JP4401139B2 - パターン形成方法および光学素子 - Google Patents
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Description
31r 凹部
31b 底面
31s 側面
31t 上面
32 透光性基板
33 光硬化性樹脂薄膜
33’、35 硬化した樹脂からなる凸部(パターン)
34 残膜
Claims (9)
- (a)所定のパターンで配置された凹部が形成された第1主面を有するモールドを用意する工程と、
(b)透光性を有する基板を用意する工程と、
(c)前記基板の第1表面と前記モールドの前記第1主面の少なくとも一方に光硬化性樹脂の薄膜を形成する工程と、
(d)前記薄膜を介して前記モールドの前記第1主面と前記基板の前記第1表面とを押し当てる工程と、
(e)前記基板側から前記薄膜に光を照射し、前記光硬化性樹脂を硬化する工程と、
(f)前記モールドと前記基板とを分離する工程と、
を包含し、
前記モールドの前記凹部は、前記光硬化性樹脂に対する濡れ性が高い側面と、前記側面よりも前記光硬化性樹脂に対する濡れ性が低い底面とを有する、パターン形成方法。 - 前記モールドの前記側面および前記底面は、前記工程(e)において前記光を反射する、請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記凹部の上面は前記凹部の側面よりも前記光硬化性樹脂に対する濡れ性が低い、請求項1または2に記載のパターン形成方法。
- 前記工程(e)は、前記モールドの前記凹部と前記基板の前記第1表面とによって、前記光硬化性樹脂を実質的に密閉した状態で実行される、請求項1から3のいずれかに記載のパターン形成方法。
- 前記工程(e)は、前記凹部内の前記光硬化性樹脂を加圧した状態で実行される、請求項1から4のいずれかに記載のパターン形成方法。
- 前記モールドは前記光を反射する反射性材料から形成されている、請求項1から5のいずれかに記載のパターン形成方法。
- 前記反射性材料はシリコンを含む、請求項6に記載のパターン形成方法。
- 前記凹部の前記底面および/または前記上面はフッ素原子を含む、請求項7に記載のパターン形成方法。
- 前記側面と前記底面との濡れ性の違いは、水に対する接触角が、一方が約80°以上で他方が45°以下である、請求項1から8のいずれかに記載のパターン形成方法。
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