JP2011082768A - 固体撮像装置および撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】異なる色の出力同士のクロストークを低減する。
【解決手段】二次元状に複数が画素が配置された画素アレイと、カラーフィルタとを備えた固体撮像装置において、各画素列に2列の読出線が設けられる。画素行は、2つにグループ分けされ、それぞれ同一カラーの画素で構成される複数のサブグループ細分けされる。第1グループの画素行の画素の信号は第1列読出線、第2グループの画素行の画素信号は、第2列読出線に出力される。各画素は、光電変換素子および転送素子を含み、同一の画素列かつ同一のサブグループに属する複数の画素が変換領域および増幅素子を共有し、前記光電変換素子で発生した電荷が前記転送素子によって前記変換領域に転送され、該転送された電荷が前記変換領域で電圧に変換され、その電圧が前記増幅素子によって増幅される。1つの前記変換領域と他の前記変換領域とは互いに交差していない。
【選択図】図2

Description

本発明は、固体撮像装置およびそれを含む撮像装置に関する。
近年、デジタルカメラに組み込まれる固体撮像装置には、静止画のほか動画を撮像することができる機能が要求されている。静止画の画素数は世代ごとに多画素化されているのに対して、動画の画素数は最も高繊細なものであっても、現在のところ、水平方向画素数が1920、垂直方向画素数が1080であり、静止画の画素数が動画の画素数を大きく上回っている。そのため、静止画を撮像する場合と動画を撮像する場合とで処理する画素数を選択する方法がとられている。具体的には、動画の撮像時には、複数の画素出力を加算あるいは平均化して1画素の出力として扱うという方法とられている。
特許文献1には、R、G、Bの3つのカラーの画素のうち同一のカラーの信号を出力する2つ以上の画素のフローティングディフュージョン(FD)を共通化し、該FDで複数の画素の信号を加算する方法が提案されている。
特開2005−244995号公報
原色フィルタや補色フィルタなどのカラー配列では、同一カラーの画素が行方向および列方向に一画素おきに配列される。よって、特許文献1に記載された方法でFDを共通化すると、共通化のための配線パターンが、隣接する別のカラーの配線パターンと交差してしまう。この交差によって異なる色の画素の出力同士が容量結合するため、クロストークの原因となる。クロストークによりノイズが増加し、信号とノイズの比(S/N)が低下するという問題が発生する。
本発明は、クロストークの低減に有利な構成を有する固体撮像装置を提供することを目的とする。
本発明の1つの側面は、複数の画素行および複数の画素列を構成するように二次元状に複数の画素が配置された画素アレイと、前記複数の画素から所定のカラー配列に従うカラーの信号が出力されるように前記画素アレイの上に配列されたカラーフィルタとを備えた固体撮像装置に係り、前記固体撮像装置において、各画素列に第1列読出線および第2列読出線が設けられており、前記画素アレイを構成する前記複数の画素行は、第1グループの画素行と第2グループの画素行とにグループ分けされ、前記第1グループは、各々のサブグループが同一カラーの画素で構成される複数のサブグループにグループ分けされ、前記第2グループは、各々のサブグループが同一カラーの画素で構成される複数のサブグループにグループ分けされており、前記第1グループの画素行に属する画素の信号は、前記第1列読出線に出力され、前記第2グループの画素行に属する画素の信号は、前記第2列読出線に出力され、各画素が、光電変換素子および転送素子を含み、同一の画素列かつ同一のサブグループに属する複数の画素が変換領域および増幅素子を共有し、前記光電変換素子で発生した電荷が前記転送素子によって前記変換領域に転送され、該転送された電荷が前記変換領域で電圧に変換され、その電圧が前記増幅素子によって増幅され、1つの前記変換領域と他の前記変換領域とが互いに交差していない。
本発明によれば、例えば、クロストークの低減に有利な構成を有する固体撮像装置を提供することができる。
画素アレイにおける1つの画素列の一部分の回路構成を例示的に示す図である。 本発明の第1実施形態を示す平面レイアウト図である。 同一画素列の2つの画素の信号を合成して読み出す動作を例示するタイミングチャートである。 本発明の第1実施形態の変形例を示す平面レイアウト図である。 本発明の第2実施形態を示す平面レイアウト図である。 本発明の第3実施形態を示す平面レイアウト図である。 本発明の第4実施形態を示す平面レイアウト図である。 本発明の第5実施形態を示す平面レイアウト図である。 本発明の好適な実施形態の固体撮像装置の概略構成を示す図である。 本発明の好適な実施形態の撮像装置(カメラ)の概略構成を示す図である。
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
図9は、本発明の好適な実施形態の固体撮像装置ISの概略構成を示す図である。固体撮像装置ISは、CMOSイメージセンサのような能動画素型のイメージセンサとして構成される。能動画素型のイメージセンサは、画素が、光電変換素子の他に、該光電変換素子による光電変換によって得られた信号を増幅する増幅素子を含む固体撮像装置である。この実施形態では、増幅素子は、複数の画素によって共有される。固体撮像装置ISは、画素アレイPA、垂直選択回路VS、第1読出回路HR1、第2読出回路HR2、第1水平選択回路HS1、および、第2水平選択回路HS2を備えている。画素アレイPAは、複数の画素行prおよび複数の画素列pcを構成するように二次元状に配列された複数の画素pを含む。図6には、画素アレイPAとして、説明のために簡単化された画素アレイが例示されている。画素アレイPAにおける各画素列pcには、2つの列読出線、即ち、第1列読出線c1と第2列読出線c2とが設けられている。
画素アレイPAを構成する複数の画素行prは、第1グループの画素行と第2グループの画素行とに分けられている。例えば、第1グループは奇数行(奇数番目の行)であり、第2グループは偶数行(偶数番目の行)でありうる。或いは、第1グループは偶数行であり、第2グループは奇数行でありうる。第1列読出線c1は、偶数行の画素から信号を読み出すための列読出線であり、第2列読出線c2は、奇数行の画素から信号を読み出すための列読出線でありうる。或いは、第1列読出線c1は、奇数行の画素から信号を読み出すための列読出線であり、第2列読出線c2は、偶数行の画素から信号を読み出すための列読出線であってもよい。その他、アプリケーションに応じて、画素アレイPAを構成する複数の画素行prのうちの任意の半分を第1グループとして、他の半分を第2グループとすることができる。
垂直走査回路VSは、画素アレイPAにおける第1グループに属する1つの画素行と、第2グループに属する1つの画素行とを互いに異なるタイミングで、又は同時に選択する。第1読出回路HR1は、画素アレイPA内の同時に選択された2つの画素行のうちの一方の画素行に属する画素から第1列読出線c1を介して信号を読み出して第1出力端子OUT1に出力する。第2読出回路HR2は、画素アレイPA内の同時に選択された2つの画素行prのうちの他方の画素行に属する画素から第2列読出線c2を介して信号を読み出して第2出力端子OUT2に出力する。第1読出回路HR1および第2読出回路HR2は、それらによって画素アレイPAが挟まれるように配置されることが好ましい。第1水平選択回路HS1は、画素アレイPAにおける読出し対象の画素列pcを選択する。第2水平選択回路HS2は、画素アレイPAにおける読出し対象の画素列pcを選択する。なお、図9では、説明の簡単化のために画素アレイPAが4つの画素行と2つの画素列を有するように記載されているが、画素アレイPAは、典型的には、より多数の画素行および画素列で構成されうる。
図1は、画素アレイPAにおける1つの画素列pcの一部分の回路構成を例示的に示す図であり、本発明の第1実施形態における回路構成を示している。なお、図1では、簡単化のために4行分の画素のみが示されている。各画素は、フォトダイオード101(101は、101−1、101−2、101−3、101−4を代表する。)と、転送トランジスタ102(102は、102−1、102−2、102−3、102−4を代表する。)とを含む。具体的には、第1画素行、第1画素列の画素は、フォトダイオード101−1と転送トランジスタ102−1とを含む。第2画素行かつ第1画素列の画素は、フォトダイオード101−2と転送トランジスタ102−2とを含む。第3画素行かつ第1画素列の画素は、フォトダイオード101−3と転送トランジスタ102−3とを含む。第4画素行かつ第1画素列の画素は、フォトダイオード101−4と転送トランジスタ102−4とを含む。図1に示す第1実施形態では、電荷を電圧に変換する変換領域103(103は、103−1、103−2を代表する。)、リセットトランジスタ104(104は、104−1、104−2を代表する。)、増幅トランジスタ105(105は、105−1、105−2を代表する。)および選択トランジスタ106(106は、106−1、106−2を代表する。)が同一画素列の複数(ここでは2個)の画素によって共有されている。具体的には、変換領域103−1、リセットトランジスタ104−1、増幅トランジスタ105−1および選択トランジスタ106−1が同一画素列の第1画素行および第3画素行の画素とによって共有されている。また、変換領域103−2、リセットトランジスタ104−2、増幅トランジスタ105−2および選択トランジスタ106−2が同一画素列の第1画素行および第3画素行の画素とによって共有されている。
画素アレイPAの上には、所定のカラー配列に従うカラーフィルタが配置される。ここでは、ベイヤー配列に従うカラーフィルタが画素アレイPAの上に配置されている例を説明するが、他のカラー配列(例えば、補色フィルタ)に従うカラーフィルタが画素アレイPAの上に配置された場合にも本発明を適用することができる。ベイヤー配列に従う場合、第1画素行、第1画素列の第1、第3画素行の画素のフォトダイオード101−1、101−3の上にはG(グリーン)色のカラーフィルターが配置される。また、第1画素列の第2、第4画素行の画素のフォトダイオード101−2、101−4の上にはR色のカラーフィルターが配置されている。よって、同一カラー(G色)の画素である第1画素行および第3画素行の画素がFD103−1、リセットトランジスタ104−1、増幅トランジスタ105−1、選択トランジスタ106−1を共有し、信号を第1列読出線107−1に出力する。また、同一カラー(R色)の画素である第2画素行および第4画素行の画素がFD103−1、リセットトランジスタ104−1、増幅トランジスタ105−1、選択トランジスタ106−1を共有し、信号を第2列読出線107−1に出力する。
ここで、電荷を電圧に変換する変換領域103を共有する同一カラーの画素の集合をサブグループとして考える。前述のように、画素アレイPAを構成する複数の画素行prは、第1列読出線および第2列読出線の一方に信号を出力する第1グループの画素行と、他方に信号を出力する第2グループの画素行とに分けられている。第1グループは、更に、各々のサブグループが同一カラーの画素で構成される複数のサブグループにグループ分けされ、第2グループは、各々のサブグループが同一カラーの画素で構成される複数のサブグループにグループ分けされていている。
フォトダイオード101(101_1、101_2、101_3、101_4)は、光電変換素子の一例である。変換領域103(103_1、103_2)は、フォトダイオード101から出力される電荷を保持して電圧に変換する容量素子であり、典型的には、半導体基板に形成されたフローティングディフュージョン(拡散領域)およびそれに接続された導電体を含む。該導電体は、配線層に形成される導電体パターンと、拡散領域と導電体パターンとを接続するプラグ(コンタクトプラグ、ビアプラグ)とを含みうる。増幅トランジスタ105(105_1、105_2)は、変換領域103の電圧を増幅する増幅素子の一例である。リセットトランジスタ104(104_1、104_2)は、変換領域103の電圧をリセット(初期化)するリセット素子の一例であり、垂直選択回路VSによって制御されうる。選択トランジスタ106(106_1、106_2)は、行を選択するためのスイッチの一例であり、垂直選択回路VSによって制御されうる。転送トランジスタ102(102_1、102_2、102_3、102_4)は、フォトダイオード101において光電変換によって生じた電荷を変換領域103に転送するための転送素子の一例であり、垂直選択回路VSによって制御されうる。
リセットトランジスタ104は、垂直選択回路VSによって駆動されるリセット信号によって制御されうる。選択トランジスタ106が、垂直選択回路VSによって駆動される選択信号によって制御されうる。転送トランジスタ102は、垂直選択回路VSによって駆動される転送信号によって制御されうる。以上のリセット信号、行選択信号および転送信号の集合が、図9では、制御信号rとして示されている。
ここで、代表的に、フォトダイオード101−1を含む画素から信号を第1列読出線c1に出力する動作を説明する。フォトトダイオード101−1で発生した電荷は、垂直選択回路VSが転送トランジスタ102−1をオン状態にすることによって変換領域103−1に転送される。変換領域103−1に転送された電荷は、変換領域103−1において電圧に変換される(より厳密には、転送された電荷をQ、変換領域103−1の容量をCとすると、変換領域103−1の電圧がV=Q/Cだけ変化する。)。増幅トランジスタ105−1は、垂直選択回路VSによって選択トランジスタ106−1がオン状態にされることによって、変換領域103−1の電圧に応じた電圧を選択トランジスタ106−1を介して第1列読出線c1に出力する。ここで、第1列読出線c1には、不図示の定電流源が接続され、該定電流源と増幅トランジスタとによってソースフォロワ型の増幅回路が構成され、該増幅回路によって変換領域103−1の電圧に応じた電圧が第1列読出線c1に出力されうる。固体撮像装置ISから最大解像度で静止画を出力する場合には、上記のように、個々の画素の信号が出力されうる。
一方、固体撮像装置ISによって低解像度の静止画を出力する場合や、(前記最大解像度よりも低解像度の)動画を出力する場合には、同一画素列の各サブグループの画素が変換領域によって合成(加算)されて出力されうる。このような低解像度の画像(静止画または動作)を固体撮像装置ISから出力する動作を説明する。ここでは、代表的に、フォトダイオード101−1を含む画素およびフォトダイオード101−3を含む画素から合成された信号を第1列読出線c1に出力する動作を説明する。フォトダイオード101−1、101−3で発生した電荷は、垂直選択回路VSが転送トランジスタ102−1、102−3をオン状態にすることによって変換領域103−1に転送される。変換領域103−1に転送された電荷は、変換領域103−1において電圧に変換される。フォトトダイオード101−1から転送された電荷をQ1、フォトダイオード101−3から転送された電荷をQ3、変換領域103−1の容量をCとすると、変換領域103−1の電圧がV=(Q1+Q3)/Cだけ変化する。即ち、変換領域103−1において2つの画素の信号が合成(加算)される。増幅トランジスタ105−1は、垂直選択回路VSによって選択トランジスタ106−1がオン状態にされることによって、変換領域103−1の電圧に応じた電圧を選択トランジスタ106−1を介して第1列読出線c1に出力する。
図2は、各画素列が図1に示す回路構成を有する画素アレイにおける2つの画素列の平面レイアウト図であり、本発明の第1実施形態を示している。図2において、101−1、101−2、101−3、101−4は、フォトダイオード(より厳密には、フォトダイオードの表面層)である。102−1、102−2、102−3、102−4は、転送トランジスタ(より厳密には、転送トランジスタのゲート電極)である。103−1、103−2は、変換領域である。該変換領域は、半導体基板に形成された拡散領域、該拡散領域に接続されたコンタクトプラグ、該コンタクトプラグに接続された第1金属配線層の導電パターン、該導電パターンと増幅トランジスタのゲート電極とを接続するコンタクトプラグを含む。106−1、106―2は、選択トランジスタ(より厳密には、選択トランジスタのゲート電極)である。105−1、105−2は、増幅トランジスタ(より厳密には、増幅トランジスタのゲート電極)であり、選択トランジスタと活性層を共有している。104−1、104−2は、リセットトランジスタ(より厳密には、リセットトランジスタのゲート電極)である。第1列読出線c1および第2列読出線c2は、同一の層に配置されうる。
図2に例示される第1実施形態では、画素列に設けられた第1列読出線c1および第2列読出線c2の間に当該画素列の各画素のフォトダイオード101−1〜101−4が配置されている。また、第1グループの画素行(第1、第3画素行)に属する画素のフォトダイオード101−1、101−3の第2列読出線c2の側における境界線b2と第1列読出線c1との間に、当該画素が属するサブグループの変換領域103−1が配置されている。また、第2グループの画素行(第2、第4画素行)に属する画素のフォトダイオード101−2、101−4の第1列読出線c1の側における境界線b1と第2列読出線c2との間に、当該画素が属するサブグループの変換領域103−2が配置されている。このような構成によれば、変換領域103−1と変換領域103−2とが交差することがなく、変換領域103−1と変換領域103−2との容量結合を小さくすることができる。一方、変換領域103−1と変換領域103−2とが交差するような構成では、両者の間の容量結合(および、その結果としてクロストーク)が大きくなる。これは、異なるカラーの画素の信号の間でクロストークが発生し、これによって混色が発生することを意味する。
また、図2に例示される第1実施形態では、偶数行の画素のフォトダイオードと奇数行の画素のフォトダイオードとが同一形状であるので、偶数行と奇数行とで光電変換特性の違いが小さい。
図3は、同一画素列の2つの画素の信号を合成して読み出す動作を例示するタイミングチャートである。図3において、φHSTは行選択用パルスであり、他の符号は、図1、2に示されたトランジスタを示す。φHSTが入力されてから次のφHSTが入力されるまでの期間が1水平走査期間である。1水平走査期間内において、まず、変換領域103−1、103−2の電圧をリセットするために、リセットトランジスタ104−1、104−2および選択トランジスタ106−1、106−2がオン状態にされる。この時、列読出線c1、c2にリセット信号が現れ、その信号が不図示の回路で読み出される。次に、転送トランジスタ102−1、102−3がオン状態にされる。この動作により、フォトダイオード101−1、101−3の電荷がそれぞれFD103−1に転送される。次に、転送トランジスタ102−1、102−3がオフ状態にされて、不図示の回路により光信号が読み出される。次の1水平走査期間では、再び、変換領域103−1、103−2の電圧がリセットされた後、今度は、転送トランジスタ102−2、102−4がオン状態にされて、偶数行の光信号が読み出される。以上の4行分の動作を繰り返すことで全画面の信号が読み出される。なお、1水平走査期間内の画素駆動タイミングは、第1画素行および第3画素行において同時であるが、完全に同時である必要はなく、同一水平走査期間内に2つの画素の駆動ができれば良い。
図4は、図2に示される平面レイアウトの変形例を示している。図4に例示される第1実施形態の変形例では、画素列に設けられた第1列読出線c1および第2列読出線c2の間に当該画素列の各画素のフォトダイード101−1〜101−4が配置されている。また、第1グループの画素行(第1画素行、第3画素行)に属する画素のフォトダイオード101−1、101−3と当該画素の信号が出力される第1列読出線c1との間に当該画素が属するサブグループの変換領域103−1が配置されている。また、第2グループの画素行(第2画素行、第4画素行)に属する画素のフォトダイオード101−2、101−4と当該画素の信号が出力される第2列読出線c2との間に当該画素が属するサブグループの変換領域103−2が配置されている。このような構成によれば、変換領域103−1と変換領域103−2とが交差することがなく、変換領域103−1と変換領域103−2との容量結合を小さくすることができる。この変形例では、変換領域103−1と変換領域103−2との距離を図2に示す実施形態における変換領域103−1と変換領域103−2との距離よりも大きくすることができる。よって、この変形例によれば、図2に示す実施形態よりも変換領域103−1と変換領域103−2との間の容量結合を低減することができる。
更に、図2、4に示す実施形態によれば、1つの画素列に対して2つの列信号線が設けられているので、第1グループの画素行の画素と第2グループの画素行の画素から信号を同時に読み出すことができる。同一画素列の2つの画素の信号を合成して読み出す動作においては、転送トランジスタ102−1〜104を同時にオン状態にすることによって、第1グループの画素行の画素と第2グループの画素行の画素から信号を同時に読み出すことができる。
1つの画素列に2つの列読出線を配置することによって、画素の開口面積が減少しうる。このような副作用は、フォトダイオード上に配されるマイクロレンズの形状を最適化すること、リセットトランジスタ104、増幅トランジスタ105、選択トランジスタ106のレイアウトの最適化によって軽減されうる。
図5は、本発明の第2実施形態を示す平面レイアウト図である。第2実施形態は、図2に例示される第1実施形態の変形例として理解することができる。変換領域の配置方法は、図2に例示される第1実施形態と同様でありうるが、図4に例示される配置方法に従ってもよい。第2実施形態では、ベイヤー配列における同一画素列の同一カラーの3つの画素によって変換領域が共有されている。具体的には、第1グループ(奇数行)の画素のフォトダイオード101−1、101−3、101−5によって変換領域103−1が共有されている。また、第2グループ(偶数行)の画素のフォトダイオード101−2、101−4、101−6によって変換領域103−2が共有されている。第2実施形態は、1つの変換領域を共有する画素の数が3つであることの他は、第1実施形態と同様である。
図6は、本発明の第3実施形態を示す平面レイアウト図である。第3実施形態は、図2、図5に例示される第1、第2実施形態の変形例として理解することができる。第3実施形態では、ベイヤー配列における同一画素列の同一カラーの5つの画素によって変換領域が共有されている。変換領域の配置方法は、第1、第2実施形態と同様である。第1グループ(奇数行)の画素のフォトダイオード101−1、101−3、101−5、101−7、101−9によって変換領域103−1が共有されている。また、第2グループ(偶数行)の画素のフォトダイオード101−2、101−4、101−6、101−8、101−10によって変換領域103−2が共有されている。第3実施形態は、1つの変換領域を共有する画素の数が5つであることの他は、第1実施形態と同様である。
図7は、本発明の第4実施形態を示す平面レイアウト図である。図7に例示される第4実施形態は、1つの画素列の光電変換素子とその隣の画素列の光電変換素子との間に当該1つの画素列の2つの列読出線(即ち、第1列読出線c1、第2列読出線c2)が配置されている点で第1乃至第3実施形態と異なる。第1列読出線c1と第2列読出線c2とは、互いに異なる層に配置されている。このような構成においても、第1乃至第3実施形態と同様に、変換領域103−1と変換領域103−2とを交差させずに配置することができる。更に、第1列読出線c1と第2列読出線c2とを互いに異なる層に配置することにより、第1列読出線c1と第2列読出線c2とを平面レイアウトにおいて互いに重なるように配置することも可能になる。この場合は、フォトダイオードの開口面積を広げることができるので、感度を向上することができる。
図8は、本発明の第5実施形態を示す平面レイアウト図である。第5実施形態の固体撮像装置は、点線で示されたフォトダイオード101−1〜101−4がシリコンウエハ等の半導体基板の裏面に配置された裏面照射型の固体撮像装置である。裏面照射型の固体撮像装置では、1つの画素列に対して設けられる2つの列読出線によって開口率が低下することはない。また、トランジスタのゲート幅を大きくすることで駆動力を向上できる。また、増幅トランジスタのゲート面積を大きくすることができうるので、RTS(Random Telegraph Noise)を小さくすることができる。裏面照射型でもクロストークを防止し、かつS/N比の高い出力を高速に得ることができる。
図10は、本発明の好適な実施形態の撮像装置(カメラ)の概略構成を示す図である。撮像装置400は、第1乃至第4実施形態の固体撮像装置ISに代表される固体撮像装置1004を備える。被写体の光学像は、レンズ1002によって固体撮像装置1004の撮像面に結像する。レンズ1002の外側には、レンズ1002のプロテクト機能とメインスイッチを兼ねるバリア1001が設けられうる。レンズ1002には、それから出射される光の光量を調節するための絞り1003が設けられうる。固体撮像装置1004から複数チャンネルで出力される撮像信号は、撮像信号処理回路1005によって各種の補正、クランプ等の処理が施される。撮像信号処理回路1005から複数チャンネルで出力される撮像信号は、A/D変換器1006でアナログ−ディジタル変換される。A/D変換器1006から出力される画像データは、信号処理部1007によって各種の補正、データ圧縮などがなされる。固体撮像装置1004、撮像信号処理回路1005、A/D変換器1006及び信号処理部1007は、タイミング発生部1008が発生するタイミング信号にしたがって動作する。
ブロック1005〜1008は、固体撮像装置1004と同一チップ上に形成されてもよい。撮像装置400の各ブロックは、全体制御・演算部1009によって制御される。撮像装置400は、その他、画像データを一時的に記憶するためのメモリ部1010、記録媒体への画像の記録又は読み出しのための記録媒体制御インターフェース部1011を備える。記録媒体1012は、半導体メモリ等を含んで構成され、着脱が可能である。撮像装置400は、外部コンピュータ等と通信するための外部インターフェース(I/F)部1013を備えてもよい。
次に、図10に示す撮像装置(カメラ)400の動作について説明する。バリア1001のオープンに応じて、メイン電源、コントロール系の電源、A/D変換器1006等の撮像系回路の電源が順にオンする。その後、露光量を制御するために、全体制御・演算部1009が絞り1003を開放にする。固体撮像装置1004から出力された信号は、撮像信号処理回路1005をスルーしてA/D変換器1006へ提供される。A/D変換器1006は、その信号をA/D変換して信号処理部1007に出力する。信号処理部1007は、そのデータを処理して全体制御・演算部1009に提供し、全体制御・演算部1009において露出量を決定する演算を行う。全体制御・演算部1009は、決定した露出量に基づいて絞りを制御する。
次に、全体制御・演算部1009は、上記の第1乃至第4実施形態に代表される固体撮像装置1004から出力され信号処理部1007で処理された信号にから高周波成分を取り出して、高周波成分に基づいて被写体までの距離を演算する。その後、レンズ1002を駆動して、合焦か否かを判断する。合焦していないと判断したときは、再びレンズ1002を駆動し、距離を演算する。
そして、合焦が確認された後に本露光が始まる。露光が終了すると、固体撮像装置1004から出力された撮像信号は、撮像信号処理回路1005において補正等がされ、A/D変換器1006でA/D変換され、信号処理部1007で処理される。信号処理部1007で処理された画像データは、全体制御・演算部1009によりメモリ部1010に蓄積される。
その後、メモリ部1010に蓄積された画像データは、全体制御・演算部1009の制御により記録媒体制御I/F部を介して記録媒体1012に記録される。また、画像データは、外部I/F部1013を通してコンピュータ等に提供されて処理されうる。

Claims (8)

  1. 複数の画素行および複数の画素列を構成するように二次元状に複数の画素が配置された画素アレイと、前記複数の画素から所定のカラー配列に従うカラーの信号が出力されるように前記画素アレイの上に配列されたカラーフィルタとを備えた固体撮像装置であって、
    各画素列に第1列読出線および第2列読出線が設けられており、
    前記画素アレイを構成する前記複数の画素行は、第1グループの画素行と第2グループの画素行とにグループ分けされ、前記第1グループは、各々のサブグループが同一カラーの画素で構成される複数のサブグループにグループ分けされ、前記第2グループは、各々のサブグループが同一カラーの画素で構成される複数のサブグループにグループ分けされており、前記第1グループの画素行に属する画素の信号は、前記第1列読出線に出力され、前記第2グループの画素行に属する画素の信号は、前記第2列読出線に出力され、
    各画素が、光電変換素子および転送素子を含み、
    同一の画素列かつ同一のサブグループに属する複数の画素が変換領域および増幅素子を共有し、前記光電変換素子で発生した電荷が前記転送素子によって前記変換領域に転送され、該転送された電荷が前記変換領域で電圧に変換され、その電圧が前記増幅素子によって増幅され、1つの前記変換領域と他の前記変換領域とが互いに交差していない、
    ことを特徴とする固体撮像装置。
  2. 前記変換領域は、フローティングディフュージョンおよびそれに接続された導電体を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
  3. 画素列に設けられた前記第1列読出線および前記第2列読出線の間に当該画素列の各画素の前記光電変換素子が配置され、
    前記第1グループの画素行に属する画素の前記光電変換素子の前記第2列読出線の側における境界線と前記第1列読出線との間に当該画素が属するサブグループの前記変換領域が配置され、
    前記第2グループの画素行に属する画素の前記光電変換素子の前記第1列読出線の側における境界線と前記第2列読出線との間に当該画素が属するサブグループの前記変換領域が配置されている、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の固体撮像装置。
  4. 画素列に設けられた前記第1列読出線および前記第2列読出線の間に当該画素列の各画素の前記光電変換素子が配置され、
    前記第1グループの画素行に属する画素の前記光電変換素子と当該画素の信号が出力される前記第1列読出線との間に当該画素が属するサブグループの前記変換領域が配置され、
    前記第2グループの画素行に属する画素の前記光電変換素子と当該画素の信号が出力される前記第2列読出線との間に当該画素が属するサブグループの前記変換領域が配置されている、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の固体撮像装置。
  5. 前記第1列読出線および前記第2列読出線が同一の層に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  6. 前記第1列読出線および前記第2列読出線が互いに異なる層に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の固体撮像装置。
  7. 前記第1列読出線および前記第2列読出線が平面レイアウトにおいて互いに重なるように配置されていることを特徴とする請求項6に記載の固体撮像装置。
  8. 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の固体撮像装置と、
    前記固体撮像装置によって得られた信号を処理する信号処理部と、
    を備えることを特徴とする撮像装置。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011082769A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Canon Inc 固体撮像装置および撮像装置
JP2012257028A (ja) * 2011-06-08 2012-12-27 Canon Inc 撮像装置
WO2013100093A1 (ja) * 2011-12-27 2013-07-04 富士フイルム株式会社 撮像装置、撮像装置の制御方法、及び制御プログラム
JP2013168634A (ja) * 2012-01-18 2013-08-29 Canon Inc 固体撮像装置
WO2016199588A1 (ja) * 2015-06-09 2016-12-15 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 撮像素子および駆動方法、並びに電子機器
KR20190116276A (ko) * 2017-02-22 2019-10-14 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 고체 촬상 장치 및 전자 기기
US10721422B2 (en) 2015-06-09 2020-07-21 Sony Semiconductor Solutions Corporation Imaging element, driving method, and electronic device
JP2021184613A (ja) * 2017-09-29 2021-12-02 株式会社ニコン 撮像素子

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5374110B2 (ja) * 2008-10-22 2013-12-25 キヤノン株式会社 撮像センサ及び撮像装置
JP5029624B2 (ja) * 2009-01-15 2012-09-19 ソニー株式会社 固体撮像装置及び電子機器
JP5679653B2 (ja) * 2009-12-09 2015-03-04 キヤノン株式会社 光電変換装置およびそれを用いた撮像システム
JP5780711B2 (ja) 2010-04-06 2015-09-16 キヤノン株式会社 固体撮像装置
JP5643555B2 (ja) 2010-07-07 2014-12-17 キヤノン株式会社 固体撮像装置及び撮像システム
JP5645513B2 (ja) 2010-07-07 2014-12-24 キヤノン株式会社 固体撮像装置及び撮像システム
JP5697371B2 (ja) 2010-07-07 2015-04-08 キヤノン株式会社 固体撮像装置および撮像システム
JP5656484B2 (ja) 2010-07-07 2015-01-21 キヤノン株式会社 固体撮像装置および撮像システム
JP5751766B2 (ja) 2010-07-07 2015-07-22 キヤノン株式会社 固体撮像装置および撮像システム
JP5885401B2 (ja) 2010-07-07 2016-03-15 キヤノン株式会社 固体撮像装置および撮像システム
JP5581982B2 (ja) * 2010-11-10 2014-09-03 株式会社ニコン 撮像装置
JP5737971B2 (ja) 2011-01-28 2015-06-17 キヤノン株式会社 固体撮像装置およびカメラ
JP5744545B2 (ja) 2011-01-31 2015-07-08 キヤノン株式会社 固体撮像装置およびカメラ
JP5821315B2 (ja) * 2011-06-21 2015-11-24 ソニー株式会社 電子機器、電子機器の駆動方法
JP6039165B2 (ja) 2011-08-11 2016-12-07 キヤノン株式会社 撮像素子及び撮像装置
JP5864990B2 (ja) 2011-10-03 2016-02-17 キヤノン株式会社 固体撮像装置およびカメラ
JP2013143729A (ja) * 2012-01-12 2013-07-22 Sony Corp 撮像素子、撮像装置、電子機器および撮像方法
JP6023437B2 (ja) 2012-02-29 2016-11-09 キヤノン株式会社 固体撮像装置及びカメラ
US9093351B2 (en) 2012-03-21 2015-07-28 Canon Kabushiki Kaisha Solid-state imaging apparatus
US9293500B2 (en) 2013-03-01 2016-03-22 Apple Inc. Exposure control for image sensors
US9276031B2 (en) 2013-03-04 2016-03-01 Apple Inc. Photodiode with different electric potential regions for image sensors
US9741754B2 (en) 2013-03-06 2017-08-22 Apple Inc. Charge transfer circuit with storage nodes in image sensors
US9549099B2 (en) 2013-03-12 2017-01-17 Apple Inc. Hybrid image sensor
US9319611B2 (en) 2013-03-14 2016-04-19 Apple Inc. Image sensor with flexible pixel summing
JP6180882B2 (ja) * 2013-10-31 2017-08-16 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置、信号処理装置、および電子機器
US9596423B1 (en) 2013-11-21 2017-03-14 Apple Inc. Charge summing in an image sensor
US9596420B2 (en) 2013-12-05 2017-03-14 Apple Inc. Image sensor having pixels with different integration periods
US9473706B2 (en) 2013-12-09 2016-10-18 Apple Inc. Image sensor flicker detection
KR102170627B1 (ko) * 2014-01-08 2020-10-27 삼성전자주식회사 이미지 센서
US10285626B1 (en) 2014-02-14 2019-05-14 Apple Inc. Activity identification using an optical heart rate monitor
US9277144B2 (en) 2014-03-12 2016-03-01 Apple Inc. System and method for estimating an ambient light condition using an image sensor and field-of-view compensation
US9584743B1 (en) 2014-03-13 2017-02-28 Apple Inc. Image sensor with auto-focus and pixel cross-talk compensation
JP6305169B2 (ja) * 2014-04-07 2018-04-04 キヤノン株式会社 固体撮像素子、撮像装置及びその制御方法、プログラム、記憶媒体
US9538106B2 (en) 2014-04-25 2017-01-03 Apple Inc. Image sensor having a uniform digital power signature
US9686485B2 (en) 2014-05-30 2017-06-20 Apple Inc. Pixel binning in an image sensor
JP2016012903A (ja) * 2014-06-02 2016-01-21 ソニー株式会社 撮像素子、撮像方法、および電子機器
EP3188471A4 (en) * 2014-08-29 2017-08-23 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Imaging device
JP2017022624A (ja) * 2015-07-13 2017-01-26 キヤノン株式会社 撮像素子及びその駆動方法、及び撮像装置
JP6660141B2 (ja) 2015-10-14 2020-03-04 キヤノン株式会社 撮像素子およびそれを用いる撮像装置
JP7005125B2 (ja) 2016-04-22 2022-01-21 キヤノン株式会社 撮像素子、撮像システム、および撮像素子の製造方法
US9912883B1 (en) 2016-05-10 2018-03-06 Apple Inc. Image sensor with calibrated column analog-to-digital converters
JP6779038B2 (ja) 2016-06-01 2020-11-04 キヤノン株式会社 撮像素子及びその制御方法、撮像装置及びその制御方法
JP6758925B2 (ja) 2016-06-01 2020-09-23 キヤノン株式会社 撮像装置及びその制御方法
JP6701001B2 (ja) 2016-06-22 2020-05-27 キヤノン株式会社 撮像装置及びその制御方法、プログラム、記憶媒体
JP6739272B2 (ja) * 2016-07-29 2020-08-12 キヤノン株式会社 撮像装置、その制御方法、及びプログラム
US10438987B2 (en) 2016-09-23 2019-10-08 Apple Inc. Stacked backside illuminated SPAD array
EP3516691B1 (en) 2016-10-14 2021-09-22 Huawei Technologies Co., Ltd. Cmos image sensor
KR102617430B1 (ko) * 2016-11-08 2023-12-26 에스케이하이닉스 주식회사 이미지 센서
JP6552478B2 (ja) 2016-12-28 2019-07-31 キヤノン株式会社 固体撮像装置
US10656251B1 (en) 2017-01-25 2020-05-19 Apple Inc. Signal acquisition in a SPAD detector
US10652531B2 (en) 2017-01-25 2020-05-12 Canon Kabushiki Kaisha Solid-state imaging device, imaging system, and movable object
CN110235024B (zh) 2017-01-25 2022-10-28 苹果公司 具有调制灵敏度的spad检测器
US10962628B1 (en) 2017-01-26 2021-03-30 Apple Inc. Spatial temporal weighting in a SPAD detector
JP6889571B2 (ja) * 2017-02-24 2021-06-18 キヤノン株式会社 撮像装置および撮像システム
CN108666327B (zh) * 2017-03-28 2020-06-26 奕瑞影像科技(太仓)有限公司 X射线图像传感器及其制作方法、平板探测器
US10622538B2 (en) 2017-07-18 2020-04-14 Apple Inc. Techniques for providing a haptic output and sensing a haptic input using a piezoelectric body
US10440301B2 (en) 2017-09-08 2019-10-08 Apple Inc. Image capture device, pixel, and method providing improved phase detection auto-focus performance
JP7067912B2 (ja) * 2017-12-13 2022-05-16 キヤノン株式会社 放射線撮像装置および放射線撮像システム
JP7091080B2 (ja) 2018-02-05 2022-06-27 キヤノン株式会社 装置、システム、および移動体
US10848693B2 (en) 2018-07-18 2020-11-24 Apple Inc. Image flare detection using asymmetric pixels
US11019294B2 (en) 2018-07-18 2021-05-25 Apple Inc. Seamless readout mode transitions in image sensors
US11563910B2 (en) 2020-08-04 2023-01-24 Apple Inc. Image capture devices having phase detection auto-focus pixels
US11546532B1 (en) 2021-03-16 2023-01-03 Apple Inc. Dynamic correlated double sampling for noise rejection in image sensors
CN117751576A (zh) * 2021-08-10 2024-03-22 华为技术有限公司 无去马赛克的像素阵列、图像传感器、电子设备及其操作方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69223841T2 (de) 1991-04-19 1998-05-14 Canon Kk Bilderempfangsapparat
US6992714B1 (en) 1999-05-31 2006-01-31 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup apparatus having plural pixels arranged two-dimensionally, and selective addition of different pixel color signals to control spatial color arrangement
CN1177465C (zh) * 2000-01-29 2004-11-24 全视技术有限公司 单片彩色金属氧化物半导体图像传感器及相邻行读出方法
JP3636291B2 (ja) * 2000-01-31 2005-04-06 オリンパス株式会社 撮像装置
US20050128327A1 (en) * 2003-12-10 2005-06-16 Bencuya Selim S. Device and method for image sensing
KR100871688B1 (ko) 2004-02-27 2008-12-08 삼성전자주식회사 고체 촬상 장치 및 그 구동 방법
US7633539B2 (en) 2004-06-07 2009-12-15 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup device with analog-to-digital converter
EP1780795B1 (en) * 2004-07-20 2009-07-08 Fujitsu Microelectronics Limited Cmos imaging element
US7294818B2 (en) 2004-08-24 2007-11-13 Canon Kabushiki Kaisha Solid state image pickup device and image pickup system comprising it
US7548261B2 (en) * 2004-11-30 2009-06-16 Digital Imaging Systems Gmbh Column averaging/row averaging circuit for image sensor resolution adjustment in high intensity light environment
JP2006180146A (ja) 2004-12-22 2006-07-06 Nec Corp Cdma受信装置及びそれに用いるパスサーチ方法
GB2425229B (en) * 2005-04-14 2008-04-09 Micron Technology Inc Generation and storage of column offsets for a column parallel image sensor
US7830437B2 (en) * 2005-05-11 2010-11-09 Aptina Imaging Corp. High fill factor multi-way shared pixel
US7705900B2 (en) * 2005-06-01 2010-04-27 Eastman Kodak Company CMOS image sensor pixel with selectable binning and conversion gain
JP4827627B2 (ja) 2006-06-16 2011-11-30 キヤノン株式会社 撮像装置及びその処理方法
JP4956084B2 (ja) * 2006-08-01 2012-06-20 キヤノン株式会社 光電変換装置及びそれを用いた撮像システム
JP4194633B2 (ja) 2006-08-08 2008-12-10 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像システム
KR100828943B1 (ko) 2006-12-19 2008-05-13 (주)실리콘화일 3t-4s 스텝 & 리피트 단위 셀 및 상기 단위 셀을 구비한 이미지센서, 데이터 저장 장치, 반도체 공정 마스크, 반도체 웨이퍼
JP4966035B2 (ja) * 2007-01-26 2012-07-04 株式会社東芝 固体撮像装置
US8289430B2 (en) * 2007-02-09 2012-10-16 Gentex Corporation High dynamic range imaging device
US8115841B2 (en) * 2007-03-13 2012-02-14 Micron Technology, Inc. Method, apparatus and system providing an image sensor having pixels with multiple exposures, diodes and gain readouts
JP5022758B2 (ja) * 2007-04-12 2012-09-12 キヤノン株式会社 撮像装置、撮像システム及び撮像装置の駆動方法
WO2008133146A1 (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Rosnes Corporation 固体撮像装置
JP5053737B2 (ja) 2007-07-06 2012-10-17 キヤノン株式会社 光電変換装置
JP5164509B2 (ja) 2007-10-03 2013-03-21 キヤノン株式会社 光電変換装置、可視光用光電変換装置及びそれらを用いた撮像システム
JP5106092B2 (ja) * 2007-12-26 2012-12-26 パナソニック株式会社 固体撮像装置およびカメラ
JP5221982B2 (ja) * 2008-02-29 2013-06-26 キヤノン株式会社 固体撮像装置及びカメラ
JP5213501B2 (ja) 2008-04-09 2013-06-19 キヤノン株式会社 固体撮像装置
JP2009278241A (ja) 2008-05-13 2009-11-26 Canon Inc 固体撮像装置の駆動方法および固体撮像装置
JP2009303088A (ja) * 2008-06-17 2009-12-24 Panasonic Corp 固体撮像装置、その駆動方法及びカメラ
JP2010010896A (ja) * 2008-06-25 2010-01-14 Panasonic Corp 固体撮像装置
JP5253028B2 (ja) 2008-07-23 2013-07-31 キヤノン株式会社 撮像システムおよびその制御方法
JP4617372B2 (ja) 2008-08-29 2011-01-26 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像システム
JP5371330B2 (ja) 2008-08-29 2013-12-18 キヤノン株式会社 固体撮像装置
JP5258551B2 (ja) 2008-12-26 2013-08-07 キヤノン株式会社 固体撮像装置、その駆動方法及び撮像システム
JP5558857B2 (ja) 2009-03-09 2014-07-23 キヤノン株式会社 光電変換装置およびそれを用いた撮像システム
JP5476832B2 (ja) * 2009-07-23 2014-04-23 ソニー株式会社 固体撮像装置及びカメラ
JP5631050B2 (ja) * 2010-05-10 2014-11-26 キヤノン株式会社 固体撮像装置およびカメラ

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011082769A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Canon Inc 固体撮像装置および撮像装置
JP2012257028A (ja) * 2011-06-08 2012-12-27 Canon Inc 撮像装置
US9241117B2 (en) 2011-06-08 2016-01-19 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup apparatus
CN104025566B (zh) * 2011-12-27 2015-10-14 富士胶片株式会社 摄像装置及摄像装置的控制方法
CN104025566A (zh) * 2011-12-27 2014-09-03 富士胶片株式会社 摄像装置、摄像装置的控制方法及控制程序
JP5607265B2 (ja) * 2011-12-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 撮像装置、撮像装置の制御方法、及び制御プログラム
US8964087B2 (en) 2011-12-27 2015-02-24 Fujifilm Corporation Imaging device, method for controlling imaging device, and storage medium storing a control program
JPWO2013100093A1 (ja) * 2011-12-27 2015-05-11 富士フイルム株式会社 撮像装置、撮像装置の制御方法、及び制御プログラム
WO2013100093A1 (ja) * 2011-12-27 2013-07-04 富士フイルム株式会社 撮像装置、撮像装置の制御方法、及び制御プログラム
JP2013168634A (ja) * 2012-01-18 2013-08-29 Canon Inc 固体撮像装置
WO2016199588A1 (ja) * 2015-06-09 2016-12-15 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 撮像素子および駆動方法、並びに電子機器
JPWO2016199588A1 (ja) * 2015-06-09 2018-03-29 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 撮像素子および駆動方法、並びに電子機器
US10721422B2 (en) 2015-06-09 2020-07-21 Sony Semiconductor Solutions Corporation Imaging element, driving method, and electronic device
US10728475B2 (en) 2015-06-09 2020-07-28 Sony Semiconductor Solutions Corporation Imaging element, driving method, and electronic device
US11778349B2 (en) 2015-06-09 2023-10-03 Sony Semiconductor Solutions Corporation Imaging element, driving method, and electronic device
KR20190116276A (ko) * 2017-02-22 2019-10-14 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 고체 촬상 장치 및 전자 기기
KR102510117B1 (ko) * 2017-02-22 2023-03-15 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 고체 촬상 장치 및 전자 기기
JP2021184613A (ja) * 2017-09-29 2021-12-02 株式会社ニコン 撮像素子
JP7478120B2 (ja) 2017-09-29 2024-05-02 株式会社ニコン 撮像素子、および電子機器

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