JP2010111753A - ゴム組成物及びタイヤ - Google Patents

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Abstract

【課題】優れた低発熱性、破壊強度及び耐亀裂成長性を有するゴム組成物、及び該ゴム組成物を用いて作製したベーストレッド、クッション、ケース又はタイガムを有する空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】(a)下記式(1);
Figure 2010111753

(式中、R、R及びRは、アルキル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アセタール基、カルボキシル基、メルカプト基又はこれらの誘導体を表す。R及びRは、水素原子又はアルキル基を表す。nは整数を表す。)で表される化合物により変性されたブタジエンゴム、及び/又はリチウム開始剤により重合され、スズ原子の含有量、ビニル結合量、及び分子量分布が特定範囲値のスズ変性ポリブタジエンゴムを10〜30質量%、(b)結合スチレン量が21質量%以下である変性SBRを10〜40質量%、(c)(a)及び(b)以外のジエン系ゴムを20〜80質量%含むゴム成分、を含有するゴム組成物に関する。
【選択図】なし

Description

本発明は、ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤに関する。
従来より、タイヤの転がり抵抗を低減することにより(転がり抵抗性能の向上)、車の低燃費化が行われてきたが、近年、車の低燃費化への要求はますます強くなってきており、タイヤトレッド等の各部材を製造するためのゴム組成物に対して、更なる低発熱性が要求されている。
ゴム組成物において低発熱性を満足させる方法として、補強用充填剤の含有量を減量する方法が知られているが、この場合、ゴム組成物の硬度が低下する。一方、操縦安定性を維持するためには、ゴム硬度(Hs)として55程度を有することが望ましい。従って、補強用充填剤を減量したゴム組成物においても、Hsの低下が少なく、破断強度を確保することが重要であり、この破断強度、特に破断時伸び〔EB(%)〕は、耐カット性、セパレーション成長性にも関係している。また、トレッド溝での割れが剥離バーストに到るのを抑止するため、ゴムの亀裂成長性を改善することも重要である。
補強用充填剤を減量したゴム組成物で破断強度を確保する手法として、カーボンブラックをシリカに置換する方法、所定量の天然ゴムを配合する方法が考えられる。しかしながら、天然ゴムをブタジエンゴム等に配合したポリマー系では、リバージョンが生じ易く、Hsや破断強度が低下する。また、シリカに置換しても、ポリマーとシリカとの結合が強固でないため、良好に発熱を低減できない。例えば、ブタジエンゴムとしてスズ末端変性BRを使用した場合、該スズ末端変性BRとカーボンブラック表面のCOやCOOHとは強固な結合が形成されるが、シリカとは強固な結合が形成されないので、発熱を低減させることが困難となる。更に、フィラー量が少なくなると、かえって分散が悪くなり、破断強度が低下したり、発熱が高くなることがある。
特許文献1には、アルコキシ基を含有する所定の有機ケイ素化合物で変性した変性スチレンブタジエンゴムを使用することにより、転がり抵抗、グリップ性能を改善できることが開示されている。しかし、低発熱性、破断強度、ゴムの亀裂成長性の性能をすべて満足させるには未だ改善の余地がある。また、主にスチレン量20〜30%のゴムが使用されており、ベーストレッド用、ケース被覆用、タイガム用配合での最適なスチレン量は検討されていない。
特開2001−114938号公報
本発明は、前記課題を解決し、優れた低発熱性、破壊強度及び耐亀裂成長性を有するゴム組成物、及び該ゴム組成物を用いて作製したベーストレッド、クッション、ケース又はタイガムを有する空気入りタイヤを提供することを目的とする。
本発明は、
(a)下記式(1);
Figure 2010111753
(式中、R、R及びRは、同一若しくは異なって、アルキル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アセタール基、カルボキシル基、メルカプト基又はこれらの誘導体を表す。R及びRは、同一若しくは異なって、水素原子又はアルキル基を表す。nは整数を表す。)
で表される化合物により変性されたブタジエンゴム、及び/又はリチウム開始剤により重合され、スズ原子の含有量が50〜3000ppm、ビニル結合量が5〜50質量%及び分子量分布(Mw/Mn)が2以下であるスズ変性ポリブタジエンゴムを10〜30質量%、
(b)結合スチレン量が21質量%以下である変性スチレンブタジエンゴムを10〜40質量%、
(c)(a)及び(b)以外のジエン系ゴムを20〜80質量%
含むゴム成分、並びに
(d)上記ゴム成分100質量部に対して、シリカを7〜50質量部
含有するゴム組成物に関する。
上記変性スチレンブタジエンゴムの結合スチレン量は、15質量%以下であることが好ましい。
上記変性スチレンブタジエンゴムは、上記式(1)で表される化合物により変性されたものであることが好ましい。
上記ジエン系ゴムは、天然ゴム、イソプレンゴム及びエポキシ化天然ゴムからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
本発明はまた、上記ゴム組成物を用いて作製したベーストレッド、クッション、ケース又はタイガムを有する空気入りタイヤに関する。
本発明によれば、(a)特定の化合物により変性された変性ブタジエンゴム及び/又は特定のスズ変性ポリブタジエンゴム、(b)結合スチレン量21質量%以下の変性スチレンブタジエンゴム、(c)他のジエン系ゴム、並びに(d)シリカを所定量含有するゴム組成物であるので、該ゴム組成物をベーストレッド、クッション、ケース、タイガム等に使用することにより、優れた低発熱性、破壊強度及び耐亀裂成長性を有する空気入りタイヤを提供することができる。
本発明のゴム組成物は、ゴム成分として、(a)上記式(1)で表される化合物により変性されたブタジエンゴム(S変性BR)、及び/又はリチウム開始剤により重合され、スズ原子の含有率が50〜3000ppm、ビニル結合量が5〜50質量%及び分子量分布(Mw/Mn)が2以下であるスズ変性ポリブタジエンゴム(スズ変性BR)、(b)結合スチレン量が21質量%以下である変性スチレンブタジエンゴム(変性SBR)、(c)(a)及び(b)以外のジエン系ゴムが使用され、更に(d)シリカも配合されている。当該ゴム組成物を用いることで、低発熱性及び耐久性(破壊強度、耐亀裂成長性)に優れたタイヤを得ることができる。
(a)成分のS変性BRは、上記式(1)で表される化合物により変性されたブタジエンゴムである。該S変性BRを使用することにより、ポリマーのTg(ガラス転移温度)を低下させることができ、またカーボンブラックとポリマーとの結合を強固にすることもできる。更に、S変成BRは、シリカと強固な結合を形成し、また練り時にシリカの分散を促進し、EBを向上させることもできる。S変成BRとしては、上記式(1)で表される化合物で、BRの少なくとも末端を変性したものが好適に用いられる。
上記式(1)で表される化合物において、R、R及びRは、同一若しくは異なって、アルキル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アセタール基、カルボキシル基(−COOH)、メルカプト基(−SH)又はこれらの誘導体を表す。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基等が挙げられる。上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等の炭素数1〜8のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6、より好ましくは炭素数1〜4)等が挙げられる。なお、アルコキシ基には、シクロアルコキシ基(シクロヘキシルオキシ基等の炭素数5〜8のシクロアルコキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ベンジルオキシ基等の炭素数6〜8のアリールオキシ基等)も含まれる。
上記シリルオキシ基としては、例えば、炭素数1〜20の脂肪族基、芳香族基が置換したシリルオキシ基(トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ジエチルイソプロピルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリルオキシ基、t−ブチルジフェニルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ−p−キシリルシリルオキシ基等)等が挙げられる。
上記アセタール基としては、例えば、−C(RR′)−OR″、−O−C(RR′)−OR″で表される基を挙げることができる。前者としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、t−ブトキシメチル基、ネオペンチルオキシメチル基等が挙げられ、後者としては、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、i−プロポキシメトキシ基、n−ブトキシメトキシ基、t−ブトキシメトキシ基、n−ペンチルオキシメトキシ基、n−ヘキシルオキシメトキシ基、シクロペンチルオキシメトキシ基、シクロヘキシルオキシメトキシ基等を挙げることができる。R、R及びRとしては、アルコキシ基が望ましい。これにより、優れた低発熱性、破壊強度及び耐亀裂成長性を得ることができる。
及びRのアルキル基としては、例えば、上記アルキル基と同様の基を挙げることができる。
n(整数)としては、1〜5が好ましい。これにより、優れた低発熱性、破壊強度及び耐亀裂成長性を得ることができる。更には、nは2〜4がより好ましく、3が最も好ましい。nが0であるとケイ素原子と窒素原子との結合が困難であり、nが6以上であると変性剤としての効果が薄れる。
上記式(1)で表される化合物の具体例としては、3−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルブトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジブトキシシラン、ジメチルアミノメチルトリメトキシシラン、2−ジメチルアミノエチルトリメトキシシラン、3−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、4−ジメチルアミノブチルトリメトキシシラン、ジメチルアミノメチルジメトキシメチルシラン、2−ジメチルアミノエチルジメトキシメチルシラン、3−ジメチルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、4−ジメチルアミノブチルジメトキシメチルシラン、ジメチルアミノメチルトリエトキシシラン、2−ジメチルアミノエチルトリエトキシシラン、3−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン、4−ジメチルアミノブチルトリエトキシシラン、ジメチルアミノメチルジエトキシメチルシラン、2−ジメチルアミノエチルジエトキシメチルシラン、3−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、4−ジメチルアミノブチルジエトキシメチルシラン、ジエチルアミノメチルトリメトキシシラン、2−ジエチルアミノエチルトリメトキシシラン、3−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、4−ジエチルアミノブチルトリメトキシシラン、ジエチルアミノメチルジメトキシメチルシラン、2−ジエチルアミノエチルジメトキシメチルシラン、3−ジエチルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、4−ジエチルアミノブチルジメトキシメチルシラン、ジエチルアミノメチルトリエトキシシラン、2−ジエチルアミノエチルトリエトキシシラン、3−ジエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、4−ジエチルアミノブチルトリエトキシシラン、ジエチルアミノメチルジエトキシメチルシラン、2−ジエチルアミノエチルジエトキシメチルシラン、3−ジエチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、4−ジエチルアミノブチルジエトキシメチルシラン等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記S変性BRのビニル含量は、好ましくは35質量%以下、より好ましくは25質量%以下、更に好ましくは20質量%以下である。ビニル含量が35質量%を超えると、低発熱性が損なわれる傾向にある。ビニル含量の下限は特に限定されない。
なお、ビニル含量(1,2−結合ブタジエン単位量)は、赤外吸収スペクトル分析法によって測定できる。
上記式(1)で表される化合物(変性剤)によるブタジエンゴムの変性方法としては、特公平6−53768号公報、特公平6−57767号公報等に記載されている方法等、従来公知の手法を用いることができる。例えば、ブタジエンゴムと変性剤とを接触させればよく、ブタジエンゴムを重合し、該重合体ゴム溶液中に変性剤を所定量添加する方法、ブタジエンゴム溶液中に変性剤を添加して反応させる方法等が挙げられる。
変性されるブタジエンゴム(BR)としては特に限定されず、例えば、日本ゼオン(株)製のBR1220、宇部興産(株)製のBR130B、BR150B等の高シス含有量のBR、宇部興産(株)製のVCR412、VCR617等のシンジオタクチックポリブタジエン結晶を含有するBR等を使用できる。
(a)成分のスズ変性BRは、リチウム開始剤により1,3−ブタジエンの重合を行った後、スズ化合物を添加することにより得られ、更に該スズ変性BR分子の末端はスズ−炭素結合で結合されていることが好ましい。該スズ変性BRを使用することにより、ポリマーのTg(ガラス転移温度)を低下することができ、またカーボンブラックとポリマーとの結合を強固にすることもできる。
リチウム開始剤としては、アルキルリチウム、アリールリチウム、アリルリチウム、ビニルリチウム、有機スズリチウム、有機窒素リチウム化合物などのリチウム系化合物が挙げられる。リチウム系化合物を開始剤とすることで、高ビニル、低シス含量のスズ変性BRを作製できる。
スズ化合物としては、四塩化スズ、ブチルスズトリクロライド、ジブチルスズジクロライド、ジオクチルスズジクロライド、トリブチルスズクロライド、トリフェニルスズクロライド、ジフェニルジブチルスズ、トリフェニルスズエトキシド、ジフェニルジメチルスズ、ジトリルスズクロライド、ジフェニルスズジオクタノエート、ジビニルジエチルスズ、テトラベンジルスズ、ジブチルスズジステアレート、テトラアリルスズ、p−トリブチルスズスチレンなどが挙げられ、これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
スズ変性BRのスズ原子の含有量は50ppm以上、好ましくは60ppm以上である。含有量が50ppm未満では、スズ変性BR中のカーボンブラックの分散を促進する効果が小さく、tanδが増大する。また、スズ原子の含有量は3000ppm以下、好ましくは2500ppm以下、更に好ましくは250ppm以下である。含有量が3000ppmを超えると、混練り物のまとまりが悪く、エッジが整わないため、混練り物の押出し性が悪化する。
スズ変性BRの分子量分布(Mw/Mn)は2以下、好ましくは1.5以下である。Mw/Mnが2を超えると、カーボンブラックの分散性が悪化し、tanδが増大するため好ましくない。
なお、本発明において、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)を用い、標準ポリスチレンより換算した値である。
スズ変性BRのビニル結合量は5質量%以上、好ましくは7質量%以上である。ビニル結合量が5質量%未満では、スズ変性BRを重合(製造)することが困難である。また、ビニル結合量は50質量%以下、好ましくは20質量%以下である。ビニル結合量が50質量%を超えると、カーボンブラックの分散性が悪く、また、引張強さが弱くなる傾向がある。
ゴム成分100質量%中のS変性BR及び/又はスズ変性BRの含有量は、10質量%以上、好ましくは12質量%以上、より好ましくは15質量%以上である。10質量%未満であると、低発熱性の効果があまり期待できない。上記S変性BR及び/又はスズ変性BRの含有量は、30質量%以下、好ましくは28質量%以下、より好ましくは25質量%以下である。30質量%を超えると、ゴムの破断強度が不十分となる傾向がある。なお、S変性BR及び/又はスズ変性BRの含有量は、S変性BR及びスズ変性BRの合計含有量である。
本発明では、(b)成分として変性SBRが使用される。該変性SBRを用いることにより、リバージョンを抑制できるとともに、tanδを低減させることができる。
変性SBRとしては、乳化重合変性SBR(変性E−SBR)と溶液重合変性SBR(変性S−SBR)が挙げられる。通常、溶液重合の方が分子量をコントロールし易い。一方、乳化重合であると分子量のコントロールは困難であり、tanδは高くなる傾向がある。
変性SBRの結合スチレン量は、tanδの低減の点から、21質量%以下であり、好ましくは15質量%以下、より好ましくは13質量%以下である。また、変性SBRの結合スチレン量は、リバージョンの抑制、E(Hs)を高める点から、好ましくは5質量%以上、より好ましくは7質量%以上、更に好ましくは8質量%以上である。
変性SBRとしてはJSR(株)製のHPR340などのように、結合スチレン量の小さいものが好ましい。
なお、スチレン量は、H−NMR測定により算出される。
変性SBRとしては、スズやケイ素などでカップリングされたものが好ましく用いられる。変性SBRのカップリング方法としては、常法に従って、例えば、変性SBRの分子鎖末端のアルカリ金属(Liなど)やアルカリ土類金属(Mgなど)を、ハロゲン化スズやハロゲン化ケイ素などと反応させる方法などが挙げられる。
変性SBRは、共役ジオレフィン単独、又は共役ジオレフィンと芳香族ビニル化合物とを(共)重合して得られた(共)重合体であり、第1級アミノ基やアルコキシシリル基を有することが好ましい。第1級アミノ基は、重合開始末端、重合終了末端、重合体主鎖、側鎖のいずれに結合していてもよいが、重合体末端からエネルギー消失を抑制してヒステリシスロス特性を改良し得る点から、重合開始末端又は重合終了末端に導入されていることが好ましい。
溶液重合の変性SBRのなかでも、特にスチレンブタジエンゴム(SBR)を上記式(1)で表される化合物により変性したもの(変性S−SBR)が好適に用いられる。これにより、ポリマーの分子量をコントロールし易く、tanδを増大させる低分子量成分を少なくすることができ、更にシリカとポリマー鎖の結合を強め、30〜60℃のtanδを低減させることで低燃費性を向上させることができる。SBRを上記式(1)で表される化合物で変性する方法は、前述のブタジエンゴムの変性方法と同様の方法を用いることができる。
変性SBRの重量平均分子量(Mw)は、充分な破断特性が得られる点から、100万以上が好ましく、120万以上がより好ましい。また、変性SBRのMwは、ゴムの粘度を調節し、混練り加工を容易にできる点から、200万以下が好ましく、180万以下がより好ましい。
ゴム成分100質量%中の変性SBRの含有量は、ブレーキ性能などのグリップ特性及び操縦応答性に優れるという点から、10質量%以上であり、好ましくは12質量%以上、より好ましくは15質量%以上である。また、上記変性SBRの含有量は、変性BRなどの他のゴム成分を併用して、発熱を抑えるという点から、また、NRを用い、破断強度を確保する意味で、40質量%以下であり、好ましくは38質量%以下、より好ましくは35質量%以下である。
本発明では、(c)成分として、上記(a)及び(b)成分のS変性BR、スズ変性BR及び変性SBR以外のジエン系ゴムが使用される。
ジエン系ゴムとしては、例えば、天然ゴム(NR)、エポキシ化天然ゴム(ENR)、ブタジエンゴム(BR)、スチレンブタジエンゴム(SBR)、イソプレンゴム(IR)、エチレン−プロピレン−ジエンゴム(EPDM)、ブチルゴム(IIR)、ハロゲン化ブチルゴム(X−IIR)、クロロプレンゴム(CR)、アクリルニトリル(NBR)、イソモノオレフィンとパラアルキルスチレンとの共重合体のハロゲン化物等を使用できる。なかでも、破断強度と加工性の確保の点から、NR、IR、ENRを使用することが好ましい。
NRとしては特に限定されず、例えば、SIR20、RSS♯3、TSR20等、タイヤ工業において一般的なものを使用できる。IR、ENRとしてもタイヤ工業で一般的なものを使用できる。
ゴム成分100質量%中の(c)成分のジエン系ゴムの含有量は、20質量%以上、好ましくは25質量%以上、より好ましくは30質量%以上である。20質量%未満であると、破断強度が低下する傾向がある。該ジエン系ゴムの含有量は、80質量%以下、好ましくは75質量%以下、より好ましくは70質量%以下である。80質量%を超えると、リバージョンのため、Eの低下、tanδの悪化の傾向がある。
本発明では、(d)成分としてシリカが使用される。シリカを配合することにより、破断強度を向上できるとともに、tanδを低減できる。シリカとしては特に限定されず、例えば、乾式法シリカ(無水ケイ酸)、湿式法シリカ(無水ケイ酸)等が挙げられるが、シラノール基が多いという理由から、湿式法シリカが好ましい。
シリカのチッ素吸着比表面積(NSA)は、40m/g以上が好ましく、45m/g以上がより好ましい。40m/g未満では、破断強度が低下する傾向がある。また、シリカのNSAは、250m/g以下が好ましく、200m/g以下がより好ましい。250m/gを超えると、発熱性が低下する傾向がある。
なお、シリカの窒素吸着比表面積は、ASTM D3037−81に準じてBET法で測定される値である。
シリカの含有量は、ゴム成分100質量部に対して、7質量部以上、好ましくは9質量部以上、より好ましくは12質量部以上、更に好ましくは15質量部以上である。7質量部未満であると、シリカの配合による充分な効果が得られず、破断強度が低下する。上記シリカの含有量は、50質量部以下、好ましくは45質量部以下、より好ましくは40質量部以下である。50質量部を超えると、発熱性が悪くなる。
本発明のゴム組成物は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤としては、ゴム工業において、従来からシリカと併用される任意のシランカップリング剤を使用することができ、例えば、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(4−トリエトキシシリルブチル)テトラスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(2−トリメトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(4−トリメトキシシリルブチル)テトラスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(4−トリエトキシシリルブチル)トリスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(2−トリメトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(4−トリメトキシシリルブチル)トリスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(4−トリエトキシシリルブチル)ジスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2−トリメトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(4−トリメトキシシリルブチル)ジスルフィド、3−トリメトキシシリルプロピル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3−トリエトキシシリルプロピル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、2−トリエトキシシリルエチル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、2−トリメトキシシリルエチル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3−トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィド、3−トリエトキシシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィド、3−トリエトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィド、3−トリメトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィドなどのスルフィド系、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、2−メルカプトエチルトリメトキシシラン、2−メルカプトエチルトリエトキシシランなどのメルカプト系、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどのビニル系、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランなどのグリシドキシ系、3−ニトロプロピルトリメトキシシラン、3−ニトロプロピルトリエトキシシランなどのニトロ系、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、2−クロロエチルトリメトキシシラン、2−クロロエチルトリエトキシシランなどのクロロ系などが挙げられる。商品名としてはSi69、Si75、Si363(デグッサ社製)やNXT、NXT−LV、NXT−ULV、NXT−Z(GE製)などがある。なかでも、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィドが好ましい。これらのシランカップリング剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
シランカップリング剤の含有量は、シリカの含有量100質量部に対して5質量部以上が好ましく、8質量部以上がより好ましい。5質量部未満では、破壊強度が大きく低下する傾向がある。また、シランカップリング剤の含有量は、シリカの含有量100質量部に対して15質量部以下が好ましく、10質量部以下がより好ましい。15質量部を超えると、シランカップリング剤を添加することによる破壊強度の増加や転がり抵抗低減などの効果が得られない傾向がある。
本発明のゴム組成物には、カーボンブラックを配合してもよい。これにより、ゴムの強度を向上させることができる。カーボンブラックとしては、例えば、GPF、HAF、ISAF、SAFなどを用いることができる。N550又はN660以下のグレードを使用することが好ましい。
カーボンブラックを使用する場合、カーボンブラックのチッ素吸着比表面積(NSA)は20m/g以上が好ましく、30m/g以上がより好ましい。NSAが20m/g未満では、充分な補強性が得られない傾向がある。また、カーボンブラックのNSAは50m/g以下が好ましく、45m/g以下がより好ましい。NSAが50m/gを超えると、tanδが大きくなる傾向がある。カーボンブラックのチッ素吸着比表面積は、JIS K6217のA法によって求められる。
カーボンブラックの含有量は、ゴム成分100質量部に対して、好ましくは5質量部以上、より好ましくは10質量部以上である。5質量部未満では、充分な補強性が得られない傾向がある。また、カーボンブラックの含有量は、ゴム成分100質量部に対して、好ましくは50質量部以下、より好ましくは40質量部以下である。50質量部を超えると、発熱が大きくなる傾向がある。
カーボンブラックを配合する場合、(d)成分のシリカ及びカーボンブラックの合計含有量は、好ましくは20質量部以上、より好ましくは30質量部以上である。一方、上記合計含有量は、好ましくは70質量部以下、より好ましくは50質量部以下である。この範囲内であると、破断強度、シート加工性、tanδ、Hsの点で有利である。
本発明のゴム組成物には、前記成分以外にも、ゴム組成物の製造に一般に使用される配合剤、例えば、クレー等の補強用充填剤、酸化亜鉛、ステアリン酸、各種老化防止剤、アロマオイル等のオイル、ワックス、加硫剤、加硫促進剤などを適宜配合することができる。
加硫剤としては、硫黄又は硫黄化合物が挙げられ、例えば、オイル処理した不溶性硫黄が好適に用いられる。加硫促進剤としては、N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド(TBBS)、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド(CBS)、N,N’−ジシクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド(DZ)、メルカプトベンゾチアゾール(MBT)、ジベンゾチアゾリルジスルフィド(MBTS)、ジフェニルグアニジン(DPG)などが挙げられる。なかでも、加硫特性に優れ、加硫後のゴムの物性において、低発熱性に優れ、機械的硬度向上の効果も大きいという理由から、TBBS、CBS、DZなどのスルフェンアミド系加硫促進剤が好ましい。特に、CBS及びDPGを併用することが好ましい。
本発明のゴム組成物の製造方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、前記各成分をオープンロール、バンバリーミキサーなどのゴム混練装置を用いて混練し、その後加硫する方法等により製造できる。
本発明のゴム組成物は、ベーストレッド用、クッション(ブレーカークッション)用、ケース被覆用、タイガム用ゴム組成物として好適に使用できる。ベーストレッドとは、多層構造を有するトレッドの内層部であり、例えば2層構造〔表面層(キャップトレッド)及び内面層(ベーストレッド)〕からなるトレッドでは内面層である。クッション(ブレーカークッション)とは、ブレーカーのエッジ部とケースとの間に配される層である。ケースとは、ケースコード及びケースコード被覆ゴム層からなる部材であり、上記ゴム組成物はケースコード被覆ゴム層に使用できる。タイガムとは、ケースコード被覆ゴムと(ブチル組成の場合多い)インナーライナーとの間に挿入される緩衝目的のゴム層をいう。
ケース用の配合には、ベーストレッドの配合に更に接着レジン(スミカノール620、507A)を添加し、老化防止剤系を変更すること等で適用できる。また、タイガム用、クッション用の配合は、ベーストレッドの配合の老化防止剤系を変更すること等で適用できる。
本発明の空気入りタイヤは、上記ゴム組成物を用いて通常の方法によって製造される。すなわち、必要に応じて各種添加剤をゴム組成物を、未加硫の段階でベーストレッド、クッション、ケースコード被覆ゴム層、タイガムの形状に合わせて押し出し加工し、タイヤ成型機上にて通常の方法にて成形し、他のタイヤ部材とともに貼り合わせ、未加硫タイヤを形成した後、加硫機中で加熱加圧してタイヤを製造することができる。
また、本発明のタイヤは、乗用車用タイヤ、バス用タイヤ、トラック用タイヤ等として好適に用いられる。
実施例に基づいて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
以下、実施例及び比較例で使用した各種薬品について、まとめて説明する。
スズ変性BR:日本ゼオン(株)製のBR1250H(開始剤としてリチウムを用いて重合、ビニル結合量:10〜13質量%、Mw/Mn:1.5、スズ原子の含有量:250ppm)
S変性BR:住友化学(株)製の変性ブタジエンゴム(ビニル含量15質量%、R、R及びR=−OCH、R及びR=−CHCH、n=3)
BR:宇部興産(株)製のBR150B(ハイシスブタジエンゴム、非変性)
SPB含有BR:宇部興産(株)製のVCR617(ハイシスブタジエンゴム、1,2−シンジオタクチックポリブタジエン結晶(SPB)分散体、SPBの含有率:17質量%、非変性)
変性SBR(HPR340):JSR(株)製のHPR340(変性S−SBR、結合スチレン量:10質量%、アルコキシシランでカップリングし末端に導入、式(1)で表される化合物により変性)
変性SBR(HPR350):JSR(株)製のHPR350(変性S−SBR、結合スチレン量:21質量%、アルコキシシランでカップリングし末端に導入、式(1)で表される化合物により変性)
変性SBR(HPR355):JSR(株)製のHPR355(変性S−SBR、結合スチレン量:27質量%、アルコキシシランでカップリングし末端に導入、R、R及びR=−OCH、R及びR=H、n=3)
SBR:日本ゼオン(株)製のNipol1502(E−SBR、結合スチレン量:23.5質量%、非変性)
NR:TSR20
カーボンブラック(N660):東海カーボン(株)製のシーストV(N660、NSA:27m/g)
カーボンブラック(N550):キャボットジャパン(株)製のショウブラックN550(NSA:41m/g)
シリカ(Z115Gr):ローディア社製のZ115Gr(NSA:112m/g)
シリカ(VN3):日本シリカ工業(株)のニプシルVN3(NSA:175m/g)
シランカップリング剤:デグッサヒュルス(株)製のSi75(ビス(3−トリエトキシシリルプロピルジスルフィド)
酸化亜鉛:東邦亜鉛(株)製の銀嶺R
ステアリン酸:日本油脂(株)製の椿
老化防止剤:大内新興化学工業(株)製のノクラック6C(N−1,3−ジメチルブチル
−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン)
ワックス:大内新興化学工業(株)製のサンノックワックス
アロマオイル:(株)ジャパンエナジー製のプロセスX−140
不溶性硫黄:日本乾溜工業(株)セイミサルファー(2硫化炭素による不溶分60%、オイル分10%)
加硫促進剤CBS:大内新興化学工業(株)製のノクセラーCZ(N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド)
加硫促進剤DPG:大内新興化学工業(株)製のノクセラーD(N,N’−ジフェニルグアニジン)
実施例1〜10及び比較例1〜8
表1〜2に示す配合処方にしたがい、バンバリーミキサーを用いて、硫黄及び加硫促進剤以外の薬品を最高温度が165℃条件下、5分間混練りし、混練り物を得た。次に、オープンロールを用いて、得られた混練り物に硫黄及び加硫促進剤を添加し、最高温度が97℃条件下、3分間練り込み、未加硫ゴム組成物を得た。更に、得られた未加硫ゴム組成物をシート状に圧延後、金型で170℃の条件下で12分間プレス加硫し、加硫ゴム組成物(加硫ゴムシート)を得た。
得られた加硫ゴムシートを下記により評価した。結果を表1〜2に示す。
(粘弾性試験)
加硫ゴムシートを所定のサンプル形状に調整し、(株)岩本製作所製の粘弾性スペクトロメータを用いて、周波数10Hz、初期歪み10%及び動歪2%の条件下で、30℃における加硫ゴムシートのEとtanδを測定した。Eが大きいほど剛性が高く、硬度が高いことを示し、tanδが小さいほど低発熱性に優れることを示す。
(引張試験)
JIS K 6251「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−引張特性の求め方」に準じて、各加硫ゴムシートからなる3号ダンベル型試験片を用いて引張試験を実施し、破断時伸び(EB)を測定した。EBが大きいほどゴム強度が優れることを示す。
(耐亀裂成長性)
前記加硫ゴム組成物から、所定のサイズの加硫ゴム試験片を切り出し、JIS K 6260「加硫ゴム及び熱可塑性ゴムのデマチャ屈曲亀裂試験方法」に準じて、加硫ゴム試験片を12万回繰り返し屈曲させたときの亀裂の成長長さ(mm)を測定し、比較例6の耐亀裂成長性指数を100とし、以下の計算式により、各配合の亀裂の成長長さを指数表示した。なお、耐亀裂成長性指数が大きいほど、亀裂が成長しにくく、耐亀裂成長性に優れることを示す。
(耐亀裂成長性指数)=(比較例6の亀裂成長長さ)÷(各配合の亀裂成長長さ)×100
Figure 2010111753
Figure 2010111753
実施例では、高い破壊強度を有すると同時に、低発熱性にも優れ、更に耐亀裂成長性にも優れたゴム組成物が得られた。一方、実施例1の変性SBR(HPR340:スチレン量10%)に代えて、変性SBR(HPR355:スチレン量27%)、SBR(非変性)を使用した比較例1〜2では低発熱性及び耐亀裂成長性が低下した。また、実施例1のスズ変性BRに代えて、BR(非変性)を使用した比較例3では、低発熱性が低下した。
変性SBRを配合していない比較例4では硬度が低下し、スズ変性BRを配合していない比較例5では耐亀裂成長性が低下した。また、シリカを配合していない比較例6では破断時伸び及び耐亀裂成長性が低下し、シリカを多量配合した比較例7では低発熱性が低下した。更に、NR量が少ない比較例8では、破断時伸びが低下した。

Claims (5)

  1. (a)下記式(1);
    Figure 2010111753
    (式中、R、R及びRは、同一若しくは異なって、アルキル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アセタール基、カルボキシル基、メルカプト基又はこれらの誘導体を表す。R及びRは、同一若しくは異なって、水素原子又はアルキル基を表す。nは整数を表す。)
    で表される化合物により変性されたブタジエンゴム、及び/又はリチウム開始剤により重合され、スズ原子の含有量が50〜3000ppm、ビニル結合量が5〜50質量%及び分子量分布(Mw/Mn)が2以下であるスズ変性ポリブタジエンゴムを10〜30質量%、
    (b)結合スチレン量が21質量%以下である変性スチレンブタジエンゴムを10〜40質量%、
    (c)(a)及び(b)以外のジエン系ゴムを20〜80質量%
    含むゴム成分、並びに
    (d)前記ゴム成分100質量部に対して、シリカを7〜50質量部
    含有するゴム組成物。
  2. 前記変性スチレンブタジエンゴムの結合スチレン量が15質量%以下である請求項1記載のゴム組成物。
  3. 前記変性スチレンブタジエンゴムが前記式(1)で表される化合物により変性されたものである請求項1又は2記載のゴム組成物。
  4. 前記ジエン系ゴムが天然ゴム、イソプレンゴム及びエポキシ化天然ゴムからなる群より選択される少なくとも1種である請求項1〜3のいずれかに記載のゴム組成物。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載のゴム組成物を用いて作製したベーストレッド、クッション、ケース又はタイガムを有する空気入りタイヤ。
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