JP2008506271A - Sti集積を行わない半導体成長プロセスを用いた能動領域の形成 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、一般的には半導体デバイスに関する。本発明は特に、STI集積を行わない半導体成長プロセスを用いた能動領域の形成に関する。
半導体集積回路は、基板などの半導体基材上に多くのデバイスが形成される。トランジスタなどのこれらのデバイスは、半導体基材の能動領域内に形成されている。能動領域は、一般的に絶縁領域によって互いに分離されている。例えば寸法が0.5μmを超える半導体デバイスは、LOCOSとして知られているフィールド酸化膜分離(field oxide isolation)を一般的に用いる。例えば0.25μm以下のより微細な集積回路は、一般的にはSTI(shallow trench isolation)を用いる。
半導体成長プロセスを用いて能動領域を形成する本発明の好ましい形態によって、上記および上記以外の問題は解決または回避され、一般的に技術的優位性が得られる。
本発明および本発明の利点をより完全に理解するために、添付図面と共に以下の説明を参照する。添付図面は次の通りである:
図1a〜図1cは、従来のプロセスフローの断面図である。
好ましい実施形態の形成および実施について以下に詳述する。しかし本発明は、幅広い特定の状況において応用および実施可能な多くの概念を提供していることについて理解されたい。記載されている具体的な実施形態は、単に本発明の具体的な形成および実施方法を示したものであって、本発明の範囲を限定するものではない。
Claims (28)
- 半導体デバイスを形成する方法であって、
半導体基材を準備する工程と、
上記半導体基材上に絶縁層を形成する工程と、
上記半導体基材を露出させるために上記絶縁層の一部を除去する工程と、
露出された上記半導体基材上に半導体材料を成長させる工程と、
成長させた上記半導体材料内にデバイスを形成する工程と、を含む方法。 - 半導体基材を準備する上記工程には、ベアシリコン基板を準備する工程が含まれる、請求項1に記載の方法。
- 絶縁層を形成する上記工程には、酸化物層を形成する工程が含まれる、請求項1に記載の方法。
- 上記絶縁層が高誘電率層を有している、請求項1に記載の方法。
- 上記半導体基材が、上記半導体材料と同一の材料である、請求項1に記載の方法。
- 上記絶縁層の一部を除去する上記工程が、上記絶縁層内に複数のトレンチをエッチングする工程を含み、
半導体材料を成長させる上記工程が、上記トレンチを完全に充填する工程を含んでいる、請求項1に記載の方法。 - 充填した上記トレンチの最上面を平坦化する工程をさらに含んでいる、請求項6に記載の方法。
- 上記絶縁層上にフォトレジストを堆積する工程と、
マスクを用いて上記フォトレジストをパターン形成する工程と、をさらに含み、
上記絶縁層の一部を除去する上記工程が、上記フォトレジストをマスクとして用いて上記絶縁層をエッチングする工程を含んでいる、請求項1に記載の方法。 - 半導体材料を成長させる工程には、選択的エピタキシャルプロセスを行う工程が含まれている、請求項1に記載の方法。
- デバイスを形成する上記工程には、トランジスタを形成する工程が含まれている、請求項1に記載の方法。
- デバイスを形成する上記工程には、MOSトランジスタを形成する工程が含まれている、請求項10に記載の方法。
- STIプロセスを用いることなく半導体デバイスを形成するための形成方法であって、
シリコン基材の最上面上に絶縁層を形成する工程と、
上記シリコン基材の一部を露出するために、上記半導体基材へと伸びる複数のトレンチを上記絶縁層内にエッチングする工程と、
上記トレンチを充填するためにシリコンをエピタキシャル成長させる工程と、
充填した上記トレンチの最上面を平坦化する工程と、を含んでいる方法。 - シリコンが充填された上記トレンチの1つにトランジスタデバイスを形成する工程をさらに含んでいる、請求項12に記載の方法。
- 絶縁層を形成する上記工程には、酸化物層を形成する工程が含まれている、請求項12に記載の方法。
- 絶縁層を形成する上記工程には、高密プラズマプロセスを用いて酸化物を堆積する工程が含まれている、請求項14に記載の方法。
- 絶縁層を形成する上記工程には、TEOS前駆ガスを用いて酸化物を堆積する工程が含まれている、請求項14に記載の方法。
- 絶縁層を形成する上記工程には、窒化物層を形成する工程が含まれている、請求項14に記載の方法。
- 半導体デバイスであって、
半導体基板と、
上記半導体基板上に配置されている、半導体材料から形成された複数の能動領域と、
上記半導体基板上に配置されている複数の絶縁領域と、
複数のトランジスタとを備えており、
各々の上記能動領域は、上記基板において、能動領域の半導体材料を上記基板の半導体材料と接触させたインターフェイスを有しており、
1つの上記絶縁領域によって上記能動領域同士が分離されるように、各々の上記絶縁領域は、上記基板上において上記能動領域と隣接して配置されており、
各々の上記トランジスタは、能動領域の上記半導体材料内に配置された2つのドープ領域、及び上記能動領域の上記半導体材料上に配置された電極を少なくとも有している、半導体デバイス。 - 上記能動領域が厚さを有し、上記分離領域が厚さを有し、
上記能動領域の上記厚さが、上記分離領域の上記厚さとほぼ等しい、請求項18に記載のデバイス。 - 上記分離領域の上記厚さ、及び上記能動領域の上記厚さが、100nm〜500nmの間である、請求項19に記載のデバイス。
- 各上記トランジスタが、上記能動領域の上記半導体材料内に配置されたソース領域およびドレイン領域と、上記能動領域の上記半導体材料上に配置されたゲート電極と、を有したMOSトランジスタを有している、請求項18に記載のデバイス。
- 上記能動領域のいくつかはn型不純物によってドープされ、その他の上記能動領域はp型不純物によってドープされ、かつ、
上記複数のトランジスタがCMOSトランジスタを含んでいる、請求項21に記載のデバイス。 - 上記トランジスタがバイポーラトランジスタを含んでいる、請求項18に記載のデバイス。
- 上記基板と上記能動領域との上記界面が断面図において検出不可能である、請求項18に記載のデバイス。
- 上記分離領域が酸化物領域を有している、請求項18に記載のデバイス。
- 上記分離領域が窒化物領域を有している、請求項18に記載のデバイス。
- 上記分離領域が高誘電体領域を有している、請求項18に記載のデバイス。
- 上記能動領域の上記半導体材料が、上記半導体基板の上記半導体材料と同一材料である、請求項18に記載のデバイス。
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