CN101923279B

CN101923279B - 纳米压印模板及其制备方法

Info

Publication number: CN101923279B
Application number: CN2009101080479A
Authority: CN
Inventors: 朱振东; 李群庆; 张立辉; 陈墨
Original assignee: Tsinghua University; Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Current assignee: Tsinghua University; Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority date: 2009-06-09
Filing date: 2009-06-09
Publication date: 2012-03-28
Anticipated expiration: 2029-06-09
Also published as: CN101923279A

Abstract

本发明提供一种纳米压印模板，包括一柔性基底，以及一聚合物层形成于所述柔性基底的表面，该聚合物层远离所述柔性基底的表面形成有纳米图形，所述聚合物层为高支化低聚物、全氟基聚乙醚、甲基丙烯酸甲酯以及有机稀释剂的固化交联物。本发明还提供所述纳米压印模板的制备方法。

Description

纳米压印模板及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种纳米压印模板及其制备方法，尤其涉及一种紫外纳米压印模板及其制备方法。

背景技术

现有技术在制作各种半导体设备时，常需要制作具有数十纳米到数百纳米的微细结构的纳米图形。具有上述微细结构的纳米图形的制作方法主要有光或电子束的光刻方法：首先，使用经过掩模或者扫描聚焦的辐射线或者电子束照射光致抗蚀剂组合物或掩膜，上述辐射线或电子束将会改变被曝光区域的抗蚀剂的化学结构；然后，再通过刻蚀的方法除去被曝光区域或者被曝光区域外的抗蚀剂，从而获得特定的图案。

为了适应集成电路技术的迅猛发展，在现有的光学光刻努力突破分辨率极限的同时，下一代光刻技术在最近几年内获得大量的研究。现有的新型光刻系统包括反射式光学系统和折射式光学系统，通过极紫外光刻技术采用波长13nm～14nm的光源和精度极高的反射式光学系统，有效降低了折射系统中强烈的光吸收，但整个光刻系统造价非常昂贵，限制了所述技术的应用。

上世纪九十年代以来，一种新的纳米图形的制作工艺得到了发展(请参见Chou S Y，Krauss P R，Renstorm P.Imprint of sub 25 nm vias and trenches inpolymers.Appl.Phys.Lett.，1995，67(21)：3114-3116)。上述制作纳米图形的新技术，在本领域中被称作纳米压印或者纳米压印平板印刷术。纳米压印是指采用具有有纳米图形的纳米压印模板将基片上的抗蚀剂(resist)薄膜压印形成纳米图形后，再对基片上的纳米图形进行处理，如刻蚀、剥离等，最终制成具有纳米结构的图形和半导体器件。以纳米压印技术形成纳米图案的方法，通过采用具有纳米图形的硬性纳米压印模板压印抗蚀剂层形成纳米图案，而不需要依赖任何曝光形成。所以，纳米压印技术可以消除在常规的光刻方法中所必须的限制条件，比如对光的波长的限制，以及在抗蚀剂和基底内粒子的反向散射和光干扰。因此，相对于光刻技术，纳米压印技术具有制作成本低、简单易行、效率高的优点，具有广阔的应用前景。

现有的纳米压印技术主要包括热纳米压印(HE-NIL)、紫外纳米压印(UV-NIL)等。热纳米压印是采用绘有纳米图案的刚性纳米压印模板，将经过加热后的基底上的抗蚀剂薄膜压印出纳米级的图案，再通过降温固化所述抗蚀剂，使压印后的纳米图案得以保存，最后，再利用常规的刻蚀、剥离等加工方法实现纳米图案由模板向基底转移。紫外纳米压印是采用绘制有纳米图案的刚性纳米压印模板，将基片上的液态的抗蚀剂薄膜压印出纳米级图案，再通过紫外光的照射使得抗蚀剂单体聚合物固化，使所述纳米级图案得以保存，最后再利用常规的刻蚀、剥离等加工方法实现纳米图案由模板向基底转移。

然而，现有的纳米压印模板通常采用硅、二氧化硅、碳化硅或氮化硅等高硬度、高导热率、低膨胀系数、抗腐蚀性强的惰性材料制成。采用上述材料的纳米压印模板通常是由电子束刻蚀制成，然而利用上述高硬度材料制备纳米压印模板，工艺比较繁杂，条件要求较严格，从而成本较高。并且，上述材料制备的纳米压印模板较脆，抗压碎性较差，比较容易破损。

发明内容

有鉴于此，确有必要提供一种具有柔性、抗压碎性好的纳米压印模板及其制备方法。

一种纳米压印模板，包括一柔性基底，以及一聚合物层形成于所述柔性基底的表面。该聚合物层远离所述柔性基底的表面形成有纳米图形。所述聚合物层为高支化低聚物、全氟基聚乙醚、甲基丙烯酸甲酯、以及有机稀释剂的固化交联物。

一种纳米压印模板的制备方法，其包括以下步骤：提供一柔性基底，在所述柔性基底的一个表面形成一聚合物组合物材料层，所述聚合物组合物由高支化低聚物、全氟基聚乙醚、甲基丙烯酸甲酯、自由基引发剂以及有机稀释剂组成；提供一个表面具有纳米图形的模具，将所述模具表面的纳米图形复制到所述聚合物组合物材料层；以及光固化所述聚合物组合物材料，将所述模具与所述柔性基体分离，在所述柔性基底表面形成包括多个凸部及多个凹槽的纳米图形。

一种纳米压印模板的制备方法，其包括以下步骤：提供一表面具有纳米图形的模具，在模具具有纳米图形的表面形成聚合物组合物材料；提供一柔性基底，将所述柔性基底覆盖所述模具表面的聚合物组合物材料，挤压所述模板及柔性基底，使所述聚合物组合物材料黏附于所述柔性基底；以及光固化所述聚合物组合物材料，将所述模具与所述柔性基体分离，从而获得一纳米压印模板。

与现有技术相比较，所述纳米压印模板及其制备方法具有以下优点：所述纳米压印模板的制备方法，方法简单，成本较低。所述纳米压印模板包括一柔性基底，并且形成于所述柔性基底表面的纳米图形由高支化低聚物、全氟基聚乙醚、甲基丙烯酸甲酯、自由基引发剂以及有机稀释剂固化交联形成，从而该纳米图形也具有一定柔性。因此，所述纳米压印模板具有柔性，抗压碎性好。

附图说明

图1是本发明提供的纳米压印模板的剖面结构示意图。

图2是本发明提供的纳米压印模板制备方法第一实施例的流程图。

图3是本发明提供的纳米压印模板制备方法第一实施例的工艺流程示意图。

图4是本发明提供的纳米压印模板制备方法第二实施例的流程图。

图5是本发明提供的纳米压印模板制备方法第二实施例的工艺流程示意图。

具体实施方式

以下将结合附图详细说明本发明提供的纳米压印模板以及所述纳米压印模板的制备方法。

请参见图1，本发明实施例提供一种纳米压印模板100，其包括一柔性基底10以及形成于柔性基底10表面的聚合物层105。所述聚合物层105远离所述柔性基底10的表面形成有多个凸部104，任意相邻的两个凸部104之间定义一个凹槽106。所述多个凸部104及多个凹槽106组成一纳米图形108。

所述柔性基底10为一平板，其形状大小不限，可以为圆形平板，方形平板等，也可以根据实际需要制备。所述柔性基底10的材料为柔性透明高分子材料，具体可选自硅橡胶、聚氨脂、环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯及聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中的一种及其任意成份的共混。本实施例中，所述柔性基底10为4英寸硅片大小的圆形平板，其材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

所述聚合物层105形成于所述柔性基底10的表面，所述多个凸部104以及多个凹槽106为纳米级结构，其尺寸范围为50nm～200nm。所述聚合物层105为一聚合物组合物固化交联形成的固化交联物。所述聚合物组合物为高支化低聚物、全氟基聚乙醚、甲基丙烯酸甲酯、自由基引发剂以及有机稀释剂的组合。在所述聚合物组合物中，所述高支化低聚物的质量百分比含量优选为50％～60％，全氟基聚乙醚的质量百分比含量优选为3％～5％，甲基丙烯酸甲酯的质量百分比含量优选为5％～10％，所述有机稀释剂的质量百分比含量优选为25％～35％，所述自由基引发剂的质量百分比含量优选为0.1％～2％。

其中，所述高支化低聚物由环氧丙烯酸功能团、乙二醇功能团和1-羟基环已基苯基甲酮功能团改性的偏苯三酸酐功能团组成。具体地，所述高支化低聚物可以经由偏苯三酸酐、乙二硫醇与环氧丙烯酸共聚而成，还可以经由乙二醇与环氧丙烯酸开环共聚而成。本实施例中，所述高支化低聚物为乙二醇与环氧丙烯酸开环共聚而成。

所述全氟基聚乙醚的化学结构式为：

其中，m∶n＝0.6～11。全氟基聚乙醚末端基是丙烯酸酯结构可以参与紫外光固化，全氟的醚使得固化体系表面能较低，从而纳米压印模板的表面能较低具有较好的脱模性能，其长链贡献在于固化体系中大分子链间的缠结、交联，有助于提高纳米压印模板的模量，从而使得该纳米压印模板结构稳定。

所述有机稀释剂为二羟基乙基二甲基乙烯。所述自由基引发剂为光引发剂，所述光引发剂的作用为使得所述聚合物组合物材料中高支化低聚物、全氟基聚乙醚以及甲基丙烯酸甲酯组分在紫外光照的条件下实现固化交联。本实施例中，所述光引发剂可以是工艺名为1173，184，TPO等的光引发剂。以184为例，其化学结构式为：

为了进一步增强所述聚合物层105与所述柔性基底10之间的粘附力，所述纳米压印模板100还可以进一步包括一附着力增强层103，所述附着力增强层103设置在所述聚合物层105与所述柔性基底10之间。所述附着力增强层103的材料为附着力促进剂HD，HD为工业化硅烷偶联剂。HD的分子式为H₂C＝CCH₃COOCH₂CH₂Si(OCH₃)₃。

本发明进一步提供所述纳米压印模板的制备方法。请参阅图2及图3，所述纳米压印模板的制备方法第一实施例包括以下步骤：

步骤一，提供一柔性基底10，在所述柔性基底10的一个表面形成一聚合物组合物材料层110。

所述柔性基底10为一平板，其形状大小不限，可以为圆形平板，方形平板等。所述柔性基底10的材料为柔性透明高分子材料，具体可选自硅橡胶、聚氨脂、环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中的一种及其任意成份的共混。本实施例中，所述柔性基底10为4英寸硅片大小的圆形平板，所述柔性基底10的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

所述聚合物组合物材料层110的聚合物组合物材料由高支化低聚物、全氟基聚乙醚、甲基丙烯酸甲酯、自由基引发剂以及有机稀释剂组成。所述聚合物组合物材料层110的聚合物组合物材料可以采用以下方法制备：将质量百分比含量优选为50％～60％的高支化低聚物、质量百分比含量优选为3％～5％的全氟基聚乙醚、质量百分比含量优选为5％～10％的甲基丙烯酸甲酯、质量百分比含量优选为25％～35％的有机稀释剂，以及质量百分比含量优选为0.1％～2％的自由基引发剂充分共混，静置1～3小时后，获得一液态的聚合物混合物；采用规格为0.2μ～0.25μ的过滤器过滤上述液态的聚合物混合物，除去所述液态的聚合物混合物中的其他杂质，从而制得所述聚合物组合物材料。

在所述柔性基底10的一个表面形成一个聚合物组合物材料层110的方法可以为丝网印刷法或旋涂法等。

本实施例中，采用旋涂法于所述柔性基底10的一个表面旋涂上述聚合物组合物材料，旋涂转速为5400转/分钟～7000转/分钟，时间为0.5分钟～1.5分钟，然后在140℃～180℃烘烤3～5分钟。从而在基底10的一个表面形成一聚合物组合物材料层110，所述聚合物组合物材料层110的厚度优选为100纳米～300纳米。

另外，在所述柔性基底10的表面形成上述聚合物组合物材料层110之前，还可以先在所述柔性基底10的表面涂敷一附着力促进剂层103，用于增加所述聚合物组合物材料层110与所述柔性基底10之间的黏附力。本实施例中，所述附着力促进剂层103的材料为附着力促进剂HD，HD为工业化硅烷偶联剂。HD的分子式为H₂C＝CCH₃COOCH₂CH₂Si(OCH₃)₃。

步骤二，提供一个表面具有纳米图形208的模具20，并将所述模具20表面的纳米图形208复制到所述聚合物组合物材料层110。

步骤二具体包括以下步骤：

首先，提供一表面具有纳米图形208的模具20。

所述模具20的材料为硬性透明材料，如二氧化硅、石英、硼化玻璃等。所述模具20可以通过电子束曝光制备，所述模具20的表面形成有包括多个第一凸部24和多个第一凹槽26的第一纳米图形208。本实施例中，所述模具20的材料为石英。具体地，本实施例中所述模具20采用以下方法制备：提供一个石英基体，通过电子束曝光在石英基体的一个表面形成一个光刻胶构成的纳米图形；在上述光刻胶构成的纳米图形上沉积一层金属铬，用有机溶剂洗去所述光刻胶，从而在二氧化硅基体的一个表面形成一由金属铬构成的纳米图形；采用等离子束刻蚀的方法，将所述纳米图形转移到所述石英基体，从而得到一个由石英材料制成的模具20。此外，所述模具20还可以通过其他现有的方法制成。可以理解，纳米图形的图案不限，本领域技术人员可以根据需求制备出具有各种图案的纳米图形。

其次，将模具20形成有纳米图形208的表面与所述柔性基底10表面的聚合物组合物材料层110贴合，挤压所述模具20与基底10。

可以通过模具20向柔性基底10施加压力，使得所述模具20上的纳米图形208转移到所述聚合物组合物材料层110。本实施例中，通过压印机实现所述方法。具体地，将模具20与所述柔性基底10分别安装到压印机的两个压印盘，使模具20形成有纳米图形208的表面与所述柔性基底10表面的聚合物组合物材料层110贴合，设置压印机的真空度为5.0x10^-3百帕(mbar)；施加压力为12磅/平方英寸(Psi)～15磅/平方英寸(Psi)，保持5～10分钟，聚合物组合物材料层110的聚合物组合物材料具有较好的流动性，模具20的第一凸部24压到柔性基底10上的聚合物组合物材料层110中，使聚合物组合物材料充满模具20的纳米图形208中的第一凹槽26。

步骤三，光固化所述聚合物组合物材料层110，将所述模具20与所述柔性基体10分离，在所述柔性基底10表面形成包括多个凸部104及多个凹槽106的纳米图形108，从而获得一纳米压印模板100。

由于本实施例中模具20为透明模板，光固化所述聚合物组合物材料层110的聚合物组合物材料的方法，可以通过紫外光照射所述模具20的方式使得紫外光透过模具20照射到所述聚合物组合物材料上。所述聚合物组合物材料中的自由基引发剂为光引发剂，所述光引发剂的作用为使得所述聚合物组合物材料中高支化低聚物、全氟基聚乙醚以及甲基丙烯酸甲酯组分在紫外光照的条件下实现交联，从而固化所述聚合物组合物中的各组分。当聚合物组合物材料完全固化后，直接将所述模具20脱模，从而可以在所述柔性基底10的一个表面形成一聚合物层105，在该聚合物层105远离所述柔性基底10的表面形成有多个凸部104，以及多个凹槽106。所述凹槽106与所述模具20的第一凸部24对应，所述凸部104与所述模具20的第一凹槽26对应。所述多个凸部104及多个凹槽106组成一个纳米图形108。本实施例中，所述紫外光的能流密度为10～20毫焦/立方厘米(mJ/cm²)，照射时间为10～30min。

请参阅图4及图5，本发明的纳米压印模板的制备方法的第二实施例包括以下步骤：

步骤一，提供一表面具有第二纳米图形608的模具60，在模具60具有纳米图形608的表面形成聚合物组合物材料410。

本实施例中，所述模具60与第一实施例中的模具20完全相同，所述模具60的第二纳米图形608由多个第二凹槽66以及第二凸部64构成。所述聚合物组合物材料410与第一实施例中的聚合物组合物材料层110的材料完全相同。所述在608表面形成聚合物组合物材料410的方法包括旋涂，丝网印刷，超声波回流或抽真空铺展的自组装方法或直接滴定的方法形成均匀的聚合物组合物材料410。本实施例中，可以取一定量的聚合物组合物材料410，缓慢滴在所述模具60形成有第二纳米图形608的表面，在所述模具60形成有第二纳米图形608的表面沉积一定量的聚合物组合物材料410，然后将模具60于密闭的环境下静置1～2个小时。

步骤二，提供一柔性基底40，将所述柔性基底40覆盖所述模具60表面的聚合物组合物材料410，挤压所述模具60及柔性基底40，使所述聚合物组合物材料410黏附于所述柔性基底40。

本实施例中，所述柔性基底40与第一实施例中的柔性基底10的材料结构完全相同。具体地，将柔性基底40覆盖于所述模具60，使所述柔性基底40与所述模具60表面的聚合物组合物材料410相接触，将所述柔性基底40及所述模具60放置于压印机中；设置压印机的真空度为5.0x10^-3mbar，使聚合物组合物材料410具有较好的流动性，能够完全填充到模具60的第二凹槽66中；施加压力为12Psi～15Psi，保持5～10分钟，使聚合物组合物材料410充满第二凹槽66并粘附到柔性基底40的表面。

另外，可预先在所述柔性基底40的表面涂敷一附着力增强层403，然后再将柔性基底40涂敷有附着力增强层403的表面覆盖于所述模具60形成有聚合物组合物材料410的表面，从而可以提高所述聚合物材料410与柔性基底40的粘附力。本实施例中，所述附着力增强层403的材料为附着力促进剂HD，HD为工业化硅烷偶联剂。HD的分子式为H₂C＝CCH₃COOCH₂CH₂Si(OCH₃)₃。

步骤三，光固化所述聚合物组合物材料410，将所述模具60与所述柔性基体40分离，从而获得一纳米压印模具200。

本实施例中模具60为透明模具，因此可以通过紫外光照射模具60，使得紫外光透过模具60照射所述聚合物组合物材料410，所述聚合物组合物材料410中的各组分将会发生固化交联。当聚合物组合物材料410完全固化后，直接将所述模具60与所述柔性基底40分离，从而在所述柔性基底40表面形成一聚合物层405，所述聚合物层405远离所述柔性基底40的表面形成有多个凸部404及多个凹槽406。所述多个凸部404及多个凹槽406组成一纳米图形408，从而获得一纳米压印模板400。本实施例中，所述紫外光的能流密度为10～20mJ/cm²，照射时间为10～30min。

本实施例与第一实施例的区别在于，本实施例通过将聚合物组合物材料410形成于模具60具有纳米图形608的表面，然后再将柔性基底40施压在所述聚合组合物材料410，从而获得纳米压印模板400。

本发明实施例提供的纳米压印模板在使用时，可以先提供一个基底，然后在于该基底表面形成一抗蚀剂层，将所述纳米压印模板上的纳米图形压印在所述抗蚀剂层，然后通过紫外光固化所述抗蚀剂层的抗蚀剂，将所述纳米压印模板与所述抗蚀剂层分离，从而将纳米压印模板的纳米图形转移到所述抗蚀剂层，然后再通过刻蚀的方法在所述基底上形成纳米图形。由于本发明实施例提供的纳米压印模板的纳米图形采用所述包含高支化低聚物的聚合物组合物材料固化而成，所述聚合物组合物材料固化得到的纳米图形具有较高的模量，从而使得该纳米图形不易形变失效，具有较高的结构稳定性。由于聚合物组合物材料加入了全氟基聚乙醚参与光固化交联，全氟基聚乙醚为低表面能材料，使得聚合物组合物材料固化以后粘附性小，在脱模过程中避免了所述纳米压印模板与抗蚀剂粘连，从而易于脱模。从而使得使用本发明提供的纳米压印模板制作的纳米图形具有较高的完整性，且保真度好，从而避免了如使用含氟有机小分子的自组装等复杂的表面处理工艺，从而获得预期的低表面能纳米压印模板。

所述纳米压印模板及纳米压印模板的制备方法具有以下优点：其一，通过聚合物组合物材料在柔性基底的表面固化形成纳米图形，所述纳米压印模板具有柔性，不易破碎。其二，由于所述聚合物组合物材料包含高支化低聚物，所述聚合物组合物材料固化得到的纳米图形具有较高的模量，从而使得该纳米图形不易形变失效，具有较高的结构稳定性。其三，由于聚合物组合物材料加入了全氟基聚乙醚参与光固化交联，全氟基聚乙醚为低表面能材料，使得聚合物组合物材料固化以后粘附性小，在脱模过程中避免了所述纳米压印模板与抗蚀剂粘连，从而易于脱模，从而使得使用本发明提供的纳米压印模板制作的纳米图形具有较高的完整性，且保真度好。其四，本发明实施例提供的纳米压印模板的制备方法，通过光固化的方法，在常温下就可以完成，使得所述方法工艺简单，成本较低。

另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其他变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims

1.一种纳米压印模板，包括一柔性基底，以及一聚合物层形成于所述柔性基底的表面，该聚合物层远离所述柔性基底的表面形成有纳米图形，所述聚合物层为高支化低聚物、全氟基聚乙醚、甲基丙烯酸甲酯以及有机稀释剂的固化交联物。

2.如权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述纳米图形由多个凸部及多个凹槽组成。

3.如权利要求2所述的纳米压印模板，其特征在于，所述多个凸部形成在所述聚合物层远离所述柔性基底的表面，任意两个相邻的凸部之间形成一个凹槽。

4.如权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述高支化低聚物为偏苯三酸酐、乙二硫醇以及环氧丙烯酸共聚而成，或者为乙二醇和环氧丙烯酸开环共聚而成。

5.如权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述高支化低聚物由环氧丙烯酸功能团、乙二醇功能团和1-羟基环己基苯基甲酮功能团改性的偏苯三酸酐功能团这三种功能团组成。

6.如权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述有机稀释剂为二羟基乙基二甲基乙烯。

7.如权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述纳米压印模板还包括设置于所述柔性基底与所述聚合物层之间的附着力促进剂层。

8.如权利要求7所述的纳米压印模板，其特征在于，所述附着力促进剂层包括分子式为H₂C＝CCH₃COOCH₂CH₂Si(OCH₃)₃的材料。

9.一种纳米压印模板的制备方法，其包括以下步骤：

提供一柔性基底，在所述柔性基底的一个表面形成一聚合物组合物材料层，所述聚合物组合物由高支化低聚物，全氟基聚乙醚，甲基丙烯酸甲酯，自由基引发剂以及有机稀释剂组成；

提供一个表面具有纳米图形的模具，将所述模具表面的纳米图形复制到所述聚合物组合物材料层；以及

光固化所述聚合物组合物材料，将所述模具与所述柔性基底分离，在所述柔性基底表面形成包括多个凸部及多个凹槽的纳米图形。

10.如权利要求9所述的纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述聚合物组合物中，高支化低聚物的质量百分比含量为50％～60％，全氟基聚乙醚的质量百分比含量为3％～5％，甲基丙烯酸甲酯的质量百分比含量为5％～10％，所述有机稀释剂的质量百分比含量为25％～35％，所述自由基引发剂的质量百分比含量为0.1％～2％。

11.如权利要求9所述的纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述自由基引发剂为光引发剂。

12.如权利要求9所述的纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述提供一柔性基底，在所述柔性基底的一个表面形成一聚合物组合物材料层之前，进一步包括一在所述柔性基底表面涂敷附着力促进剂的步骤。

13.如权利要求12所述的纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述附着力促进剂的分子式为H₂C＝CCH₃COOCH₂CH₂Si(OCH₃)₃。

14.如权利要求9所述的纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述提供一个表面具有纳米图形的模具，将模具表面的纳米图形复制到所述聚合物组合物材料层的方法具体包括以下步骤：

提供一表面具有纳米图形的模具，所述模具的纳米图形包括多个第一凸部及多个第一凹槽；以及

将模具形成有纳米图形的表面与所述柔性基底表面的聚合物组合物材料层贴合，挤压所述模具与柔性基底。

15.如权利要求9所述的纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述光固化所述聚合物组合物材料的方法为紫外光固化。

16.一种纳米压印模板的制备方法，其包括以下步骤：

提供一表面具有纳米图形的模具，在模具具有纳米图形的表面形成聚合物组合物材料，所述聚合物组合物由高支化低聚物，全氟基聚乙醚，甲基丙烯酸甲酯，自由基引发剂以及有机稀释剂组成；

提供一柔性基底，将所述柔性基底覆盖所述模具表面的聚合物组合物材料，挤压所述模具及柔性基底，使所述聚合物组合物材料黏附于所述柔性基底；

光固化所述聚合物组合物材料，将所述模具与所述柔性基底分离，从而获得一纳米压印模板。

17.如权利要求16所述的纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述在模具具有纳米图形的表面形成聚合物组合物材料的方法包括旋涂，丝网印刷，超声波回流或抽真空铺展的自组装方法。