JP5050532B2 - インプリントモールド、インプリントモールド製造方法および表面改質装置 - Google Patents
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Description
なお、ここで、「凹凸パターン」とは、矩形状の溝パターンに限らず、任意の形状の段差を有するパターンであるものとし、凹凸パターンが多段の場合も含むものとして定義する。
凹凸パターン部の剥離性が向上している部位は、フッ素原子を含む層を設けた部位であることを特徴とするインプリントモールドである。
本発明のインプリントモールドは、
凹凸パターン部を備えたインプリントモールドにおいて、
前記凹凸パターン部の剥離性が凹凸パターン部内で不均一であること
を特徴とする。
本発明のインプリントモールド製造方法は、
基板に凹凸パターン部を形成する工程と、
前記基板に対してアライメントを行う工程と、
前記凹凸パターン部の選択部位にエネルギー線を照射する工程と、
前記エネルギー線を照射しながら反応性ガスを供給する工程と、
を備えたことを特徴とする。
まず、基板に凹凸パターンを形成する。
次に、後述する「エネルギー線を照射する工程」において、精度良く選択部位にエネルギー線を照射するために、基板の位置情報の取得ならびに位置制御を行う。アライメント方法としては、凹凸パターンのパターン精度に応じて、適宜公知の方法を用いて行って良い。例えば、あらかじめ、基板に対してアライメントマークを設け、設計パターンのアライメント位置と対照させるアライメント方法を用いても良い。
<エネルギー線を照射しながら反応性ガスを供給する工程>
次に、所望するパターンに応じて、剥離性を向上させたい部位に、エネルギー線を照射し、反応性ガスを供給し、インプリントモールド表面に、表面エネルギーの小さい層を作り、エネルギー線照射部位のみを選択的に表面改質する。エネルギー線照射部位を反応場とすることにより、エネルギー線照射部位のみに選択的に反応性ガスを原料とした層形成を行うことができ、選択部分のみに、表面改質を行うことが出来る。
本発明の表面改質装置は、
試料表面の選択部位に薄膜を形成する表面改質装置であって、
エネルギー線を発生するためのエネルギー線発生機構と、
薄膜の原料を供給するための反応性ガス供給機構と、
試料を固定するための試料固定機構と、
試料表面をマッピングし、試料の位置制御を行うためのアライメント機構と、
試料表面の選択部位の位置データを保持するためのメモリ保持機構と、
前記メモリ保持部に保持されたデータが示す部位に、エネルギー線が照射されるようにエネルギー線の照射部位を制御するための制御機構と、
を備えたことを特徴とする。
また、電子ビーム、遠赤外線レーザーは、焦点深度が数μmあることから、照射対象であるインプリントモールドの凹凸パターンが高アスペクト比であっても好適に用いることが出来、ビーム照射時間は冗長でないという利点を有する。
また、真空試料室12内には、試料13、試料ステージ14があり、制御装置15と接続されている。
また、反応性ガス導入装置16は、ビーム照射部近傍のみに噴射するためのガスノズル17を通して、ビーム照射部近傍のみに必要量噴射される。
また、前記のように電子線を光源に使用する場合は真空度を高く保つ必要があるため、ビーム照射部以外にガスが拡散しないようにガス排気管18をビーム照射部近傍に設置し、真空試料室12と同様に真空ポンプ19で排気を行なう。
2・・・ウェーネルト電極
3・・・加速電極
4・・・ブランキング電極
5・・・第1レンズ
6・・・第1成形スリット
7・・・第2レンズ
8・・・第2成形スリット
9・・・縮小レンズ
10・・・位置決め偏向器
11・・・対物レンズ
12・・・真空試料室
13・・・試料
14・・・試料ステージ
15・・・制御装置
16・・・反応性ガス導入装置
17・・・ガスノズル
18・・・ガス排気管
19・・・真空ポンプ
20・・・アラインメントマーク
21・・・データ
101・・・モールド
102・・・樹脂
103・・・基板
104・・・樹脂の残膜
105・・・反転パターン
106・・・ポリマー
107・・・微細パターン側面奥ならびに底面領域
108・・・順テーパー形状化したモールド
Claims (6)
- 凹凸パターン部を備えたインプリントモールドにおいて、
前記凹凸パターン部の側壁を含む凹部、または凸部が他の一方と比べて選択的に剥離性が向上しており、非転写部分の樹脂をモールド側に保持することを特徴とするインプリントモールド。 - 請求項1に記載のインプリントモールドであって、前記凹凸パターン部の剥離性が前記凹凸パターン部の各凹凸間で不均一であることを特徴とするインプリントモールド。
- 請求項1または2に記載のインプリントモールドであって、
前記凹凸パターン部の剥離性が向上している部位は、フッ素原子を含む層を設けた部位であることを特徴とするインプリントモールド。 - 前記インプリントモールドをRIL法に用いることを特徴とする、請求項1〜3に記載のインプリントモールド。
- 請求項1〜4に記載のインプリントモールドの試料表面の選択部位に薄膜を形成する表面改質装置であって、
エネルギー線を発生するためのエネルギー線発生機構と、
薄膜の原料を供給するための反応性ガス供給機構と、
試料を固定するための試料固定機構と、
試料表面をマッピングし、試料の位置制御を行うためのアライメント機構と、
前記試料表面の選択部位の位置データを保持するためのメモリ保持機構と、
前記メモリ保持部に保持されたデータが示す部位に、エネルギー線が照射されるようにエネルギー線の照射部位を制御するための制御機構と、
を備えたことを特徴とする表面改質装置。 - 請求項1〜4に記載の凹凸パターン部を備えたインプリントモールド製造方法であって、
基板に凹凸パターン部を形成する工程と、
前記基板に対してアライメントを行う工程と、
前記凹凸パターン部の選択部位にエネルギー線を照射する工程と、
前記エネルギー線を照射しながら反応性ガスを供給する工程と、
を備えたことを特徴とするインプリントモールド製造方法。
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