-氟-1-全氟乙基-2,2-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-全氟丙基-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-己基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-辛基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟庚基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟辛基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟癸基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-全氟戊基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟戊基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(全氟丁基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(全氟己基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲氧基-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-叔丁氧基甲基-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,3,3,3a,6a-六氟呋喃基-3,5-亚环戊基乙烯)等。
进一步，在本实施方式中，作为含有上述通式(1)所示的重复结构单元的含氟环状烯烃聚合物(A)的具体的例子，可举出聚(1-氟-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-氟-1-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-1-氟-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1-二氟-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟乙氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1-双(三氟甲氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(三氟甲氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟丙氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟丙氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟丙氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟异丙氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟异丙氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1,2-双(三氟甲氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟丁氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟异丁氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟叔丁氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟异丁氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟异丁氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲氧基-2-全氟乙氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚((1,1,2-三氟-2-全氟丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲氧基-2-全氟丁氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-氟-1-全氟乙氧基-2,2-双(三氟甲氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-全氟丙氧基-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟己氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟己氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟己氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-己基-2-全氟己氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-辛基-2-全氟己氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟庚氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟辛氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟癸氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-全氟戊氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲氧基-2-全氟丁氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-2-全氟己氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲氧基-2-全氟戊基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(全氟丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(全氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲氧基-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-叔丁氧基甲基-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(2’,2’,2’-三氟乙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(1’,1’,1’-三氟异丙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-(1’,1’,1’-三氟丙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲氧基-2-(2’,2’,2’-三氟乙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-2-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲氧基-2-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-氟-1-(2’,2’,2’-三氟乙氧基)-2,2-双(三氟甲氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-2-三氟甲氧基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-己基-2-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-辛基-2-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,7’,7’,7’-十三氟庚氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,7’,7’,8’,8’,8’-十五氟辛氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,7’,7’,8’,8’,9’,9’,9’-十七氟癸氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-2-(1’,1’,1’-三氟异丙氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲氧基-2-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-3,5-亚环戊基乙烯)等。
进一步，在本实施方式中，作为含有上述通式(1)所示的重复结构单元的含氟环状烯烃聚合物(A)的具体的例子，可举出聚(3-氟-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-氟-3-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-甲基-3-氟-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,3-二氟-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12 ,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-二氟-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟乙基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,3-双(三氟甲基)-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,3,4-三氟-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-双(三氟甲基)-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟丙基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-甲基-4-全氟丙基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-丁基-4-全氟丙基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟异丙基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-甲基-9-全氟异丙基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-二氟-3,4-双(三氟甲基)-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(2,3,3,4,4,5,5,6-八氟-9,11-四环[5.5.1.02,6.08,12]亚十三烷基乙烯)、聚(2,3,3,4,4,5,5,6,6,7-十氟-10,12-四环[6.5.1.02,7.09,13]亚十四烷基乙烯)、聚(3-全氟丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟异丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟叔丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-甲基-4-全氟叔丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-丁基-4-全氟叔丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-二甲基-3-全氟叔丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,3,4-三氟-4-全氟丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-二氟-3-三氟甲基-4-全氟丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-氟-3-全氟乙基-4,4-双(三氟甲基)-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-二氟-3-全氟丙基-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟己基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-甲基-4-全氟己基-7,9-三环[4.3.0.12 ,5]亚癸基乙烯)、聚(3-丁基-4-全氟己基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-己基-4-全氟己基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-辛基-4-全氟己基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟庚基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-全氟癸基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,3,4-三氟-4-全氟戊基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-二氟-3-三氟甲基-4-全氟丁基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,3,4-三氟-3-全氟己基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-二氟-3-三氟甲基-4-全氟戊基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-双(全氟丁基)-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3,4-双(全氟己基)-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-甲氧基-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(3-叔丁氧基甲基-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)、聚(4-氟-5-三氟甲基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-氟-5-三氟甲基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4-二氟-5-三氟甲基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟乙基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09, 13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4-双(三氟甲基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-5-三氟甲基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-双(三氟甲基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟丙基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-全氟丙基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-全氟丙基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-丁基-5-全氟丙基-10,12-五环[6.5.1.02 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,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-己基-5-全氟己基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-辛基-5-全氟己基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟庚基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟辛基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟癸基-10,12-五环[6.5.1.02 ,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-6-全氟戊基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲基-6-全氟丁基-10,12-五环[6.5.1.02 ,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-12-全氟己基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲基-5-全氟戊基-10,12-五环[6.5.1.02 ,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三(三氟甲基)-5-全氟叔丁基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-双(全氟己基)-10,12-五环[6.5.1.02, 7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲氧基-5-三氟甲基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13 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13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-双(三氟甲氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟丙氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-全氟丙氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-丁基-5-全氟丙氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟异丙氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-全氟异丙氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4,5-双(三氟甲氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟丁氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟异丁氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟-叔-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-全氟异丁氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-丁基-5-全氟异丁氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲氧基-5-全氟乙氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚((4,4,5-三氟-5-全氟丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲氧基-5-全氟丁氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-氟-4-全氟乙氧基-5,5-双(三氟甲氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-全氟丙氧基-5-三氟甲氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟己氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09, 13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-全氟己氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-丁基-5-全氟己氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-己基-5-全氟己氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-辛基-5-全氟己氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟庚氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟辛氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-全氟癸氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-全氟戊氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13 ,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲氧基-5-全氟丁氧基-10,12-五环[6.5.1.02, 7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-5-全氟己氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲氧基-5-全氟戊基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-双(全氟丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02 ,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-双(全氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13 ,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲氧基-5-三氟甲氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-叔丁氧基甲基-5-三氟甲氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(2’,2’,2’-三氟乙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09, 13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-丁基-5-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(1’,1’,1’-三氟异丙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-(1’,1’,1’-三氟异丙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-丁基-5-(1’,1’,1’-三氟异丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲氧基-5-(2’,2’,2’-三氟乙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-5-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲氧基-4-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-氟-4-(2’,2’,2’-三氟乙氧基)-5,5-双(三氟甲氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-(2’,2’,3’,3’,3’-五氟丙氧基)-5-三氟甲氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09 ,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-甲基-5-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-丁基-5-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02 ,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-己基-5-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-辛基-5-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,7’,7’,7’-十三氟庚氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,7’,7’,8’,8’,8’-十五氟辛氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,7’,7’,8’,8’,9’,9’,9’-十七氟癸氧基-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-5-(1’,1’,1’-三氟异丙氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-二氟-4-三氟甲氧基-5-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,4,5-三氟-(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-双(2’,2’,3’,3’,4’,4’,4’-七氟丁氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)、聚(4,5-双(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’,6’,6’,6’-十一氟己氧基)-10,12-五环[6.5.1.02,7.09,13.13,6]亚十五烷基乙烯)等。
其中，作为本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)，优选为聚(1-氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-氟-1-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-1-氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1-二氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟乙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟异丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟异丙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1,2-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2,2,3,3,3a,6a-八氟环戊基-4,6-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2,2,3,3,4,4,3a,7a-十氟环己基-5,7-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟异丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟叔丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟异丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟异丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟乙基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-(1-三氟甲基-2,2,3,3,4,4,5,5-八氟环戊基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚((1,1,2-三氟-2-全氟丁基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-氟-1-全氟乙基-2,2-双(三氟甲基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-全氟丙基-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-丁基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-己基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-辛基-2-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟庚基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟辛基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-全氟癸基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-全氟戊基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟丁基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,2-三氟-全氟己基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-全氟戊基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(全氟丁基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,2-双(全氟己基)-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-甲氧基-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1-叔丁氧基甲基-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)、聚(1,1,3,3,3a,6a-六氟呋喃基-3,5-亚环戊基乙烯)等。
此外，只要在不损害本实施方式的效果的范围内，本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)除了上述通式(1)所示的重复结构单元以外，还可以包含其它重复结构单元，将本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)的整体设为100质量％时，上述通式(1)所示的重复结构单元的含量通常为30～100质量％，优选为70～100质量％，进一步优选为90～100质量％。
本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)的通过差示扫描量热分析得到的玻璃化转变温度优选为30～250℃，更优选为50～200℃，进一步优选为60～160℃。如果玻璃化转变温度为上述下限值以上，则能够以高精度地维持将模具脱模之后所形成的微细凹凸图案形状。此外，如果玻璃化转变温度为上述上限值以下，则由于易于熔融流动，因此能够降低加热处理温度，能够抑制树脂层的黄变或支撑体的劣化。
本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)中，例如在试样浓度3.0～9.0mg/ml的情况下通过凝胶渗透色谱(GPC)测定得到的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)优选为5,000～1,000,000，更优选为10,000～300,000。如果重均分子量(Mw)在上述范围内，则含氟环状烯烃聚合物(A)的溶剂溶解性、加热压接成型时的流动性良好。
此外，为了形成厚度均匀的树脂层或获得良好的加热成型性，含氟环状烯烃聚合物(A)的分子量分布优选宽。因此，作为重均分子量(Mw)与数均分子量(Mn)之比的分子量分布(Mw/Mn)优选为1.0～5.0，更优选为1.2～5.0，进一步优选为1.4～3.0。
本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)例如能够如下制造：利用开环易位聚合催化剂将下述通式(2)所示的含氟环状烯烃单体聚合，将所得聚合物的主链的烯烃部进行氢化。更具体而言，本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)例如能够按照WO2011/024421A1的第0075～0099段所记载的方法来制造。
[化3]
上述通式(2)中，R1～R4和n与上述通式(1)含义相同。
此外，作为制造本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)时所使用的单体，可以使用1种通式(2)所示的含氟环状烯烃单体，也可以使用2种以上。
此外，本实施方式涉及的含氟环状烯烃聚合物(A)的烯烃部的氢化率优选为50摩尔％以上，更优选为70摩尔％以上100摩尔％以下，进一步优选为90摩尔％以上100摩尔％以下。如果氢化率为上述下限值以上，则能够抑制烯烃部的氧化、光的吸收劣化，能够使耐热性或耐候性变得更良好。
进一步，能够更均匀地进行使本实施方式的光固化性化合物(B)光固化时的从大气表面至与基板的界面的透光，能够更均匀地使光固化性化合物(B)固化而不造成光固化的不匀。
＜光固化性化合物(B)＞
作为光固化性化合物(B)，可举出具有反应性双键基团的化合物、能够阳离子聚合的开环聚合性化合物等，优选为能够阳离子聚合的开环聚合性化合物。这些化合物可以在1分子中具有1个反应性基团，也可以具有多个反应性基团，优选使用具有2个以上反应性基团的化合物。
此外，可以将反应性基团数不同的化合物以任意的比例混合来使用，也可以将具有反应性双键基团的化合物与能够阳离子聚合的开环聚合性化合物以任意的比例混合来使用。
由此，能够在所得的树脂层的内部和表面高效地形成三维的网状结构，其结果是能够获得具有高表面硬度的树脂层。此外，通过选择光固化性化合物(B)的种类、组成比，也能够将蚀刻工艺中的蚀刻性调整为与加工基板对应的特性。
作为光固化性化合物(B)中，具有反应性双键基团的化合物，可举出例如，氟二烯(CF2＝CFOCF2CF2CF＝CF2、CF2＝CFOCF2CF(CF3)CF＝CF2、CF2＝CFCF2C(OH)(CF3)CH2CH＝CH2、CF2＝CFCF2C(OH)(CF3)CH＝CH2、CF2＝CFCF2C(CF3)(OCH2OCH3)CH2CH＝CH2、CF2＝CFCH2C(C(CF3)2OH)(CF3)CH2CH＝CH2等)等烯烃类；降冰片烯、降冰片二烯等环状烯烃类；环己基甲基乙烯基醚、异丁基乙烯基醚、环己基乙烯基醚、乙基乙烯基醚等烷基乙烯基醚类；乙酸乙烯酯等乙烯基酯类；(甲基)丙烯酸、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸烯丙酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、丙烯酸乙氧基乙酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸四氢化糠基酯、二甘醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、聚氧乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、4-羟基丁基乙烯基醚、丙烯酸N,N-二乙基氨基乙酯、丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯等(甲基)丙烯酸及其衍生物或它们的含氟丙烯酸酯类等。
进一步优选可举出下述通式(5)、(6)、(7)或(8)所示那样的3官能以上的丙烯酸酯。其中，可以单独使用，也可以2种以上组合使用。通过使用3官能以上的具有反应性双键基团的(甲基)丙烯酸酯单体，从而在光照射固化后能够高效地形成3维的网状结构。
[化4]
上述通式(5)中，R12表示甲代亚苯基、二苯基甲烷、六亚甲基、降冰片烷二亚甲基、二亚环己基甲烷、三甲基亚环己基、环己烷二亚甲基、N,N’,N”-三(六亚甲基)-异氰脲酸酯、N,N’-二(六亚甲基)-脲、N,N,N’-三(六亚甲基)-脲、N,N,N’N’-四(六亚甲基)-脲、或亚二甲苯基。R9、R10和R11各自独立地表示H或CH3。W1和W2各自独立地表示H、CH3、OH或V1。X1表示2～4的整数。Y1表示0～2的整数，Y2表示0～5的整数。
[化5]
上述通式(6)中，R16表示甲代亚苯基、二苯基甲烷、六亚甲基、降冰片烷二亚甲基、二亚环己基甲烷、三甲基亚环己基、环己烷二亚甲基、N,N’,N”-三(六亚甲基)-异氰脲酸酯、N,N’-二(六亚甲基)-脲、N,N,N’-三(六亚甲基)-脲、N,N,N’N’-四(六亚甲基)-脲、或亚二甲苯基。R13、R14和R15各自独立地表示H或CH3。W3和W4各自独立地表示H、CH3、OH或V2。X2表示2～4的整数。Y3表示0～2的整数，Y4表示0～5的整数。
[化6]
上述通式(7)中，W5表示H、CH3、OH或V3。R17、R18和R19各自独立地表示H或CH3，Y5表示0～20的整数。
[化7]
上述通式(8)中，W6和W7各自独立地表示H、CH3、OH或V4。R20、R21和R22各自独立地表示H或CH3，Y6表示0～3的整数。
此外，作为光固化性化合物(B)中，能够阳离子聚合的开环聚合性化合物，可举出例如，1,7-辛二烯二环氧化物、1-环氧癸烷、环己烯环氧化物、二环戊二烯氧化物、柠檬烯二氧化物、4-乙烯基环己烯二氧化物、3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷甲酸酯、二(3,4-环氧环己基)己二酸酯、(3,4-环氧环己基)甲基醇、(3,4-环氧-6-甲基环己基)甲基-3,4-环氧-6-甲基环己烷甲酸酯、亚乙基1,2-二(3,4-环氧环己烷甲酸)酯、(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、苯基缩水甘油醚、二环己基-3,3’-二环氧化物、3’,4’-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷甲酸酯、柠檬烯二氧化物、环己烯氧化物、α-蒎烯氧化物、双(3,4-环氧环己基甲基)己二酸酯、双酚A型环氧树脂、卤化双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、邻/间/对甲酚酚醛清漆型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、多元醇的聚缩水甘油醚、3,4-环氧环己烯基甲基-3’,4’-环氧环己烯甲酸酯这样的脂环式环氧树脂或氢化双酚A的缩水甘油醚等环氧化合物等环氧化合物类；作为具有1个氧杂环丁烷基的化合物的3-甲基-3-(丁氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(戊氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(辛氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(癸氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(十二烷氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(苯氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(丁氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(戊氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(辛氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(癸氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(十二烷氧基甲基)氧杂环丁烷、3-(环己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(环己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(环己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧杂环丁烷、3,3-二甲基氧杂环丁烷、3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-甲基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-苯氧基甲基氧杂环丁烷、3-正丙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-异丙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-正丁基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-异丁基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-仲丁基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-叔丁基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己基)氧杂环丁烷等；作为具有2个以上氧杂环丁烷基的化合物的双(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲基)醚、1,2-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)]乙烷、1,3-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)]丙烷、1,3-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)]-2,2-二甲基-丙烷、1,4-双(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)丁烷、1,6-双(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)己烷、1,4-双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]苯、1,3-双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]苯、1,4-双{[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}苯、1,4-双{[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}环己烷、4,4’-双{[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}联苯、4,4’-双{[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}二环己烷、2,3-双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]二环[2.2.1]庚烷、2,5-双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]二环[2.2.1]庚烷、2,6-双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]二环[2.2.1]庚烷、1,4-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]苯、1,3-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]苯、1,4-双{[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}苯、1,4-双{[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}环己烷、4,4’-双{[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}联苯、4,4’-双{[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]甲基}二环己烷、2,3-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]二环[2.2.1]庚烷、2,5-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]二环[2.2.1]庚烷、2,6-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲氧基]二环[2.2.1]庚烷等氧杂环丁烷化合物类。此外，可以使用上述光固化性化合物(B)中的碳-氢键置换成碳-氟键的形态的各种氟系环氧化合物、氟系氧杂环丁烷化合物。
此外，这些光固化性化合物(B)可以单独使用，也可以将2种以上组合使用。
作为能够阳离子聚合的开环聚合性化合物，可举出例如，下述通式(9)所示那样的3官能以上的环氧化合物等。其中，可以单独使用，也可以2种以上组合使用。通过使用3官能以上的具有环氧基的环氧单体，从而在光照射固化后，能够高效地形成3维的网状结构。
[化8]
上述通式(9)中，W8表示H、碳原子数1～3的烷基、OH或V5，Y7表示1～20的整数。
本实施方式涉及的树脂组合物(P)中，树脂组合物(P)中的含氟环状烯烃聚合物(A)的含量与光固化性化合物(B)的含量的质量比((A)/(B))优选为1/99以上99/1以下，更优选为1/99以上95/5以下，进一步优选为5/95以上95/5以下。
此外，例如，特别是在使用后述喷墨法的情况下，上述(A)/(B)优选为1/99以上80/20以下的范围，更优选为1/99以上70/30以下的范围。
＜光固化引发剂(C)＞
作为光固化引发剂(C)，可举出通过光的照射而生成自由基的光自由基引发剂、通过光的照射而生成阳离子的光阳离子引发剂等。相对于光固化性化合物(B)100质量份，光固化引发剂(C)的使用量优选为0.05质量份以上，更优选为0.1～10质量份。
作为光固化引发剂(C)中，通过光的照射而生成自由基的光自由基引发剂，可举出例如，苯乙酮、对叔丁基三氯苯乙酮、氯苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、羟基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2’-苯基苯乙酮、2-氨基苯乙酮、二烷基氨基苯乙酮等苯乙酮类；苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、1-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮等苯偶姻类；二苯甲酮、苯甲酰苯甲酸、苯甲酰苯甲酸甲酯、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、羟基丙基二苯甲酮、丙烯酸二苯甲酮、4,4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮等二苯甲酮类；噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、二乙基噻吨酮、二甲基噻吨酮等噻吨酮类；全氟(过氧化叔丁基)、全氟过氧化苯甲酰等氟系过氧化物类；α-酰基肟酯、苄基-(邻乙氧基羰基)-α-单肟、酰基氧化膦、乙醛酸酯(glyoxy ester)、3-香豆素酮、2-乙基蒽醌、樟脑醌、硫化四甲基秋兰姆、偶氮二异丁腈、苯甲酰过氧化物、二烷基过氧化物、过氧化新戊酸叔丁酯等。
作为进一步优选使用的光自由基引发剂，可举出例如，Irgacure 290(汽巴精化公司制)、Irgacure 651(汽巴精化公司制)、Irgacure 184(汽巴精化公司制)、Darocure 1173(汽巴精化公司制)、二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、Irgacure 500(汽巴精化公司制)、Irgacure 2959(汽巴精化公司制)、Irgacure 127(汽巴精化公司制)、Irgacure 907(汽巴精化公司制)、Irgacure 369(汽巴精化公司制)、Irgacure 1300(汽巴精化公司制)、Irgacure 819(汽巴精化公司制)、Irgacure 1800(汽巴精化公司制)、Darocure TPO(汽巴精化公司制)、Darocure 4265(汽巴精化公司制)、Irgacure OXE01(汽巴精化公司制)、Irgacure OXE02(汽巴精化公司制))、Esacure KT55(宁柏迪公司制)、Esacure KIP150(宁柏迪公司制)、Esacure KIP100F(宁柏迪公司制)、Esacure KT37(宁柏迪公司制)、EsacureKTO46(宁柏迪公司制)、Esacure1001M(宁柏迪公司制)、Esacure KIP/EM(宁柏迪公司制)、Esacure DP250(宁柏迪公司制)、Esacure KB1(宁柏迪公司制)、2,4-二乙基噻吨酮等。其中，作为进一步优选使用的光自由基聚合引发剂，可举出Irgacure 290(汽巴精化公司制)、Irgacure 184(汽巴精化公司制)、Darocure 1173(汽巴精化公司制)、Irgacure500(汽巴精化公司制)、Irgacure 819(汽巴精化公司制)、Darocure TPO(汽巴精化公司制)、EsacureKIP100F(宁柏迪公司制)、Esacure KT37(宁柏迪公司制)和Esacure KTO46(宁柏迪公司制)。此外，这些光自由基引发剂可以单独使用，也可以2种以上组合使用。
作为光固化引发剂(C)中，通过光的照射而生成阳离子的光阳离子引发剂，只要是通过光照射而使得上述能够阳离子聚合的开环聚合性化合物类开始进行阳离子聚合的化合物，就没有特别限定，例如，优选为阳离子和与/>阳离子成对的阴离子的/>盐那样进行光反应而放出路易斯酸的化合物。
作为阳离子，可举出例如，二苯基碘/>4-甲氧基二苯基碘/>双(4-甲基苯基)碘/>双(4-叔丁基苯基)碘/>双(十二烷基苯基)碘/>三苯基锍、二苯基-4-硫代苯氧基苯基锍、双〔4-(二苯基锍基)-苯基〕硫醚、双〔4-(二(4-(2-羟基乙基)苯基)锍基)-苯基〕硫醚、η5-2,4-(环戊二烯基)〔1,2,3,4,5,6-η-(甲基乙基)苯〕-铁(1+)等。此外，除了/>阳离子以外，可举出高氯酸根离子、三氟甲烷磺酸根离子、甲苯磺酸根离子、三硝基甲苯磺酸根离子等。此外，这些光阳离子引发剂可以单独使用，也可以2种以上组合使用。
另一方面，作为阴离子，可举出例如，四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟锑酸根、六氟砷酸根、六氯锑酸根、四(氟苯基)硼酸根、四(二氟苯基)硼酸根、四(三氟苯基)硼酸根、四(四氟苯基)硼酸根、四(五氟苯基)硼酸根、四(全氟苯基)硼酸根、四(三氟甲基苯基)硼酸根、四(二(三氟甲基)苯基)硼酸根等。此外，这些光阳离子引发剂可以单独使用，也可以2种以上组合使用。
作为进一步优选使用的光阳离子引发剂的具体例，可举出例如，Irgacure250(汽巴精化公司制)、Irgacure 784(汽巴精化公司制)、Esacure 1064(宁柏迪公司制)、CYRAUREUVI6990(联合碳化物日本公司制)、Adeka Optomer SP-172(艾迪科公司制)、AdekaOptomer SP-170(艾迪科公司制)、Adeka Optomer SP-152(艾迪科公司制)、Adeka OptomerSP-150(艾迪科公司制)、CPI-210S(San-Apro公司制)、CPI-200K(San-Apro公司制)、CPI-310B(San-Apro公司制)、CPI-100P(San-Apro公司制)等。此外，这些光阳离子引发剂可以单独使用，也可以2种以上组合使用。
光固化性化合物(B)和光固化引发剂(C)能够作为含有它们的光固化性组合物来使用。光固化性组合物例如可以将光固化引发剂(C)溶解于上述光固化性化合物(B)来获得，也可以将光固化性化合物(B)与光固化引发剂(C)一起溶解于有机溶剂来获得。进一步，也可以根据需要包含例如，防老剂、流平剂、润湿性改良剂、表面活性剂、增塑剂等改性剂、紫外线吸收剂、防腐剂、抗菌剂等稳定剂、光敏剂、硅烷偶联剂等其它公知的成分作为第3成分。
作为用于调制光固化性组合物的有机溶剂，没有特别限制，可举出例如，间二三氟甲苯、三氟甲苯、氟苯、二氟苯、六氟苯、三氟甲基苯、双(三氟甲基)苯、间二甲苯六氟化物等含氟芳香族烃；全氟己烷、全氟辛烷等含氟脂肪族烃；全氟环十氢化萘等含氟脂肪族环状烃；全氟-2-丁基四氢呋喃等含氟醚类；氯仿、氯苯、三氯苯等卤代烃；四氢呋喃、二丁基醚、1,2-二甲氧基乙烷、二烷、丙二醇单甲基醚、二丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯、环己醇乙酸酯、二丙二醇二甲基醚、二丙二醇甲基正丙基醚、二丙二醇甲基醚乙酸酯、1,4-丁二醇乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、1,6-己二醇二乙酸酯、乙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二甘醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇单丁基醚乙酸酯、三醋精等醚类；乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯等酯类；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；甲醇、乙醇、异丙醇、2-甲氧基乙醇、3-甲氧基丙醇、丙二醇单甲基醚、3-甲氧基丁醇、1,3-丁二醇、丙二醇正丙基醚、丙二醇正丁基醚、二丙二醇甲基醚、二甘醇单乙基醚、二丙二醇正丙基醚、二丙二醇正丁基醚、三丙二醇甲基醚、三丙二醇正丁基醚等醇类等。能够考虑溶解性、制膜性而从其中选择，可以与溶解含氟环状烯烃聚合物(A)的有机溶剂相同也可以不同。
就本实施方式涉及的树脂组合物(P)而言，在包含含有上述通式(1)所示的重复结构单元的含氟环状烯烃聚合物(A)、光固化性化合物(B)和光固化引发剂(C)的情况下，由于使用主链具有烃结构且侧链具有含氟脂肪族环结构的特定的含氟环状烯烃聚合物(A)，因此能够在分子间或分子内形成氢键。进一步，由于使用光固化性化合物(B)和光固化引发剂(C)，因此在照射光而使其固化之后，能够在树脂层的内部和表面形成三维的网状结构。通过这些作用，能够抑制表面形成有第1微细凹凸图案102的第1树脂层103的制造工序的加热、冷却、光照射固化的工艺中的树脂层的尺寸变化，同时能够使树脂层的硬度变得更良好。此外，通过选择光固化性化合物(B)的种类、组成比，还能够将蚀刻工艺中的蚀刻性调整为与加工基板对应的特性。
在本实施方式涉及的树脂组合物(P)为清漆状且包含有机溶剂的情况下，树脂组合物(P)的固体成分浓度{质量(％)＝固体成分的质量/(固体成分的质量+有机溶剂的质量)×100}优选为1质量％以上99质量％以下，更优选为1质量％以上80质量％以下，进一步优选为1质量％以上70质量％以下，可根据涂布方法、所期望的膜厚等来适当地选择。
这里，所谓固体成分，是指除有机溶剂以外的成分，例如为含氟环状烯烃聚合物(A)、光固化性化合物(B)、光固化引发剂(C)、其它添加剂等。
通过将树脂组合物(P)的固体成分浓度调整至上述范围内，从而能够制作涂膜形成时的膜厚均匀性良好且具有所期望的膜厚的涂覆膜。另外，在光固化性化合物(B)溶解含氟环状烯烃聚合物(A)，并能够以所期望的涂覆方法和膜厚形成良好的涂覆膜的情况下，并非一定需要使用有机溶剂。
＜树脂组合物(P)的调制方法＞
本实施方式涉及的树脂组合物(P)例如能够如下获得：将含氟环状烯烃聚合物(A)预先调制为任意浓度的溶液，在所得的溶液中添加光固化性组合物，并均匀地混合。
此外，能够将液态的光固化性化合物(B)作为溶剂来代用，而不使用有机溶剂来调制树脂组合物(P)。
调制树脂组合物(P)时所使用的有机溶剂可以使用与调制上述光固化性组合物时所使用的有机溶剂同样的有机溶剂，没有特别限制。
此外，树脂组合物(P)与上述光固化性组合物同样地，也可以根据需要包含例如，防老剂、流平剂、润湿性改良剂、表面活性剂、增塑剂等改性剂、紫外线吸收剂、防腐剂、抗菌剂等稳定剂、光敏剂、硅烷偶联剂等其它公知的成分作为第3成分。
2.带有微细凹凸图案的基板的制造方法
接下来，对于本实施方式涉及的带有微细凹凸图案的基板101a的制造方法的各工序进行说明。
(工序(a))
首先，如图1的(a)所示那样，准备层叠体100，所述层叠体100具备基板101、以及设置于基板101上且表面形成有第1微细凹凸图案102的第1树脂层103。
这样的层叠体100例如能够如图2所示那样通过下述工序(a1)来制作：通过使具有第3微细凹凸图案107的模具108压接于设置于基板101上的包含含氟环状烯烃聚合物(A)的第1树脂层106，从而在第1树脂层106的表面形成与第3微细凹凸图案107对应的第1微细凹凸图案102，获得形成有第1微细凹凸图案102的第1树脂层103。
以下，对于工序(a1)进行说明。
作为基板101，没有特别限定，能够使用例如，石英基板、硅基板、镍基板、铝基板和蓝宝石基板等。
此外，基板101的形状也不受特别限定，可举出例如，板状、圆盘状、卷状等。
作为形成设置于基板101上的包含含氟环状烯烃聚合物(A)的第1树脂层106的方法，可举出例如，使用平面涂布法、旋转涂布法、浸渍涂布法、模涂法、喷涂法、棒涂法、辊涂法、帘式流涂法、狭缝涂布法、喷墨涂布法等方法，在基板101上涂布树脂组合物(P)来形成第1树脂层106的方法。
作为形成第1树脂层106的方法，从上述中，可以考虑基板的形状、第1树脂层106的厚度、生产率等来适宜选择。
其中，对于特别是在薄膜涂覆的领域中最近在产业界内也开始普及的最新的涂覆法即喷墨涂布进行说明。
以往，在薄膜涂覆的领域中，特别是在膜厚小于1μm的情况下，在半导体、显示器、电路形成等领域中广泛利用通过旋转涂布进行的涂覆法。然而，该方式是通过基板的圆周运动来形成涂膜，因此存在如下问题：例如在涂覆于长方形、正方形等四方基板上时会成为液体在角落处鼓起的形状等面内的膜厚均匀性差，此外，涂布液的利用率非常差等。另一方面，近年来以显示器、电路形成领域为中心开始普及的喷墨涂布特别是在膜厚小于1μm的薄膜涂覆方面，由于能够均匀地形成涂布膜且容易实现大面积化，而且涂布液的利用率高等优点，因此作为薄膜涂覆的新方式而开始应用于广泛的领域。
所谓喷墨涂布，是指以直接喷出油墨(与涂布液相同含义)的方式在基板上形成膜、电路的涂覆法，能够进行间歇运行且理论上能够以接近于100％的利用效率来使用涂布液。此外，通常，由于涂布液从以几个～1000个左右的孔作为一组而配置的喷头喷出，因此仅将喷头沿纵横方向排列就能够容易地实施从小面积至大面积的适于基板面积的涂覆。
实施喷墨涂布时，重要的一点在于从一个孔喷出尺寸(也称为粒。)一致的液滴。对于广泛应用于液体的喷出法的压电方式而言，通常，对于配置于保持有数pL～数10pL的涂布液的微细管的压电元件施加电压使其变形，喷出一定量的液滴。此时，由于液滴的形状以颗粒整齐的状态喷出，从而能够形成高膜厚精度的涂膜。作为在实现以颗粒整齐的状态喷出时对涂布液所要求的指标，应用表面张力(mN/m)和粘度(mPas)。尤其表面张力是最重要的参数，通过使用调整成优选为10mN/m以上60mN/m以下，更优选为20mN/m以上50mN/m以下，进一步优选为25mN/m以上45mN/m以下的范围的涂布液(树脂组合物(P))，并且使用将涂布液(树脂组合物(P))的粘度(mPas)调整成优选为1mPas以上30mPas以下，更优选为1mPas以上20mPas以下，进一步优选为1mPas以上15mPas以下的范围的涂布液(树脂组合物(P))，从而存在能够将所喷出的液滴的形状保持为接近于球形的倾向。在表面张力(mN/m)和粘度(mPas)处于上述范围内的情况下，能够将液滴更良好地喷出，或者能够抑制喷出时成为拉丝状态、所喷出的液滴破裂而不均匀地飞散等，从而易于使膜厚的面内均匀性变得更良好。
以调整表面张力、粘度为目的，在不损害本发明的效果的范围内，可以将各种流平剂、溶剂、甚至光固化性化合物添加至本实施方式涉及的树脂组合物(P)中，也可以并用2种以上。关于其中的溶剂，可以使用与调制上述光固化性组合物时所使用的有机溶剂同样的溶剂，优选使用丙二醇单甲基醚、二丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯、环己醇乙酸酯、二丙二醇二甲基醚、二丙二醇甲基正丙基醚、二丙二醇甲基醚乙酸酯、1,4-丁二醇乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、1,6-己二醇二乙酸酯、乙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二甘醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇单丁基醚乙酸酯、三醋精等在大气压下的沸点为140℃以上的溶剂。由此，一边将涂布液的表面张力调整为上述范围一边防止涂布液的挥发，以提高膜厚的面内均匀性，存在有利于间歇运行等喷墨涂布机特有的多种多样的应用的倾向。
具有第3微细凹凸图案107的模具108的凸部和凹部的形状没有特别限定，可举出例如，圆顶状、四方柱状、圆柱状、棱柱状、四方锥状、三角锥状、多面体状、半球状等。此外凸部和凹部的截面形状没有特别限定，可举出例如，截面四边形、截面三角形、截面半圆形等。
第1微细凹凸图案102和第3微细凹凸图案107的凸部和/或凹部的宽度没有特别限定，例如为10nm～50μm，优选为20nm～10μm。此外，凹部的深度和/或凸部的高度没有特别限定，例如为10nm～50μm，优选为50nm～10μm。进一步，凸部的宽度与凸部的高度之比即长宽比优选为0.1～500，更优选为0.5～20。
作为具有第3微细凹凸图案107的模具108的材质，可举出例如，镍、铁、不锈钢、锗、钛、硅等金属材料；玻璃、石英、氧化铝等无机材料；聚酰亚胺、聚酰胺、聚酯、聚碳酸酯、聚苯醚、聚苯硫醚、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚芳酯、环氧树脂、有机硅树脂等树脂材料；金刚石、石墨等碳材料等。
作为使具有第3微细凹凸图案107的模具108压接于设置于基板101上的包含含氟环状烯烃聚合物(A)的第1树脂层106的方法，没有特别限制，可举出例如，用模具108的形成有第3微细凹凸图案107的面来按压第1树脂层106的表面的方法。
模具108按压时的压力没有特别限定，例如，优选为10MPa以下，更优选为5MPa以下，特别优选为1MPa以下。模具108按压时的压力根据模具108所期望的图案形状、长宽比，以及模具108的材质来适当地选择。
通过使模具108压接于设置于基板101上的包含含氟环状烯烃聚合物(A)的第1树脂层106，从而位于模具108的凸部处的第1树脂层106被推到模具108的凹部侧，从而模具108的第3微细凹凸图案107被转印至第1树脂层106的表面。
模具108的第3微细凹凸图案107例如，能够通过光刻法、电子射线描绘法等来形成。或者，根据使用的形态，也可以利用形成有使用本实施方式涉及的树脂组合物(P)而获得的凹凸结构的膜或片作为模具108。
这里，在树脂组合物(P)进一步包含光固化性化合物(B)和光固化引发剂(C)的情况下，如图3所示那样，能够进一步包含下述工序：工序(a2)，在第1树脂层103的表面形成与第3微细凹凸图案107对应的第1微细凹凸图案102之后，通过照射光，从而使第1树脂层103固化；工序(a3)，从固化得到的第1树脂层103剥离模具108。
这里，作为所使用的光，只要是使第1树脂层103固化的光，就没有特别限定，可举出例如，紫外线、可见光线、红外线等。以促进固化为目的，可以并用加热来使其固化，也可以在光固化之后进行加热。加热的温度优选为室温(通常是指25℃。)以上200℃以下，更优选为室温以上150℃以下。加热的温度考虑加工基板(基板101)、第1树脂层103以及模具108的耐热性和生产率来适当地选择。
作为照射光，只要是通过对于光固化引发剂(C)照射光而能够赋予引起自由基反应或离子反应的能量的光，就不受特别限定。作为该光源，能够使用波长400nm以下的光线，例如，低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯和金属卤化物灯、i射线、G射线、KrF受激准分子激光、ArF受激准分子激光。
对于第1树脂层103的累计光量没有特别限定，能够设定为例如3～3000mJ/cm2。
(工序(b))
接着，如图1的(b)所示那样，将第1树脂层103作为掩模，对第1微细凹凸图案102的表面进行蚀刻，从而在基板101的表面104形成与第1微细凹凸图案102对应的第2微细凹凸图案105。
首先，在构成第1微细凹凸图案102的凹部102a的下方残留有第1树脂层103的情况下，除去存在于构成第1微细凹凸图案102的凹部102a的下方的第1树脂层103，使位于构成第1微细凹凸图案102的凹部102a的下方的基板101的表面104露出。
这里，作为除去存在于凹部102a的下方的第1树脂层103的方法，没有特别限定，能够使用以往公知的方法，例如，能够利用使用了蚀刻液的湿蚀刻、使用了反应性离子气体、等离子体气体的干蚀刻等蚀刻处理。
如上述那样，本实施方式涉及的树脂组合物(P)包含具有特定的结构的聚合物，因此例如，在蚀刻工艺的初始过程中实施的O2气体等离子体蚀刻中，蚀刻速率相对于蚀刻时间的变动小。其结果是在O2气体等离子体蚀刻时，有时显示出“容易控制形状”、“能够扩大工艺窗口”等优势。在制造微细的结构的基板的情况下、或在大量生产等方法中，能够有效地利用该性质。
接着，对位于构成第1微细凹凸图案102的凹部102a的下方的基板101的表面104进行蚀刻。
基板101的蚀刻方法没有特别限定，能够通过例如使用了蚀刻液的湿蚀刻、使用了蚀刻气体的干蚀刻来进行。
这里，作为蚀刻液，可根据基板101的材质来适当选择，例如在使用酸性水溶液的情况下，能够使用氟化氢、硝酸水溶液等，在使用碱性水溶液的情况下，能够使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠、氨水溶液等。在这些酸性水溶液或碱性水溶液中，也能够适量添加例如甲醇、乙醇等醇类等水溶性有机溶剂、表面活性剂。进一步也能够使用含有有机溶剂的蚀刻液。作为该有机溶剂，可举出例如，酯类、酮类、醚类、醇类、酰胺类、烃类等。
对于上述湿蚀刻而言，通过蚀刻后进行洗涤、干燥，从而形成预定的凹凸图案。
上述干蚀刻所使用的蚀刻气体根据基板101的材质来适当选择，能够使用例如O2、CO、CO2等包含氧原子的气体；He、N2、Ar等非活性气体；Cl2、BCl3等氯系气体；CHF3、CF4等氟系气体；H2、NH3的气体等。作为蚀刻气体，可以单独使用其中的1种，也可以将2种以上同时使用或在不同的时机使用。进一步，从生产率的观点考虑，可以将蚀刻室内加热而实施干蚀刻工艺。本实施方式涉及的树脂组合物(P)特别是对于干蚀刻的耐性良好。
(工序(c))
接着，可以根据需要，如图1的(c)所示那样，进一步进行除去位于构成第2微细凹凸图案105的凸部105a的上方的第1树脂层103的工序(c)。
作为除去第1树脂层103的方法，没有特别限定，例如，能够利用剥离液进行洗涤处理、利用蚀刻气体进行干蚀刻来除去第1树脂层103。
由以上可知，根据本实施方式涉及的带有微细凹凸图案的基板101a的制造方法，能够获得微细凹凸图案的尺寸精度优异的基板。
本实施方式涉及的带有微细凹凸图案的基板101a的制造方法的生产率优异，并且所得的带有微细凹凸图案的基板101a的微细凹凸图案的加工尺寸、精度优异。
实施例
以下，参照实施例来详细地说明本实施方式。另外，本实施方式并不限定于这些实施例的记载。另外，实施例中合成的聚合物的评价方法、纳米压印成型方法、微细凹凸图案的观察方法和各种气体蚀刻方法记载如下。
[重均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)]
在下述条件下使用凝胶渗透色谱(GPC)，通过聚苯乙烯标准品来校正分子量以测定溶解于四氢呋喃(THF)或三氟甲基甲苯(TFT)中的聚合物的重均分子量(Mw)和数均分子量(Mn)。
检测器：日本分光公司制RI-2031和875-UV或Viscotec公司制Model270，串联连接柱：Shodex K-806M，804，803，802.5，柱温度：40℃，流量：1.0ml/分钟，试样浓度：3.0～9.0mg/ml。
[含氟环状烯烃聚合物(A)的氢化率]
将进行了氢化反应的开环易位聚合物的粉末溶解于氘代氯仿、或氘代四氢呋喃、或六氟苯与氘代氯仿的混合溶剂中，使用270MHz-1H-NMR光谱，由来源于δ＝4.5～7.0ppm的键合于主链的双键碳上的氢的吸收光谱的积分值来算出氢化率。
[玻璃化转变温度]
使用岛津制作所公司制DSC-50，将测定试样在氮气气氛下，以10℃/分钟的升温速度进行加热并测定。
[表面张力的测定]
使用协和界面科学公司制DY-300，在作为测定室的直径6cm的培养皿中，称量16g的样品，通过威廉米(Wilhelmy)法对同一样品实施3次测定，将平均值设为表面张力(mN/m)。
[粘度张力的测定]
使用布鲁克菲尔德公司制锥式B型粘度计，在恒温于23～25℃的试样台上称量2mL的样品，使直径75mm的锥与其接触，一边在10～1000/s的范围内阶段性地提高剪切速度一边测定粘度，基于测定结果的图表，将相对于剪切速度显示稳定值的区域的粘度的平均值设为粘度(mPas)。
[紫外线固化]
使用SCIVAX公司制纳米压印装置X-100U，将高亮度LED设为光源，照射波长365nm的紫外线，使光固化性树脂组合物固化。
[微细凹凸图案的观察]
对于转印有微细凹凸图案的膜状的转印体的线与间隙以及截面的观察、膜厚测定，使用了日本分光公司制的扫描型电子显微镜JSM-6701F(以下，表述为SEM。)。线与间隙的宽度是从SEM的截面照片中任意地选择3处图案，由将高度的1/2处设为测量位置而分别测量线与间隙所得到的平均值来算出。
[压印所使用的模具]
使用图案形状为线与间隙的石英模具，对于模具尺寸，将凸部的宽度表示为L1，将凸与凸的等间隔距离表示为L2，将凸部的高度表示为L3，对于模具A的各个尺寸，将具有L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm的图案的部分用于转印性评价。
[等离子体蚀刻特性评价]
作为蚀刻气体，使用了O2、Cl2、Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)、CF4、CHF3的5种。
使用ULVAC公司制RIH1515Z并行平板型等离子体处理装置。首先，在室内放入样品，将室内减压至1Pa以下。接着，向室内以30sccm分别导入各蚀刻气体，将室内的压力保持于7Pa之后，施加13.56MHz的高频电力进行等离子体放电，从而进行等离子体处理。等离子体处理时间根据蚀刻气体的种类，在10～90秒的范围内实施。
[蚀刻速率的测定方法]
使用日本Semilab公司制光谱椭偏仪GES5E，测定3处蚀刻后的基板的表面的膜厚，由平均值算出膜厚。基于蚀刻前后的膜厚，算出由蚀刻导致的膜厚的减少量，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)来进行描点。由所得的图表的斜率算出蚀刻速率(nm/sec)。
[实施例1]
在5,5,6-三氟-6-(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯(100g)和1-己烯(0.298mg)的四氢呋喃溶液中，添加Mo(N-2,6-Pri 2C6H3)(CHCMe2Ph)(OBut)2(50mg)的四氢呋喃溶液，在70℃进行了开环易位聚合。利用钯氧化铝(5g)使所得的聚合物的烯烃部在160℃进行氢化反应，获得了聚(1,1,2-三氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)的四氢呋喃溶液。
将所得的溶液利用孔径5μm的过滤器进行加压过滤，从而除去了钯氧化铝。接着，将所得的溶液添加至甲醇中，将白色的聚合物过滤分离出并进行了干燥，获得了99g的作为含氟环状烯烃聚合物(A)的聚合物1。所得的聚合物1含有由上述通式(1)表示的结构单元。此外，氢化率为100mol％，重均分子量(Mw)为70000，分子量分布(Mw/Mn)为1.71，玻璃化转变温度为107℃。
接着，调制出如下的溶液：在以30质量％浓度溶解有聚合物1的环己酮溶液100g中，添加有作为光固化性化合物(B)的双(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲基)醚与1,7-辛二烯二环氧化物的质量比9/1的混合物20g[质量比((A)/(B))＝60/40]、以及作为光固化引发剂(C)的Adeka Optomer SP-172(艾迪科公司制)0.8g所得到的溶液。接着，将该溶液利用孔径1μm的过滤器进行加压过滤，进一步利用0.1μm的过滤器进行过滤，调制出光固化性树脂组合物1。
将光固化性树脂组合物1旋转涂布于4英寸硅晶片上，在氮气气氛下，以90℃、30秒的条件进行了干燥。接着，对于所得的涂布膜，以1000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为260nm。
对于在所得的硅晶片上形成的固化膜，以10秒、20秒、30秒分别实施了O2气体等离子体蚀刻，以30秒、60秒、90秒分别实施了利用其它气体的等离子体蚀刻。
利用椭偏仪测定蚀刻后的膜厚，针对各种气体算出蚀刻速率。其结果是氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.40，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.51，在CF4的情况下为3.34，在CHF3的情况下为27.7。此外，作为利用解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例2]
除了将单体变更为5,6-二氟-5-三氟甲基-6-全氟乙基二环[2.2.1]庚-2-烯(50g)以外，采用与实施例1同样的方法，获得了49g的作为含氟环状烯烃聚合物(A)的聚合物2[聚(1,2-二氟-1-三氟甲基-2-五氟乙基-3,5-亚环戊基乙烯)]。所得的聚合物2含有由上述通式(1)表示的结构单元。氢化率为100mol％，重均分子量(Mw)为80000，分子量分布(Mw/Mn)为1.52，玻璃化转变温度为110℃。
接着，将光固化性化合物(B)的含量变更为3g[质量比((A)/(B))＝90/10]，进一步将作为光固化引发剂(C)的Adeka Optomer SP-172(艾迪科公司制)变更为0.1g，除此以外，采用与实施例1同样的方法，调制出光固化性树脂组合物2。
采用与实施例1同样的方法，在硅晶片上以厚度210nm形成光固化性树脂组合物2的固化膜，进行了等离子体蚀刻评价。
其结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.61，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.63，在CF4的情况下为3.43，在CHF3的情况下为36.3。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例3]
除了将单体变更为5,5,6-三氟-6-(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯(50g)和8,8,9-三氟-9-(三氟甲基)-四环[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二碳烯(22g)以外，采用与实施例1同样的方法，获得了71g的作为含氟环状烯烃聚合物(A)的聚合物3[聚(1,1,2-三氟-2-三氟甲基-3,5-亚环戊基乙烯)与聚(3,3,4-三氟-4-三氟甲基-7,9-三环[4.3.0.12,5]亚癸基乙烯)的共聚物]。所得的聚合物3含有由上述通式(1)表示的结构单元。氢化率为100mol％，重均分子量(Mw)为65000，分子量分布(Mw/Mn)为2.41，玻璃化转变温度为127℃。
接着，采用与实施例1同样的方法，调制出光固化性树脂组合物3[质量比((A)/(B))＝60/40]。
采用与实施例1同样的方法，在硅晶片上以厚度280nm形成光固化性树脂组合物3的固化膜，进行了等离子体蚀刻评价。
其结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.24，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.28，在CF4的情况下为3.32，在CHF3的情况下为45.0。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例4]
将光固化性化合物(B)的含量变更为270g，进一步将作为光固化引发剂(C)的Adeka Optomer SP-172(艾迪科公司制)变更为11g，除此以外，采用与实施例1同样的方法，调制出光固化性树脂组合物4[质量比((A)/(B))＝10/90]。
采用与实施例1同样的方法，在硅晶片上以厚度330nm形成光固化性树脂组合物4的固化膜，进行了等离子体蚀刻评价。
其结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为4.00，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为4.11，在CF4的情况下为4.37，在CHF3的情况下为62.0。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例5]
将光固化性化合物(B)的种类变更为双(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲基)醚与1-环氧癸烷的质量比9/1的混合物45g，将作为光固化引发剂(C)变更为2.3g的Irgacure 290(BASF公司制)，除此以外，采用与实施例1同样的方法，调制出光固化性树脂组合物5[质量比((A)/(B))＝40/60]。
采用与实施例1同样的方法，在硅晶片上以厚度250nm形成光固化性树脂组合物5的固化膜，进行了等离子体蚀刻评价。
其结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.88，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.96，在CF4的情况下为3.86，在CHF3的情况下为49.2。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例6]
将在实施例1中调制的光固化性树脂组合物1旋转涂布于石英玻璃基板的表面上，以90℃、30秒的条件进行了干燥，获得了由光固化性树脂组合物1形成的树脂层。接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃基板的表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从石英玻璃基板的表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为158nm。
接着，对形成有基于光固化性树脂组合物1的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为CF4/O2(混合体积比＝96/4)进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从石英玻璃基板与由光固化性树脂组合物1形成的树脂层的界面开始，在石英玻璃基板的方向上形成有宽度75nm、深度80nm的尺寸的槽。
然后，再次进行O2气体等离子体蚀刻，完全除去由光固化性树脂组合物1形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的石英玻璃基板。
[实施例7]
将在实施例2中调制的光固化性树脂组合物2旋转涂布于铝基板表面上，以90℃、30秒的条件进行了干燥，获得了由光固化性树脂组合物2形成的树脂层。接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在铝基板表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从铝基板表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为163nm。
接着，对形成有基于光固化性树脂组合物2的微细凹凸图案的上述铝基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)，进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从铝基板与由光固化性树脂组合物2形成的树脂层的界面开始，在铝基板的方向上形成有宽度75nm、深度100nm的尺寸的槽。
然后，将铝基板浸渍于环己酮中，洗涤铝基板表面，完全除去由光固化性树脂组合物2形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的铝基板。
[实施例8]
调制出如下的溶液：在以2.7质量％浓度溶解有实施例1中合成的聚合物1的丙二醇二乙酸酯溶液100g中，添加有作为光固化性化合物(B)的双(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲基)醚与3’,4’-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷甲酸酯的质量比8/2的混合物10.8g[质量比((A)/(B))＝20/80]、以及作为光固化引发剂(C)的CPI-210S(San-Apro公司制)0.5g所得到的溶液。接着，将该溶液利用孔径1μm的过滤器进行加压过滤，进一步利用0.1μm的过滤器进行过滤，调制出光固化性树脂组合物9。光固化性树脂组合物9的表面张力为31mN/m，粘度为5.3mPas。
接着，利用喷墨涂布机，在4英寸硅晶片上以50mm×50mm的范围喷墨涂布光固化性树脂组合物9，在室温下进行空气干燥后，以2000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为200nm。
等离子体蚀刻评价的结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.78，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.91，在CF4的情况下为3.56，在CHF3的情况下为47.9。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例9]
将溶剂变更为丙二醇单甲基醚乙酸酯，将聚合物1的溶解浓度变更为4.0质量％，除此以外，利用与实施例8同样的方法，调制出质量比((A)/(B))＝60/40的光固化性树脂组合物10。光固化性树脂组合物10的表面张力为28mN/m，粘度为5.4mPas。
接着，利用喷墨涂布机，在4英寸硅晶片上以50mm×50mm的范围喷墨涂布光固化性树脂组合物10，在室温下进行空气干燥后，以2000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为230nm。
等离子体蚀刻评价的结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.40，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.51，在CF4的情况下为3.34，在CHF3的情况下为27.7。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例10]
除了将含氟环状烯烃聚合物(A)变更为在实施例2中合成的聚合物2以外，与实施例8同样地，调制出质量比((A)/(B))＝20/80的光固化性树脂组合物11。光固化性树脂组合物11的表面张力为32mN/m，粘度为7.3mPas。
接着，利用喷墨涂布机，在4英寸硅晶片上以50mm×50mm的范围喷墨涂布光固化性树脂组合物11，在室温下进行空气干燥后，以2000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为240nm。
等离子体蚀刻评价的结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.64，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.61，在CF4的情况下为3.44，在CHF3的情况下为37.1。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
[实施例11]
将在实施例3中调制的光固化性树脂组合物3旋转涂布于石英玻璃基板表面上，以90℃、30秒的条件进行了干燥，获得了由光固化性树脂组合物3形成的树脂层。接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃基板表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从石英玻璃基板表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为161nm。
接着，对形成有基于光固化性树脂组合物3的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为CF4/O2(混合体积比＝96/4)，进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从石英玻璃基板与由光固化性树脂组合物3形成的树脂层的界面开始，在石英玻璃基板的方向上形成有宽度75nm、深度82nm的尺寸的槽。
然后，再次进行O2气体等离子体蚀刻，完全除去由光固化性树脂组合物3形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的石英玻璃基板。
[实施例12]
将在实施例4中调制的光固化性树脂组合物4旋转涂布于石英玻璃基板表面上，以90℃、30秒的条件进行了干燥，获得了由光固化性树脂组合物4形成的树脂层。接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃基板表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从石英玻璃基板表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为153nm。
接着，将形成有基于光固化性树脂组合物4的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为CF4/O2(混合体积比＝96/4)进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从石英玻璃基板与由光固化性树脂组合物4形成的树脂层的界面开始，在石英玻璃基板的方向上形成有宽度75nm、深度95nm的尺寸的槽。
然后，再次进行O2气体等离子体蚀刻，完全除去由光固化性树脂组合物4形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的石英玻璃基板。
[实施例13]
将在实施例5中调制的光固化性树脂组合物5旋转涂布于石英玻璃基板表面上，以90℃、30秒的条件进行了干燥，获得了由光固化性树脂组合物5形成的树脂层。接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃基板表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从石英玻璃基板表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为155nm。
接着，对形成有基于光固化性树脂组合物5的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为CF4/O2(混合体积比＝96/4)进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从石英玻璃基板与由光固化性树脂组合物5形成的树脂层的界面开始，在石英玻璃基板的方向上形成有宽度75nm、深度130nm的尺寸的槽。
然后，再次进行O2气体等离子体蚀刻，完全除去由光固化性树脂组合物5形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的石英玻璃基板。
[实施例14]
在石英玻璃基板的表面上以50mm×50mm的范围喷墨涂布在实施例8中调制的光固化性树脂组合物9，在室温下进行空气干燥，获得了由光固化性树脂组合物9形成的树脂层。接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以2000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃基板的表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从石英玻璃基板的表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为125nm。
接着，对形成有基于光固化性树脂组合物9的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为CF4/O2(混合体积比＝96/4)进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从石英玻璃基板与由光固化性树脂组合物9形成的树脂层的界面开始，在石英玻璃基板的方向上形成有宽度75nm、深度90nm的尺寸的槽。
然后，再次进行O2气体等离子体蚀刻，完全除去由光固化性树脂组合物9形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的石英玻璃基板。
[实施例15]
除了使用在实施例9中调制的光固化性树脂组合物10以外，利用与实施例11同样的方法，使用石英模具(上述模具A)在石英玻璃基板的表面上形成线与间隙形状。通过SEM观察线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从石英玻璃基板的表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为155nm。
接着，对形成有基于光固化性树脂组合物10的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为CF4/O2(混合体积比＝96/4)进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从石英玻璃基板与由光固化性树脂组合物10形成的树脂层的界面开始，在石英玻璃基板的方向上形成有宽度75nm、深度85nm的尺寸的槽。
然后，再次进行O2气体等离子体蚀刻，完全除去由光固化性树脂组合物10形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的石英玻璃基板。
[实施例16]
使用在实施例10中调制的光固化性树脂组合物11，将基板变更为铝基板，除此以外，利用与实施例11同样的方法，使用石英模具(上述模具A)，在铝基板的表面上形成线与间隙形状。通过SEM观察线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝75nm，L2＝75nm，L3＝150nm，精度良好地再现了石英模具的图案。此外，从铝基板的表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为165nm。
接着，对形成有基于光固化性树脂组合物11的微细凹凸图案的上述铝基板进行O2气体等离子体蚀刻，接着，将气体种类变更为Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)进行等离子体蚀刻。观察等离子体蚀刻后的基板的截面，则从铝基板与由光固化性树脂组合物11形成的树脂层的界面开始，在铝基板的方向上形成有宽度75nm、深度120nm的尺寸的槽。
然后，将铝基板浸渍于环己酮中，洗涤铝基板表面，完全除去由光固化性树脂组合物11形成的树脂层。由此，获得了具有尺寸精度优异的微细凹凸图案(槽)的铝基板。
[比较例1]
将纳米压印用的树脂层所使用的市售品的紫外线固化型的液态硅橡胶(信越有机硅公司制，将KER-4690-A液(10g)与KER-4690-B液(10g)混合)设为光固化性树脂组合物6。
在4英寸硅晶片上旋转涂布光固化性树脂组合物6，以1000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为240nm。
对于在所得的硅晶片上形成的固化膜，以10秒、20秒、30秒实施了O2气体等离子体蚀刻。
作为等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表在初始阶段直线状上升，但在20秒、30秒后的膜厚的减少量没有变化。即，成为表示残存有用O2气体无法蚀刻的成分的结果，没能算出由显示直线性的图表的斜率来算出的蚀刻速率(nm/sec)。
将上述光固化性树脂组合物6旋转涂布于石英玻璃表面上，获得了由光固化性树脂组合物6形成的树脂层。
接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝73nm，L2＝77nm，L3＝145nm。此外，从石英玻璃基板的表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为120nm。
接着，对于形成有基于光固化性树脂组合物6的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板，实施了最长180秒的O2气体等离子体蚀刻。然而，虽然能够将微细凹凸图案的凹部底面的120nm的厚度蚀刻至80nm的厚度，但没能完全除去膜，没能加工石英玻璃基板。
[比较例2]
在以30质量％溶解有Si上的取代基为甲基丙烯酸丙氧基酯的硅氧烷树脂的丙二醇-1-甲基醚-2-乙酸酯(PGMEA)溶液中，溶解相对于硅氧烷树脂为3质量％的作为光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮，调制出光固化性树脂组合物7。
在4英寸硅晶片上旋转涂布光固化性树脂组合物7，以1000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为220nm。
对于在所得的硅晶片上形成的固化膜，以10秒、20秒、30秒实施了O2气体等离子体蚀刻。
作为等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表在初始阶段直线状上升，但在20秒、30秒后的膜厚的减少量没有变化。即，成为表示残存有用O2气体无法蚀刻的成分的结果，没能算出由显示直线性的图表的斜率来算出的蚀刻速率(nm/sec)。
将上述光固化性树脂组合物7旋转涂布于石英玻璃表面上，获得了由光固化性树脂组合物7形成的树脂层。
接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝74nm，L2＝76nm，L3＝149nm。此外，从石英玻璃基板的表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为118nm。
接着，对于形成有基于光固化性树脂组合物7的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板，实施了最长180秒的O2气体等离子体蚀刻。然而，虽然能够将微细凹凸图案的凹部底面的118nm的厚度蚀刻至75nm的厚度，但没能完全除去膜，没能加工石英玻璃基板。
[比较例3]
在以10质量％溶解有甲基丙烯酸甲酯的环己酮溶液中，溶解相对于甲基丙烯酸甲酯为2质量％的作为光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮，调制出光固化性树脂组合物8。
在4英寸硅晶片上旋转涂布光固化性树脂组合物8，以1000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为250nm。
采用与实施例1同样的方法，对于在所得的硅晶片上形成的固化膜，以10秒、20秒、30秒实施了O2气体等离子体蚀刻。
其结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为0.75，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为0.88，在CF4的情况下为1.01，在CHF3的情况下为9.0，特别是O2蚀刻速率变大(对于O2气体的耐性变小。)，相对于各种气体(VG)的蚀刻速率变小。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
将上述光固化性树脂组合物8旋转涂布于石英玻璃表面上，获得了由光固化性树脂组合物8形成的树脂层。
接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，剥离石英模具，通过SEM观察在石英玻璃表面形成的线与间隙形状的截面，所得到的结果是L1＝70nm，L2＝80nm，L3＝145nm。此外，从石英玻璃基板的表面至微细凹凸图案的凹部底面的高度为121nm。
接着，对于形成有基于光固化性树脂组合物8的微细凹凸图案的上述石英玻璃基板，实施了最长180秒的O2气体等离子体蚀刻。通过SEM观察O2蚀刻处理后的样品的截面，结果对于O2等离子体蚀刻的耐性不足而导致由光固化性树脂组合物8形成的树脂层消失，没能进行用于下一道工序的基板加工的蚀刻处理。
[比较例4]
将单体变更为3-甲基降冰片烯，将溶剂变更为环己烷，除此以外，采用与实施例1同样的方法，获得了聚(1-甲基-3,5-亚环戊基乙烯)的白色固体(98g)的聚合物4。所得的聚合物4含有由上述通式(1)表示的结构单元中取代基R1～R4不具有氟的环状烯烃聚合物。此外，氢化率为100mol％，重均分子量(Mw)为81000，分子量分布(Mw/Mn)为1.83，玻璃化转变温度为95℃。
接着，使用以30质量％浓度溶解有聚合物4的环己烷溶液100g，采用与实施例1同样的方法，调制出光固化性树脂组合物12。
在4英寸硅晶片上旋转涂布光固化性树脂组合物12，在氮气气氛下，以90℃、30秒的条件进行了干燥。接着，对于所得的涂布膜，以1000mJ/cm2的照射量使涂布膜固化。在所得的硅晶片上形成的固化膜的厚度为230nm。此外，所得的固化膜的外观是环状烯烃聚合物与UV固化成分相分离的状态。
对于在所得的硅晶片上形成的固化膜，以10秒、20秒，30秒分别实施了O2气体等离子体蚀刻，以30秒、60秒、90秒分别实施了利用其它气体进行的等离子体蚀刻。
利用椭偏仪测定蚀刻后的膜厚，对于各种气体算出蚀刻速率。其结果是，氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)在各种气体为Cl2的情况下为3.10，在Cl2/BCl3(混合体积比＝3/7)的情况下为3.21，在CF4的情况下为2.94，在CHF3的情况下为22.2。此外，作为利用用于解析的各种气体所得到的等离子体蚀刻的结果，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)进行描点所得到的图表对于所有的气体种类而言都显示出了直线性。
接着，将光固化性树脂组合物12旋转涂布于石英玻璃基板的表面上，以90℃、30秒的条件进行了干燥，获得了由光固化性树脂组合物12形成的树脂层。接着，使线与间隙形状的石英模具(上述模具A)的图案面与所得的树脂层接触，一边施加0.1MPa的压力一边以1000mJ/cm2的照射量进行UV照射。然后，尝试剥离石英模具，但模具与光固化性树脂组合物12的固化物牢固地密合，没能剥离。
将以上结果示于表1和表2中。
[表1]
[表2]
基于表1能够理解，包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂层的氧气(O2)与各种气体(VG)的蚀刻速率比(O2)/(VG)大，蚀刻性优异。即，能够理解包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂层能够通过O2气体等离子体蚀刻来蚀刻，另一方面，对于用于蚀刻基板的各种蚀刻气体的蚀刻耐性优异。由于对于用于蚀刻基板的各种蚀刻气体的蚀刻耐性优异，因此在将具有微细凹凸图案的树脂层作为掩模来蚀刻基板时，能够进一步选择性地蚀刻基板，其结果是能够将形成于树脂层的微细凹凸图案以高精度转印至基板。
此外，基于表2的实施例6、7和11～16能够理解，可知如果使用包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂层，则能够将形成于树脂层的微细凹凸图案以高精度转印至基板。
本申请主张以2017年6月9日申请的日本申请特愿2017-114363号作为基础的优先权，将其公开的全部内容并入本文中。
本发明包含以下方式。
1.
一种带有微细凹凸图案的基板的制造方法，为用于制造表面具有微细凹凸图案的基板的制造方法，其具备下述工序：
工序(a)，准备层叠体，所述层叠体具备基板、以及设置于上述基板上且表面形成有第1微细凹凸图案的第1树脂层；
工序(b)，通过将上述第1树脂层作为掩模来对上述第1微细凹凸图案的表面进行蚀刻，从而在上述基板的表面形成与上述第1微细凹凸图案对应的第2微细凹凸图案，
上述第1树脂层由包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)或上述树脂组合物(P)的固化物构成。
2.
根据1.所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述含氟环状烯烃聚合物(A)包含下述通式(1)所示的重复结构单元。
[化9]
(上述通式(1)中，R1～R4中的至少1个为选自氟、含有氟的碳原子数1～10的烷基、含有氟的碳原子数1～10的烷氧基和含有氟的碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团。在R1～R4为不含氟的基团的情况下，R1～R4为选自氢、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基和碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团。R1～R4可以相同也可以不同。R1～R4可以彼此键合而形成环结构。n表示0～2的整数。)
3.
根据1.或2.所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述树脂组合物(P)进一步包含光固化性化合物(B)和光固化引发剂(C)。
4.
根据3.所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述树脂组合物(P)中的上述含氟环状烯烃聚合物(A)的含量与上述光固化性化合物(B)的含量的质量比((A)/(B))为1/99以上99/1以下。
5.
根据3.或4.所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述光固化性化合物(B)包含能够阳离子聚合的开环聚合性化合物。
6.
根据1.～5.中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述工序(a)包括下述工序(a1)：通过使具有微细凹凸图案的模具压接于设置在上述基板上的上述包含含氟环状烯烃聚合物(A)的第1树脂层，从而在上述第1树脂层的表面形成与上述微细凹凸图案对应的微细凹凸图案。
7.
根据6.所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述工序(a)进一步包括下述工序：
工序(a2)，在上述第1树脂层的表面形成上述第1微细凹凸图案之后，通过照射光，从而使上述第1树脂层固化；
工序(a3)，从上述第1树脂层剥离上述模具。
8.
根据1.～7.中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
其进一步包括下述工序(c)：
除去位于构成上述第2微细凹凸图案的凸部的上方的上述第1树脂层。
9.
根据1.～8.中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
上述基板选自石英基板、硅基板、镍基板、铝基板和蓝宝石基板。
10.
一种树脂组合物，为用于形成1.～9.中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法中的上述第1树脂层的树脂组合物，
其包含含氟环状烯烃聚合物(A)，
通过下述方法1测定得到的O2气体的蚀刻速率(O2)与CHF3气体的蚀刻速率(CHF3)之比((O2)/(CHF3))为1以上100以下。
(方法1：将上述树脂组合物以使固化后的厚度成为200nm以上350nm以下的范围的方式涂布于硅晶片上，然后使所得的涂布膜固化。接着，对于所得的固化膜，以10秒、20秒和30秒分别实施O2气体等离子体蚀刻，算出由上述O2气体等离子体蚀刻所导致的上述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)来进行描点，由所得的图表的斜率算出上述O2气体的蚀刻速率(O2)(nm/sec)。同样地，对于所得的固化膜，以30秒、60秒和90秒分别实施CHF3气体等离子体蚀刻，算出由上述CHF3气体等离子体蚀刻所导致的上述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间(sec)、纵轴为减少膜厚量(nm)来进行描点，由所得的图表的斜率算出上述CHF3气体的蚀刻速率(CHF3)(nm/sec)。)。

Claims (14)

1.一种带有微细凹凸图案的基板的制造方法，为用于制造表面具有微细凹凸图案的基板的制造方法，其具备下述工序：
工序a，准备层叠体，所述层叠体具备基板、以及设置于所述基板上且表面形成有第1微细凹凸图案的第1树脂层；
工序b，通过将所述第1树脂层作为掩模来对所述第1微细凹凸图案的表面进行蚀刻，从而在所述基板的表面形成与所述第1微细凹凸图案对应的第2微细凹凸图案，
所述第1树脂层由包含含氟环状烯烃聚合物A的树脂组合物P或包含含氟环状烯烃聚合物A的树脂组合物P的固化物构成。
2.根据权利要求1所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述含氟环状烯烃聚合物A包含下述通式(1)所示的重复结构单元，
[化1]
所述通式(1)中，R1～R4中的至少1个为选自氟、含有氟的碳原子数1～10的烷基、含有氟的碳原子数1～10的烷氧基和含有氟的碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团，在R1～R4为不含氟的基团的情况下，R1～R4为选自氢、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基和碳原子数2～10的烷氧基烷基中的有机基团，R1～R4可以相同也可以不同，R1～R4也可以彼此键合而形成环结构，n表示0～2的整数。
3.根据权利要求1或2所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述树脂组合物P进一步包含光固化性化合物B和光固化引发剂C。
4.根据权利要求3所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述树脂组合物P中的所述含氟环状烯烃聚合物A的含量与所述光固化性化合物B的含量的质量比A/B为1/99以上99/1以下。
5.根据权利要求3所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述光固化性化合物B包含能够阳离子聚合的开环聚合性化合物。
6.根据权利要求3所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述包含含氟环状烯烃聚合物A的树脂组合物P的表面张力为20mN/m以上60mN/m以下，
所述工序a包括下述工序：使用喷墨涂布法，在所述基板上涂布所述树脂组合物P来形成所述第1树脂层。
7.根据权利要求1或2所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述工序a包括下述工序a1：通过使具有微细凹凸图案的模具压接于设置在所述基板上的所述包含含氟环状烯烃聚合物A的第1树脂层，从而在所述第1树脂层的表面形成与所述微细凹凸图案对应的微细凹凸图案。
8.根据权利要求7所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述工序a进一步包括下述工序：
工序a2，在所述第1树脂层的表面形成所述第1微细凹凸图案之后，通过照射光，从而使所述第1树脂层固化；以及
工序a3，从所述第1树脂层剥离所述模具。
9.根据权利要求1或2所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，其进一步包括下述工序c：
除去位于构成所述第2微细凹凸图案的凸部的上方的所述第1树脂层。
10.根据权利要求1或2所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法，
所述基板选自石英基板、硅基板、镍基板、铝基板和蓝宝石基板。
11.一种树脂组合物，为用于形成权利要求1～10中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法中的所述第1树脂层的树脂组合物，其包含含氟环状烯烃聚合物A。
12.根据权利要求11所述的树脂组合物，通过下述方法1测定得到的O2气体的蚀刻速率与CHF3气体的蚀刻速率之比O2/CHF3为1以上100以下，
方法1：将所述树脂组合物以使固化后的厚度成为200nm以上350nm以下的范围的方式涂布于硅晶片上，然后使所得的涂布膜固化，接着，对于所得的固化膜，以10秒、20秒和30秒分别实施O2气体等离子体蚀刻，算出由所述O2气体等离子体蚀刻所导致的所述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间，以sec计，纵轴为减少膜厚量，以nm计来进行描点，由所得的图表的斜率算出所述O2气体的蚀刻速率，以nm/sec计，同样地，对于所得的固化膜，以30秒、60秒和90秒分别实施CHF3气体等离子体蚀刻，算出由所述CHF3气体等离子体蚀刻所导致的所述固化膜的膜厚的减少量，以横轴为时间，以sec计，纵轴为减少膜厚量，以nm计来进行描点，由所得的图表的斜率算出所述CHF3气体的蚀刻速率，以nm/sec计。
13.根据权利要求11或12所述的树脂组合物，表面张力为20mN/m以上60mN/m以下。
14.一种层叠体，为权利要求1～10中任一项所述的带有微细凹凸图案的基板的制造方法中的所述层叠体，其具备基板、以及设置于所述基板上且表面形成有第1微细凹凸图案的第1树脂层，
所述第1树脂层由包含含氟环状烯烃聚合物A的树脂组合物P或包含含氟环状烯烃聚合物A的树脂组合物P的固化物构成。
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