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  1. 半導体膜と、
    前記半導体膜と電気的に接続されている一対の第1導電膜と、
    一対の前記第1導電膜とそれぞれ電気的に接続されている一対の第2導電膜と、
    第3導電膜と、
    前記半導体膜と前記第3導電膜との間の領域を有する絶縁膜と、を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の一方と一対の前記第2導電膜の一方との間の領域を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の他方と一対の前記第2導電膜の他方との間の領域を有し、
    し、
    チャネル長方向において、一対の前記第2導電膜の間隔は、一対の前記第1導電膜の間隔よりも長い半導体装置。
  2. 半導体膜と、
    前記半導体膜と電気的に接続されている一対の第1導電膜と、
    一対の前記第1導電膜とそれぞれ電気的に接続されている一対の第2導電膜と、
    第3導電膜と、
    前記半導体膜と前記第3導電膜との間の領域を有する絶縁膜と、を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の一方と一対の前記第2導電膜の一方との間の領域を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の他方と一対の前記第2導電膜の他方との間の領域を有し、
    し、
    一対の前記第2導電膜は、前記半導体膜の上方に位置し、
    チャネル長方向において、一対の前記第2導電膜の間隔は、一対の前記第1導電膜の間隔よりも長い半導体装置。
  3. 層上の半導体膜と、
    前記半導体膜と電気的に接続されている一対の第1導電膜と、
    一対の前記第1導電膜とそれぞれ電気的に接続されている一対の第2導電膜と、
    第3導電膜と、
    前記半導体膜と前記第3導電膜との間の領域を有する絶縁膜と、を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の一方と一対の前記第2導電膜の一方との間の領域を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の他方と一対の前記第2導電膜の他方との間の領域を有し、
    し、
    前記層は、一対の第4導電膜と、一対の前記第4導電膜の間の領域を有する第2絶縁膜と、を有し、
    一対の前記第4導電膜は、一対の前記第1導電膜とそれぞれ電気的に接続されており、
    チャネル長方向において、一対の前記第2導電膜の間隔は、一対の前記第1導電膜の間隔よりも長い半導体装置。
  4. 層上の半導体膜と、
    前記半導体膜と電気的に接続されている一対の第1導電膜と、
    一対の前記第1導電膜とそれぞれ電気的に接続されている一対の第2導電膜と、
    第3導電膜と、
    前記半導体膜と前記第3導電膜との間の領域を有する絶縁膜と、を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の一方と一対の前記第2導電膜の一方との間の領域を有し、
    前記半導体膜は、一対の前記第1導電膜の他方と一対の前記第2導電膜の他方との間の領域を有し、
    し、
    一対の前記第2導電膜は、前記半導体膜の上方に位置し、
    前記層は、一対の第4導電膜と、一対の前記第4導電膜の間の領域を有する第2絶縁膜と、を有し、
    一対の前記第4導電膜は、一対の前記第1導電膜とそれぞれ電気的に接続されており、
    チャネル長方向において、一対の前記第2導電膜の間隔は、一対の前記第1導電膜の間隔よりも長い半導体装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか1項において、
    前記一対の第1導電膜の膜厚が、10nm以上300nm以下である半導体装置。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか1項において、
    前記半導体膜は、酸化物半導体を有する半導体装置。
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