JP2014220439A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2014220439A5
JP2014220439A5 JP2013099833A JP2013099833A JP2014220439A5 JP 2014220439 A5 JP2014220439 A5 JP 2014220439A5 JP 2013099833 A JP2013099833 A JP 2013099833A JP 2013099833 A JP2013099833 A JP 2013099833A JP 2014220439 A5 JP2014220439 A5 JP 2014220439A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
chip
main surface
semiconductor
die pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013099833A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014220439A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013099833A priority Critical patent/JP2014220439A/ja
Priority claimed from JP2013099833A external-priority patent/JP2014220439A/ja
Priority to US14/259,842 priority patent/US9275945B2/en
Priority to CN201410199214.6A priority patent/CN104143518A/zh
Publication of JP2014220439A publication Critical patent/JP2014220439A/ja
Priority to HK14112255.9A priority patent/HK1198783A1/xx
Priority to US15/015,607 priority patent/US9385072B2/en
Publication of JP2014220439A5 publication Critical patent/JP2014220439A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Claims (17)

  1. 以下の工程を含む半導体装置の製造方法:
    (a)ダイパッド、前記ダイパッドを支持する複数の吊りリードおよび平面視において前記ダイパッドの周囲に配置された複数のリードを備えたリードフレームと、
    第1主面、前記第1主面の各辺に沿って前記第1主面上に形成された複数の第1パッドおよび前記第1主面とは反対側の第1裏面を有する第1半導体チップと、
    第2主面、前記第2主面の各辺に沿って前記第2主面上に形成された複数の第2パッドおよび前記第2主面とは反対側の第2裏面を有する第2半導体チップと、
    をそれぞれ準備する工程;
    (b)前記(a)工程の後、前記ダイパッドのチップ搭載面における第1チップ搭載領域に前記第1半導体チップを搭載し、
    前記ダイパッドのチップ搭載面において前記第1チップ搭載領域の隣に位置する第2チップ搭載領域に前記第2半導体チップを搭載する工程;
    (c)前記(b)工程の後、前記第1半導体チップの前記複数の第1パッドのうちの複数のリード接続用パッドと前記複数のリードのうちの第1リード群とを複数の第1ワイヤを介して、
    前記第2半導体チップの前記複数の第2パッドのうちの複数のリード接続用パッドと前記複数のリードのうちの第2リード群とを複数の第2ワイヤを介して、
    前記第1半導体チップの前記複数の第1パッドのうちの複数のチップ間接続用パッドと前記第2半導体チップの前記複数の第2パッドのうちの複数のチップ間接続用パッドとを複数の第3ワイヤを介して、
    それぞれ電気的に接続する工程;
    (d)前記ダイパッドの前記チップ搭載面とは反対側の面および前記複数のリードのそれぞれの一部が露出するように、前記ダイパッド、前記第1半導体チップ、前記第2半導体チップ、前記複数の第1ワイヤ、前記複数の第2ワイヤおよび前記複数の第3ワイヤを樹脂で封止する工程;
    ここで、
    前記(b)工程では、前記第1主面の第1辺と前記第2主面の第1辺とが互いに隣り合うように、前記第1半導体チップおよび第2半導体チップを搭載し、
    前記(c)工程では、前記複数の第3ワイヤのそれぞれにおいて、前記第2半導体チップに前記第3ワイヤの第1部分を電気的に接続した後、前記第1半導体チップに前記第3ワイヤの第2部分を電気的に接続し、
    前記第1半導体チップの第1辺に沿って形成された前記第1半導体チップの複数のチップ間接続用パッドから前記第1半導体チップの第1辺までの距離は、前記第2半導体チップの第1辺に沿って形成された前記第2半導体チップの複数のチップ間接続用パッドから前記第2半導体チップの第1辺までの距離よりも大きく、
    前記リードフレームの厚さ方向において、前記第1半導体チップおよび前記第2半導体チップの前記第1主面および前記第2主面は、前記複数のリードのそれぞれと前記ダイパッドの間に位置する。
  2. 請求項1において、
    前記第1半導体チップの厚さは、前記第2半導体チップの厚さよりも薄い、半導体装置の製造方法。
  3. 請求項2において、
    前記(a)工程で準備する前記第1半導体チップの前記第1主面の周縁部には、金属パターンが形成されている、半導体装置の製造方法。
  4. 請求項3において、
    前記(d)工程では、成形金型が有するキャビティ内に、前記第1半導体チップ、第2半導体チップ、前記ダイパッド、前記複数の第1ワイヤ、前記複数の第2ワイヤ、前記複数の第3ワイヤ、および前記複数のリードそれぞれの一部を配置した状態で、前記キャビティ内に樹脂を圧入して封止体を形成する、半導体装置の製造方法。
  5. 請求項1において、
    前記(a)工程では、前記複数のチップ間接続用パッドのそれぞれに、突起電極が予め形成された前記第1半導体チップを準備する、半導体装置の製造方法。
  6. 請求項1において、
    前記(a)工程で準備する前記第1半導体チップには、前記第1主面の第2辺に沿って、前記第1半導体チップの複数のリード接続用パッドの一部が配置されており、
    前記第1半導体チップの前記第2辺に沿って配置される前記第1半導体チップの複数のリード接続用パッドから前記第1半導体チップの前記第2辺までの距離は、前記第1半導体チップの複数のチップ間接続用パッドから前記第1半導体チップの第1辺までの距離よりも小さい、半導体装置の製造方法。
  7. 請求項1において、
    前記(a)工程で準備する前記リードフレームの前記複数の吊りリードのそれぞれには、第1折り曲げ加工部と、第2折り曲げ加工部と、が形成されている、半導体装置の製造方法。
  8. 請求項1において、
    前記(a)工程で準備する前記リードフレームの前記ダイパッドには、前記第1チップ搭載領域および前記第2チップ搭載領域の周囲に、複数の窪み部が形成されている、半導体装置の製造方法。
  9. 請求項3において、
    前記(a)工程で準備する前記第2半導体チップの前記第2主面の周縁部には、金属パターンが形成されている、半導体装置の製造方法。
  10. ダイパッドと、
    前記ダイパッドに接続される複数の吊りリードと、
    平面視において前記ダイパッドの周囲に配置されている複数のリードと、
    第1主面、前記第1主面の各辺に沿って前記第1主面上に形成された複数の第1パッドおよび前記第1主面とは反対側の第1裏面を有し、前記ダイパッドのチップ搭載面の第1チップ搭載領域に搭載されている第1半導体チップと、
    第2主面、前記第2主面の各辺に沿って前記第2主面上に形成された複数の第2パッドおよび前記第2主面とは反対側の第2裏面を有し、前記ダイパッドの前記チップ搭載面の第2チップ搭載領域に搭載されている第2半導体チップと、
    前記第1半導体チップの前記複数の第1パッドのうちの複数のリード接続用パッドと前記複数のリードのうちの第1リード群とに接続されている複数の第1ワイヤと、
    前記第2半導体チップの前記複数の第2パッドのうちの複数のリード接続用パッドと前記複数のリードのうちの第2リード群とに接続されている複数の第2ワイヤと、
    前記第1半導体チップの前記複数の第1パッドのうちの複数のチップ間接続用パッドと前記第2半導体チップの前記複数の第2パッドのうちの複数のチップ間接続用パッドとに電気的に接続されている複数の第3ワイヤと、
    前記ダイパッドの前記チップ搭載面とは反対側の面および前記複数のリードのそれぞれの一部が露出するように、前記ダイパッド、前記第1半導体チップ、前記第2半導体チップ、前記複数の第1ワイヤ、前記複数の第2ワイヤ、および前記複数の第3ワイヤを封止する封止体と、
    を有し、
    前記第1半導体チップおよび前記第2半導体チップは、前記第1主面の第1辺と前記第2主面の第1辺とが互いに隣り合うように、前記ダイパッドに搭載されており、
    前記第1半導体チップの第1辺に沿って形成された前記第1半導体チップの複数のチップ間接続用パッドから前記第1半導体チップの第1辺までの距離は、前記第2半導体チップの第1辺に沿って形成された前記第2半導体チップの複数のチップ間接続用パッドから前記第2半導体チップの第1辺までの距離よりも大きく、
    前記封止体の厚さ方向において、前記第1半導体チップおよび前記第2半導体チップの前記第1主面および前記第2主面は、前記複数のリードのそれぞれと前記ダイパッドの間に位置する、半導体装置。
  11. 請求項10において、
    前記第1半導体チップの厚さは、前記第2半導体チップの厚さよりも薄い、半導体装置。
  12. 請求項11において、
    前記第1半導体チップの前記第1主面の周縁部には、金属パターンが形成されている、半導体装置。
  13. 請求項10において、
    前記第1半導体チップの複数のチップ間接続用パッドのそれぞれには、突起電極が形成され、前記複数の第3ワイヤのそれぞれは、一方の端部が前記突起電極に接合されている、半導体装置。
  14. 請求項10において、
    前記第1半導体チップには、前記第1主面の第2辺に沿って、前記第1半導体チップの複数のリード接続用パッドの一部が配置されており、
    前記第1半導体チップの前記第2辺に沿って配置される前記第1半導体チップの複数のリード接続用パッドから前記第1半導体チップの前記第2辺までの距離は、前記第1半導体チップの複数のチップ間接続用パッドから前記第1半導体チップの第1辺までの距離よりも小さい、半導体装置。
  15. 請求項10において、
    前記複数の吊りリードのそれぞれには、第1折り曲げ加工部と、第2折り曲げ加工部と、が形成されている、半導体装置。
  16. 請求項10において、
    前記ダイパッドには、前記第1チップ搭載領域および前記第2チップ搭載領域の周囲に、複数の窪み部が形成されている、半導体装置。
  17. 請求項12において、
    前記第2半導体チップの前記第2主面の周縁部には、金属パターンが形成されている、半導体装置。
JP2013099833A 2013-05-10 2013-05-10 半導体装置の製造方法および半導体装置 Pending JP2014220439A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013099833A JP2014220439A (ja) 2013-05-10 2013-05-10 半導体装置の製造方法および半導体装置
US14/259,842 US9275945B2 (en) 2013-05-10 2014-04-23 Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device
CN201410199214.6A CN104143518A (zh) 2013-05-10 2014-05-12 制造半导体器件的方法以及半导体器件
HK14112255.9A HK1198783A1 (en) 2013-05-10 2014-12-04 Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device
US15/015,607 US9385072B2 (en) 2013-05-10 2016-02-04 Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013099833A JP2014220439A (ja) 2013-05-10 2013-05-10 半導体装置の製造方法および半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014220439A JP2014220439A (ja) 2014-11-20
JP2014220439A5 true JP2014220439A5 (ja) 2016-04-07

Family

ID=51852663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013099833A Pending JP2014220439A (ja) 2013-05-10 2013-05-10 半導体装置の製造方法および半導体装置

Country Status (4)

Country Link
US (2) US9275945B2 (ja)
JP (1) JP2014220439A (ja)
CN (1) CN104143518A (ja)
HK (1) HK1198783A1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9893058B2 (en) * 2015-09-17 2018-02-13 Semiconductor Components Industries, Llc Method of manufacturing a semiconductor device having reduced on-state resistance and structure
JP6673012B2 (ja) * 2016-05-26 2020-03-25 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
DE102017202770B4 (de) * 2016-08-31 2023-06-07 Infineon Technologies Austria Ag Halbleiterchipgehäuse mit einem sich wiederholenden Grundflächenmuster
JP2018107416A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2018137342A (ja) 2017-02-22 2018-08-30 株式会社村田製作所 半導体装置及びその製造方法
US10741466B2 (en) 2017-11-17 2020-08-11 Infineon Technologies Ag Formation of conductive connection tracks in package mold body using electroless plating
KR102605122B1 (ko) 2017-12-08 2023-11-24 인피니언 테크놀로지스 아게 공기 캐비티를 갖는 반도체 패키지
JP7199167B2 (ja) 2018-06-29 2023-01-05 三菱電機株式会社 パワー半導体モジュール、電力変換装置、およびパワー半導体モジュールの製造方法
US10796981B1 (en) 2019-04-04 2020-10-06 Infineon Technologies Ag Chip to lead interconnect in encapsulant of molded semiconductor package
US11133281B2 (en) 2019-04-04 2021-09-28 Infineon Technologies Ag Chip to chip interconnect in encapsulant of molded semiconductor package
CN112018052A (zh) 2019-05-31 2020-12-01 英飞凌科技奥地利有限公司 具有可激光活化模制化合物的半导体封装
KR102119142B1 (ko) * 2019-10-01 2020-06-05 해성디에스 주식회사 웨이퍼 레벨 패키지의 캐리어를 리드 프레임으로 제작하는 방법
CN111354718B (zh) * 2020-03-23 2022-02-25 江苏中科智芯集成科技有限公司 含多芯片封装结构的芯片排列布线方法、装置及电子设备
US11587800B2 (en) 2020-05-22 2023-02-21 Infineon Technologies Ag Semiconductor package with lead tip inspection feature

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10335366A (ja) * 1997-05-30 1998-12-18 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP3039488B2 (ja) * 1997-11-21 2000-05-08 日本電気株式会社 半導体装置
JP3768761B2 (ja) * 2000-01-31 2006-04-19 株式会社日立製作所 半導体装置およびその製造方法
JP2002076234A (ja) * 2000-08-23 2002-03-15 Rohm Co Ltd 樹脂封止型半導体装置
US20020180020A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-05 Chih-Wen Lin Three-dimension multi-chip stack package technology
JP4605996B2 (ja) * 2003-05-29 2011-01-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置の製造方法
JP4489485B2 (ja) * 2004-03-31 2010-06-23 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP4357344B2 (ja) * 2004-04-16 2009-11-04 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
KR100630741B1 (ko) * 2005-03-04 2006-10-02 삼성전자주식회사 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP4881620B2 (ja) * 2006-01-06 2012-02-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP4900661B2 (ja) * 2006-02-22 2012-03-21 ルネサスエレクトロニクス株式会社 不揮発性記憶装置
US7969022B1 (en) * 2007-03-21 2011-06-28 Marvell International Ltd. Die-to-die wire-bonding
JP5239309B2 (ja) * 2007-11-21 2013-07-17 株式会社村田製作所 半導体装置
JP5183186B2 (ja) * 2007-12-14 2013-04-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP2010087129A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Sanyo Electric Co Ltd 回路装置およびその製造方法
JP2010165777A (ja) * 2009-01-14 2010-07-29 Renesas Technology Corp 半導体装置及びその製造方法
KR101601847B1 (ko) * 2009-05-21 2016-03-09 삼성전자주식회사 반도체 패키지
JP5237900B2 (ja) * 2009-08-11 2013-07-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
JP5302175B2 (ja) 2009-12-14 2013-10-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
EP2571052A4 (en) * 2010-05-12 2017-04-19 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and method of manufacturing the same
CN102184907A (zh) * 2011-04-19 2011-09-14 无锡红光微电子有限公司 To3p防水密封引线框架
JP5266371B2 (ja) * 2011-08-04 2013-08-21 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP6129659B2 (ja) * 2013-06-25 2017-05-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014220439A5 (ja)
JP2009076658A5 (ja)
JP2013247131A5 (ja) 半導体装置
JP2010245417A5 (ja) 半導体装置
EP3093877A3 (en) Semiconductor package and fabrication method thereof
JP2012119648A5 (ja)
JP2011142264A5 (ja)
JP2008227531A5 (ja)
TWI456675B (zh) 半導體元件、半導體封裝元件及其製作方法
JP2011176271A5 (ja)
JP2012028429A5 (ja) 半導体装置
JP2011066327A5 (ja)
JP2014515187A5 (ja)
JP2012054264A5 (ja)
JP2008218469A5 (ja)
TWI716532B (zh) 樹脂密封型半導體裝置
JP2015115419A5 (ja)
JP5278037B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2009117819A5 (ja)
JP2005150647A5 (ja)
JP2010123592A5 (ja)
JP2008117875A5 (ja)
JP2012069690A5 (ja)
JP2004363365A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2011003764A5 (ja) 半導体装置