JP2016522146A - 減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法及び装置 - Google Patents
減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法及び装置 Download PDFInfo
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Abstract
Description
減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法であって、乾燥しようとするゲルを、密閉された抽気減圧又は/及び加熱昇温ができる乾燥装置内に入れ、抽気減圧、即ち勾配減圧又はスロー減圧の方法を用いて、又は昇温、即ち勾配昇温又はスロー昇温の方法を用いて、又は抽気減圧と昇温を同時に制御する方法を用いて、乾燥しようとするゲル内部の水と溶剤に作用し、水と溶剤が外へ揮発する外向きの力を生成して、抽気減圧又は/及び昇温の速度を制御し、この外向きの力を内向きの毛細管力に等しい又は接近させ、ゲル気孔に崩壊又は破裂を発生させなく、同時に乾燥し続けて、最終的に、内部の水と溶剤を全部除去し、上記の抽気減圧の制御は以下の通りであり、乾燥し始めるゲルに気液界面が発生する際に、気液界面に表面張力を形成して、同時に、三相界面に毛細管力を生成し、この毛細管力は液面凹点に向かう力であり、内へ崩壊する傾向がある力であり、F1で示し、同時に、減圧もゲルに外へ吸引する力を印加し、F2で示し、F1=F2、又はF1がF2に接近する際に、且つこの力の差がこの時の表面に乾燥し始めるゲルを十分に崩壊又は破裂させない限り、ゲルにおける溶剤と水を全部抽出するまでであり、上記昇温の制御説明は以下の通りであり、昇温加熱の作用で、乾燥装置内でのゲル内の水と溶剤が持続的に排出され、ゲル内部に気液界面を発生して、気液界面に表面張力が発生し、同時にゲルに三相界面を発生し、三相界面に毛細管力を生成し、毛細管力は表面張力に正比例して、毛細管の半径に反比例し、毛細管力は、内へ崩壊する傾向がある力であり、F3で示し、加熱によってゲル内部の水と溶剤の蒸気圧を高めて外への膨張力を発生させ、F4で示し、F3=F4、又はF3がF4に接近し、且つこの力の差は、この時の表面での乾燥し始めるゲル気孔を十分に崩壊又は破裂させない限り、ゲルが外から内へ次第に乾燥し、この時、ゆっくりと温度を昇温し、F3=F4又はF3がF4に接近するように保持してゲル気孔を完全に保持させ、ゲル中での溶剤と水を徹底的に全部で乾燥させるまでであり、上記で抽気減圧と昇温を用いると同時に制御する説明は以下の通りであり、抽気減圧と昇温の二重作用で、乾燥装置内でのゲル内の水と溶剤が持続的に排出され、ゲル内部に気液界面を発生して、ゲルに三相界面を発生する際に、表面張力を生成し、この毛細管力は内へ崩壊する傾向がある力であり、F5で示し、同時に、加熱によってゲル内部の水と溶剤に外に向かう力を発生させ、F6で示し、減圧によってゲル内の水と溶剤に発生した外向きの力をF7で示し、F5=F6+F7であり、又はF5がF6+F7に接近する際に、この力の差は、この時の表面に乾燥し始めるゲル気孔を十分に崩壊又は破裂させない限り、ゲルが次第に外から内へ次第に乾燥し、ゲル気孔が崩壊及び破裂しない場合に、次第にゲル中での溶剤と水を全部で乾燥と抽によって除去し、全部ゲル中の溶剤と水を除去した後に、再び180℃の乾燥温度で、ゲルに残された高沸点揮発物を除去する。
1、ゲル製造:
前駆体、溶剤、触媒を適切な比例で均一に混合し、プロセス時間にしたがって水解し、ゲル化する前又はゲル化し始めるばっかりで、ゲル化しようとする液体を準備したトレイ内に入れ、エージングボックス内又は直接に乾燥箱内に入れ、エージングボックスを密閉又は直接にトレイを独立に密封して、トレイ内にゆっくりとゲルを形成し、コロイドのゲル化速度は温度、ゲルのタイプ、溶剤濃度、水解時のPH値、ゲル化時のPH値に直接関係がある。通常で、室温が20-30℃である際に、20分間〜72時間放置してゲルを形成し、温度が高いほどゲル化が速くなり、ゲル化後、得られたゲルをエタノール溶液又は前駆体のエタノール溶液に浸けて浸漬老化し、老化時間が6時間〜48時間にあり、コロイド強度と生産効率を平衡するために12-24時間でより適切であり、シリカエアロゲルの製造を例として、オルトケイ酸テトラエチル又はオルトケイ酸テトラメチルを前駆体ケイ素源として、エタノールを溶剤として選択し、ギ酸、酢酸、弗化水素酸、塩酸などの任意の1種を水解触媒として、アンモニアをゲル化触媒として選択するが、これらに制限されなく、モル比で、オルトケイ酸テトラエチル又はオルトケイ酸テトラメチル:エタノール:水=1:4-8:3-6の比例で均一に混合して、ゆっくりと以上の酸(の希釈溶液)を加えて、例えば、まず弗化水素酸を水で希釈して、PH値を2-4に調整し、PHを3-4に制御することが好ましく、均一に混合して、PH値が安定した後に、オルトケイ酸テトラエチル又はオルトケイ酸テトラメチルとのモル比が0.01-0.2であるプロパントリオール又は/及びグリコール又は/及びホルムアミド又は/及びアセトアミドを加えてもしなくてもよく、加えると最終的に得られたエアロゲルの強度を強くさせ、均一に攪拌した後に、更に、ゆっくりとアンモニアのエタノール又はアセトン又は水の希溶液を加え、PH値を5-7.5に調整して、PHが6.3-6.9にあることが好ましく、5−60分間攪拌して、次に、このゲル製造用液体を乾燥用トレイ内に輸送して、エージングボックス内又は乾燥箱内に置き、エージングボックスを密閉し又はトレイを密封し、20分間〜72時間放置してゲルを取得して、ゲルをエタノール又はオルトケイ酸テトラエチル又はオルトケイ酸テトラメチルの重量が5%-50%であるエタノール溶液に浸け、12時間〜72時間老化し、通常で24-48時間老化し、強度がよいゲルを取得する。通常でこの過程に温度を25-30℃に制御する。
ゲルをn-ヘキサン又はn-ヘプタン又はn-ヘキサンとn-ヘプタンの任意の混合比例の溶液に浸けて、溶剤置換を行い、毎回の置換時間が1-6時間である。3-8回行う。通常に毎回で2-4時間置換し、4-6回置換する。目的はできるだけゲル内部の水とエタノールを置換する。この時、直接に乾燥して親水エアロゲルを取得する。
勾配減圧又はスロー減圧の方法によってエアロゲルを製造する場合に、乾燥装置内の温度を20-40℃に制御し、25-35℃が最も好ましく、最初の乾燥圧力が環境大気圧であり、真空ポンプを起動して減圧乾燥し始め、吸気弁を制御する又は真空ポンプモータを開閉する方法によって勾配又は連続的な圧力制御を実現し、エアロゲルの厚さが0.5-10センチメートルであり、最初の1、2時間で、十分間ごとに圧力を0.01-0.02の大気圧下げ、3、4時間で、十分間ごとに圧力を0.02-0.03の大気圧下げ、5時間の後、十分間ごとに0.03-0.04の大気圧下げ、次第に0.5-0.6の大気圧に下げる際に、該大気圧を1.5-2.5時間保持し、乾燥程度を検出して、サンプリングして秤量することによって検査が基準に達するまでである。
減圧乾燥したエアロゲルを乾燥ボックスに置いて迅速に170℃-190℃に昇温し、ベーキング時間が10分間〜2時間(エアロゲルの厚さに応じてベーキング時間を選択し、厚いほど時間が長くなる)であり、加熱を停止して、高気孔率、低密度、低熱伝導度のシリカエアロゲルを取得する。
ステップ1、2はプロセススキーム1と同様であり、
ステップ3、勾配昇温加熱乾燥
勾配昇温又はスロー昇温の方法によって乾燥し、厚さが0.5-10のセンチメートルのエアロゲルを加熱装置に置いて、加熱乾燥し、最初の温度が環境温度であり、最初にエアロゲルの表面強度が非常に低いため、降温速度が遅いのを要求し、エアロゲルの表面強度が持続的に強くなるに伴って、適切に昇温速度を加速し、最初の1、2時間で十分間ごとに0.1-0.3℃昇温し、3、4時間で十分間ごとに0.3-0.6℃昇温し、5、6時間で、十分間ごとに0.6-1.0℃昇温し、7時間の後で、十分間ごとに1.0-1.5℃昇温し、次第に60℃に昇温する際に30-50分間保持し、サンプリングして秤量することによって検査が基準に達するまで終わり、次に、迅速に170℃〜180℃昇温し、15分間〜1時間保持し(エアロゲルの厚さに応じてベーキング時間を選択し、厚いほど時間が長くなる)、完全な三次元構造を有する高気孔率のエアロゲルを取得する。
ステップ1、2はプロセススキーム1と同様であり、
ステップ3、勾配昇温加熱と勾配減圧乾燥
勾配減圧又は次第減圧と勾配昇温又は次第昇温加熱を同時に制御する方法を用いて、厚さが5-20のセンチメートルのエアロゲルを加熱と抽気減圧の両方ができる乾燥装置において、同時に加熱と減圧を行い、減圧には勾配減圧又はスロー減圧を用いて、最初にゲルの表面構造強度が非常に低いため、減圧速度が遅いのを要求し、表面強度が強くなるに伴って、適切に減圧速度を加速し、減圧乾燥方法によってエアロゲルを製造する際に、最初の1、2時間で、十分間ごとに圧力を0.01-0.02の大気圧下げ、3、4時間で、十分間ごとに圧力を0.02-0.03の大気圧下げ、5時間の後、十分間ごとに0.03-0.04の大気圧下げ、次第に0.5-0.6の大気圧に下げる際に、同時に加熱乾燥して、最初温度は環境温度であり、最初にエアロゲルの表面強度が非常に低いため、降温速度が遅いのを要求し、エアロゲルの表面強度が持続的に強くなるに伴って、適切に昇温速度を加速し、最初の1、2時間で十分間ごとに0.1-0.2昇温し、3、4時間で十分間ごとに0.3-0.5昇温し、5時間後で、十分間ごとに0.5-0.7℃昇温し、次第に60℃に昇温する際に30-50分間保持し、サンプリングして秤量することによって検査が基準に達するまで終わり、次に、迅速に170℃〜180℃昇温し、15分間〜1時間保持して完全な三次元構造を有する高気孔率のエアロゲルを取得する。
Claims (6)
- 減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法であって、乾燥しようとするゲルを、密閉された抽気減圧又は/及び加熱昇温ができる乾燥装置内に入れ、抽気減圧、即ち勾配減圧又はスロー減圧の方法を用いて、又は昇温、即ち勾配昇温又はスロー昇温の方法を用いて、又は抽気減圧と昇温を同時に制御する方法を用いて、乾燥しようとするゲル内部の水と溶剤に作用し、水と溶剤が外へ揮発する外向きの力を生成して、抽気減圧又は/及び昇温の速度を制御し、この外向きの力を内向きの毛細管力に等しい又は接近させ、ゲル気孔に崩壊又は破裂を発生させなく、同時に乾燥し続けて、最終的に、内部の水と溶剤を全部除去し、上記抽気減圧の方法は以下の通りであり、乾燥し始めるゲルに気液界面が発生する際に、気液界面に表面張力を形成して、同時に、三相界面に液面凹点に向かう力、内へ崩壊する傾向がある力である毛細管力を発生し、F1で示し、同時に、減圧もゲルに外へ吸引する力を印加し、F2で示し、F1=F2、又はF1がF2に接近する際に、且つこの力の差がこの時の表面に乾燥し始めるゲルを十分に崩壊又は破裂させない限り、ゲルにおける溶剤と水を全部抽出するまでであり、上記昇温の方法は以下の通りであり、昇温加熱の作用で、乾燥装置内でのゲル内の水と溶剤が持続的に排出され、ゲル内部に気液界面を発生して、気液界面に表面張力が発生し、同時にゲルに三相界面を発生し、三相界面に毛細管力を生成し、毛細管力は表面張力に正比例して、毛細管の半径に反比例し、毛細管力は、内へ崩壊する傾向がある力であり、F3で示し、加熱によってゲル内部の水と溶剤の蒸気圧を高めて外への膨張力を発生させ、F4で示し、F3=F4、又はF3がF4に接近し、且つこの力の差は、この時の表面での乾燥し始めるゲル気孔を十分に崩壊又は破裂させない限り、ゲルが外から内へ次第に乾燥し、この時、ゆっくりと温度を昇温し、F3=F4又はF3がF4に接近するように保持してゲル気孔を完全に保持させ、ゲル中での溶剤と水を徹底的に全部で乾燥させるまでであり、上記の抽気減圧と昇温を同時に制御する方法は以下の通りであり、抽気減圧と昇温の二重作用で、乾燥装置内でのゲル内の水と溶剤が持続的に排出され、ゲル内部に気液界面を発生して、ゲルに三相界面を発生する際に、表面張力を生成し、この毛細管力は内へ崩壊する傾向がある力であり、F5で示し、同時に、加熱によってゲル内部の水と溶剤に外に向かう力を発生させ、F6で示し、減圧によってゲル内の水と溶剤に発生した外向きの力をF7で示し、F5=F6+F7であり、又はF5がF6+F7に接近する際に、この力の差は、この時の表面に乾燥し始めるゲル気孔を十分に崩壊又は破裂させない限り、ゲルが次第に外から内へ次第に乾燥し、ゲル気孔が崩壊及び破裂しない場合に、次第にゲル中での溶剤と水を全部で乾燥と抽によって除去し、上記の方法によって全部ゲル中の溶剤と水を除去した後に、再び180℃の乾燥温度で、ゲルに残された高沸点揮発物を除去する減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法。
- 勾配減圧又はスロー減圧の方法によってエアロゲルを製造する場合に、乾燥装置内の温度を20-40℃に制御し、好ましくは25-35℃であり、最初の乾燥圧力は環境大気圧であり、真空ポンプを起動して減圧乾燥し始め、吸気弁を制御する又は真空ポンプモータを開閉する方法によって勾配又は連続的な圧力制御を実現し、エアロゲルの厚さが0.5-10センチメートルであり、減圧速度は、最初の1、2時間で、十分間ごとに圧力を0.01-0.02の大気圧下げ、3、4時間で、十分間ごとに圧力を0.02-0.03の大気圧下げ、5時間の後、十分間ごとに0.03-0.04の大気圧下げ、以上の速度で減圧し、次第に0.5-0.6の大気圧に下げる際に、該大気圧を1.5-2.5時間保持し、乾燥程度を検出して、サンプリングして秤量することによって検査が基準に達するまで、減圧乾燥したエアロゲルを乾燥ボックスに置いて迅速に170℃-190℃に昇温し、乾燥時間が10分間〜2時間であり、加熱を停止して、高気孔率、低密度、低熱伝導度のシリカエアロゲルを取得する請求項1に記載の減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法。
- 勾配昇温又はスロー昇温の方法によって乾燥し、厚さが0.5-10のセンチメートルのエアロゲルを加熱装置に置いて、加熱乾燥し、最初の温度が環境温度であり、最初にエアロゲルの表面強度が非常に低いため、降温速度が遅いのを要求し、エアロゲルの表面強度が持続的に強くなるに伴って、適切に昇温速度を加速し、昇温速度は、最初の1、2時間で十分間ごとに0.1-0.3℃昇温し、3、4時間で十分間ごとに0.3-0.6℃昇温し、5、6時間で、十分間ごとに0.6-1.0℃昇温し、7時間の後で、十分間ごとに1.0-1.5℃昇温し、以上の昇温速度で昇温し、次第に60℃に昇温する際に30-50分間保持し、サンプリングして秤量することによって検査が基準に達するまで終わり、次に、迅速に170℃〜180℃昇温し、15分間〜1時間保持して完全な三次元構造を有する高気孔率のエアロゲルを取得する請求項1に記載の減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法。
- 勾配減圧又は次第減圧と勾配昇温又は次第昇温加熱を同時に制御する方法を用いて、厚さが5-10のセンチメートルのエアロゲルを加熱と抽気減圧の両方ができる乾燥装置において、同時に加熱と減圧を行い、減圧には勾配減圧又はスロー減圧を用いて、最初にゲルの表面構造強度が非常に低いため、減圧速度が遅いのを要求し、表面強度が強くなるに伴って、適切に減圧速度を加速し、減圧乾燥方法によってエアロゲルを製造する際に、減圧速度は、最初の1、2時間で、十分間ごとに圧力を0.01-0.02の大気圧下げ、3、4時間で、十分間ごとに圧力を0.02-0.03の大気圧下げ、5時間の後、十分間ごとに0.03-0.04の大気圧下げ、以上の速度で減圧し、次第に0.5-0.6の大気圧に下げる際に、同時に加熱乾燥して、最初温度は環境温度であり、始める際にエアロゲルの表面強度が非常に低いため、降温速度が遅いのを要求し、エアロゲルの表面強度が持続的に強くなるに伴って、適切に昇温速度を加速し、昇温速度は、最初の1、2時間で十分間ごとに0.1-0.2昇温し、3、4時間で十分間ごとに0.3-0.5昇温し、5時間の後で、十分間ごとに0.5-0.7℃昇温し、以上の昇温速度で昇温し、次第に60℃に昇温する際に30-50分間保持し、サンプリングして秤量することによって検査が基準に達するまで終わり、次に、迅速に170℃〜180℃昇温し、15分間〜1時間保持して完全な三次元構造を有する高気孔率のエアロゲルを取得する請求項1に記載の減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法。
- 上記乾燥方法によってエアロゲルを製造する前に、疎水性エアロゲルを製造すると、疎水処理を行う際に、溶剤置換後のゲルをモル比がトリメチルクロロシラン:n-ヘキサン/n-ヘプタン=0.5-3:10の溶液に入れて6-48時間浸けて、疎水処理後、クロロシラン疎水反応に発生した塩酸を洗浄するために、疎水処理後のゲルを再びn-ヘキサン/n-ヘプタン溶液に1-2回浸けて、毎回1-2時間であり、この時、得られたゲルが乾燥しようとするゲルとして乾燥する請求項1、2、3又は4に記載の減圧乾燥によるエアロゲルの製造方法。
- 減圧乾燥によるエアロゲルの製造乾燥装置であって、ドア付きの密封装置、密封装置内のエアロゲルトレイ載置スタンド、密封装置内の加熱器、密封装置における制御弁を有する吸気排気出口、密封装置に接続される真空引きパイプライン及び1台の内蔵又は外付けの真空ポンプを含み、前記密封装置は1つの吸気孔と2つの排気孔があり、又は2つ又は2つ以上の吸気孔と2つ又は2つ以上の排気孔があり、各吸気孔と排気孔にバルブ付きのパイプラインを取り付け、その中の少なくとも1つの排気管は真空ポンプに接続され、排ガス廃液処理装置に通じ合い、減圧抽気することに用いられ、少なくとも1つの排気管は直接に排ガス廃液処理装置に通じ合い、密封装置又は/及び排気パイプラインには、加熱乾燥用の内部循環ファンが設けられることを特徴とする減圧乾燥によるエアロゲルの製造乾燥装置。
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