JP5790798B2 - インプリント用モールドおよび該モールドを用いたパターン形成方法 - Google Patents
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Description
そこで、本発明のインプリント用モールドは、モールド上に転写すべき主パターンを形成するとともに、モールド離型時に欠陥が発生し易い領域に離型力調整用のダミーパターンを設け、ダミーパターンによりモールドの離型速度が大きくなるのを制御し、離型時の欠陥の発生を抑止もしくは低減するものである。ここで、主パターンとは、モールド上に形成されているパターンのうち、被加工基板上の樹脂に転写すべき所望のパターンである。ダミーパターンとは、モールド上に形成されているパターンのうち、被加工基板の実際の加工には用いられないパターンであり、主パターンの被加工基板上の樹脂への転写を補助する機能を有するパターンを意味する。
以下、図面を参照しながら本発明のインプリント用モールドについて、光インプリント法の場合を例にして実施形態を説明する。
本実施形態のインプリント用モールドは、ダミーパターンがモールドの中心部にある場合である。モールドの凹凸パターンを形成した側の平面的な外形は、インプリントのショットに対応して、通常は正方形を含む矩形形状である。図1は、第1の実施形態のインプリント用モールドを示すパターン側から見た平面図であり、モールド10上のパターンとしては、転写すべき主パターン11と、離型する際の離型力調節用のダミーパターン12とを有するものである。図1に示す例では、主パターン11は6チップ設けられており、モールド10の中心部で主パターン11の間にダミーパターン12が形成されている。
本実施形態のインプリント用モールドは、ダミーパターンがモールドの周辺部の一辺付近にある場合である。図2は、第2の実施形態のインプリント用モールドを示すパターン側から見た平面図であり、モールド20上のパターンとしては、転写すべき主パターン21と、離型する際の離型力調節用のダミーパターン22とを有するものである。図2に示す例では、主パターン21は4チップ設けられており、モールド20の周辺部で主パターン21の外側の一辺付近にダミーパターン22が形成されている。
本実施形態のインプリント用モールドは、ダミーパターンが、モールドが最初に離型する領域から最後に離型する領域に向けてパターン密度分布を持ち、最後に離型する領域のパターン密度が最も大きい場合である。例えば、最初に離型する領域をモールドの周辺部、最後に離型する領域をモールドの中心部とし、ダミーパターンが、モールドの周辺部から中心部に向けて密度分布を持ち、モールド中心部のパターン密度が最も大きい場合である。
本発明において用いられるモールド材料としては、従来公知のインプリント法で用いられるモールドが使用できる。光インプリント法による場合には、パターンの安定性、耐薬品性、加工特性がよく、光硬化に用いる紫外線を透過する石英ガラスが好ましい。パターンを形成したモールドは、さらにモールドを保持する部材に取り付けて用いることもできる。
本発明におけるダミーパターンは、主パターンを作製するときに同時にモールド上に形成することにより作製することができ、従来公知のモールド製造方法が適用でき、容易に本発明のモールドを作製することができる。
本発明のパターン形成方法は、上記の実施形態で説明したインプリント用モールドを用い、被加工基板上の樹脂に前記モールドを押し付け、次に樹脂を硬化させるとともに樹脂にモールドのパターンを転写した後、モールドを樹脂から離型するものである。
11、21、31、41 主パターン
12、22、32、42 ダミーパターン
45 欠陥発生領域
53、63 被加工基板
54、64 硬化した光硬化性樹脂
55 転写欠陥発生領域
64a 光硬化性樹脂
66 光(紫外線)
Claims (4)
- 凹凸のパターンを形成したモールドを被加工基板上の樹脂に押し付け、次に前記樹脂を硬化させるとともに前記樹脂に前記パターンを転写した後、前記モールドを前記樹脂から離型するインプリント法に用いるインプリント用モールドであって、
前記モールド上の前記パターンが、転写すべき主パターンと、離型する際の離型力調節用のダミーパターンとを有し、前記ダミーパターンが、前記モールドの少なくとも中央部に形成されており、かつ、前記ダミーパターンが、前記主パターンよりもパターン密度が大きいことを特徴とするインプリント用モールド。 - 凹凸のパターンを形成したモールドを被加工基板上の樹脂に押し付け、次に前記樹脂を硬化させるとともに前記樹脂に前記パターンを転写した後、前記モールドを前記樹脂から離型するインプリント法に用いるインプリント用モールドであって、
前記モールド上の前記パターンが、転写すべき主パターンと、離型する際の離型力調節用のダミーパターンとを有し、前記ダミーパターンが、前記モールドの少なくとも中央部に形成されており、かつ、前記ダミーパターンが、表面修飾されているかもしくは前記主パターンに施す表面修飾をしないかにより、前記ダミーパターンと前記樹脂との密着性を前記主パターンと前記樹脂との密着性よりも大きくしたことを特徴とするインプリント用モールド。 - 凹凸のパターンを形成したモールドを被加工基板上の樹脂に押し付け、次に前記樹脂を硬化させるとともに前記樹脂に前記パターンを転写した後、前記モールドを前記樹脂から離型するインプリント法に用いるインプリント用モールドであって、
前記モールド上の前記パターンが、転写すべき主パターンと、離型する際の離型力調節用のダミーパターンとを有し、前記ダミーパターンが、前記モールドの少なくとも中央部に形成されており、かつ、前記ダミーパターンが、前記モールドが最初に離型する領域から最後に離型する領域に向けてパターン密度分布を持ち、前記最後に離型する領域のパターン密度が最も大きいことを特徴とするインプリント用モールド。 - 請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のインプリント用モールドを用い、
被加工基板上の樹脂に前記モールドを押し付け、次に前記樹脂を硬化させるとともに前記樹脂に前記モールドのパターンを転写した後、前記モールドを前記樹脂から離型することを特徴とするパターン形成方法。
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