JP2008112968A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】製品の品質の低下及び装置の損傷を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０上で動作する制御プログラム４０において、レシピ記憶部４０８及びパラメータ記憶部４１０は、制御に関するデータを記憶するデータ記憶手段を構成する。権限のあるユーザが認証処理により認証されると、該ユーザは編集画面を介してデータの編集操作を行う。設定部４０６は、前記データ記憶手段により記憶されているデータを編集するための操作をＵＩ装置２０を介して受け付ける。計時部４１６は、設定部４０６により受け付けられる操作の間の時間を計測して操作制御部４１４に対して出力する。操作制御部４１４は、計時部４１６により計測された時間が所定時間を超えた場合、データを編集するための操作の受付を禁止する。
【選択図】図６

Description

本発明は、半導体基板やガラス基板等を処理する基板処理装置に関する。

この種の基板処理装置は、所定の制御パラメータ及び装置パラメータの下で、複数のプロセス等からなる運転レシピに基づいて制御される。このような運転レシピや装置パラメータは、編集権限を有するユーザにより所定の編集画面を介して編集される。

特許文献１では、複数のプロセス室を備え、被処理体であるウェハを複数のプロセス室に流して、ウェハに対して異なる複数のプロセスを実行する半導体処理装置であって、複数のプロセス等からなる運転レシピを作成するための運転レシピ作成画面を表示部に表示する装置が開示されている。

特開平１１−１９５５７３号公報

しかしながら、編集権限を有するユーザが、緊急の高いトラブル対応、非常ベル鳴動による避難、体調不良等の事情により、運転レシピ等の編集中に装置から離れる場合、画面上に表示されている運転レシピ等は、本来編集権限を有さない（編集することが許されていない）ユーザにより編集されてしまうおそれがある。もし、装置が、誤って編集された運転レシピや装置パラメータに基づいて実行されてしまうと、装置がダメージを受ける、あるいは製品の品質が劣化する等の種々の問題が発生する。

本発明は、編集権限を有さないユーザによる不適切な編集を防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明に係る基板処理装置は、作成又は編集されたレシピを実行して基板を処理する基板処理装置であって、レシピを作成又は編集するための編集画面を表示する表示手段と、前記表示手段により表示された編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、ログアウト処理及び前記編集画面から当該編集画面とは異なる所定の画面への画面切り替え処理を行うとともに前記レシピに関するデータのうち前記ログアウト処理までに編集されたデータの削除処理を行うように制御する制御手段とを有する。

好適には。前記制御手段は、前記編集画面から初期画面に切り替える。
好適には、前記制御手段は、前記編集画面から認証画面に切り替える。

好適には、前記初期画面には、操作権限の変更及びログイン処理を行うための指定手段が含まれ、前記制御手段は、前記指定手段を介して操作権限の変更及びログイン処理が行われた場合、レシピの編集操作を受け入れる。

好適には、前記制御手段は、前記認証画面を介して入力された使用者の識別子及びパスワードと、予め記憶されている使用者の識別子及びパスワードとが一致した場合、レシピの編集操作を受け入れる。

また、好適には、前記制御手段は、編集途中のレシピに関するデータを一時ファイルとして保存する。

本発明に係る基板処理装置によれば、編集権限のないユーザが運転レシピや装置パラメータ等の編集を行うことがないので、不正な運転レシピの実行による製品の品質の低下及び不正な装置パラメータの実行による装置の損傷を防止することができる。

まず、図１及び図２を参照して本発明の概略を説明する。
図１は、本発明に係る基板処理装置に対して所定の処理を行う際に表示されるメニュー画面及び認証画面を示す図であって、図１（Ａ）はメニュー画面を示し、図１（Ｂ）は認証画面を示す。図２は、本発明に係る基板処理装置に記憶されている運転レシピや装置パラメータを編集するための画面を例示する図であって、図２（Ａ）はレシピ編集画面を例示し、図２（Ｂ）はパラメータデータ（装置パラメータ）を設定することにより、装置の状態や使用可能な機能等を容易に変更するためのパラメータ編集画面パラメータ編集画面を例示する。

図１（Ａ）に示すように、メニュー画面には、初期化処理、レシピ編集処理、パラメータ編集処理、権限変更処理等の処理を指定する複数のボタンが含まれる。ユーザは、運転レシピや装置パラメータを編集する場合、メニュー画面において所望の処理に対応するボタンを押下して該処理を行う。

図１（Ｂ）に示すように、認証画面には、ユーザ識別子（ＩＤ）と該ＩＤに対応するパスワードとを入力するための入力部及びログインボタンが含まれる。ユーザがメニュー画面において所定のボタンを押下すると、認証画面が表示される。ユーザが認証画面においてＩＤ及びパスワードを入力し、ログインボタンを押下すると、このユーザがメニュー画面において選択された処理を行うことができる権限を有しているか否かが判定される。ユーザが権限を有している場合、ユーザは、選択した処理（例えば、レシピ編集、パラメータ編集等）を行うことができる。

図１を用いて、レシピ編集からレシピ実行までの流れを詳述する。
ユーザが図１（Ａ）に示される権限変更ボタンを押下すると、画面は図１（Ｂ）の認証画面に切り替えられ、ユーザはログイン（ユーザＩＤ及びパスワード入力）を行う。ログイン処理が実行されると、画面は、図１（Ａ）のメニュー画面に再度切り替えられる。ログイン前の初期画面（メニュー画面）と当該メニュー画面との違いは、当該メニュー画面では、ログインを行ったユーザが使用できる機能が色分け表示されていることである。ユーザがこの画面上でレシピ編集ボタンを押下すると、画面はレシピ編集画面に切り替えられる。ユーザは、レシピ編集画面で編集作業を行い、編集を終了したら保存終了ボタンを押下する。保存終了ボタンが押下されると、画面はメニュー画面に戻る。そして、ユーザは、図示しないレシピ実行ボタンを押下してレシピを実行させる画面を表示し、レシピを選択して実行する。

なお、ユーザが一度ログインを行うと、ログアウト処理が行われない限り、操作権限が保持される。一般的に、権限レベルの低いユーザが装置を運用しているので、レシピ編集やパラメータ設定変更などの特殊な作業が行われる場合、権限レベルの高いユーザが再ログインをしてから実施している。権限レベルの高いユーザは、このような特殊な作業を終了すると、その後ログアウトし、再度権限レベルの低いユーザがログインして装置を運用する。

図２（Ａ）に例示するように、レシピ編集画面には、運転レシピに含まれる複数のステップ、これらのステップにおける設定値、及び設定値を保存するための保存終了ボタン等を含む複数の操作ボタンが含まれる。ユーザは、レシピ編集画面において設定値を変更し、保存終了ボタンを押下することにより、運転レシピの内容を変更するとともにレシピ編集画面はメニュー画面に切り替わる。本発明において、運転レシピの内容の変更は、ＲＦ出力、圧力、処理ガス流量などの制御パラメータを設定することにより可能である。例えば、圧力が６００Ｐａのところを６０００Ｐａなどにすると、プロセス条件が異なるので基板に品質低下の要因となる。ひいては基板の損失につながる可能性がある。また、メニュー画面への切り替えは、保存終了ボタンを押下し、表示切替ボタンを押下することにより、実施するようにしてもよい。

図２（Ｂ）に例示するように、パラメータ編集画面には、複数の装置パラメータ、これらの装置パラメータの設定を保存するための保存終了ボタン等を含む複数の操作ボタンが含まれる。ユーザは、パラメータ編集画面においてパラメータの設定を変更し、保存終了ボタンを押下することにより、装置パラメータの内容を変更する。本発明において、パラメータＡは、例えばプロセス室（処理室）を設定するボタンである。一つしか有効になっていないが、これは実施形態を縦型装置としているためである。図示しないが複数の処理室を有する枚葉装置であれば、例えば全て有効と設定ができる。また、メンテナンスが必要な処理室がある場合にはその処理室を無効に設定することで残りの処理室で基板の処理を行わせるように設定できる。例えば、この設定を誤って有効と設定するとメンテナンスが必要な処理室に搬送装置が基板を入れようとしてしまい、結果基板の損失だけでなく、装置を構成する部品（搬送装置など）そのものに損傷を与えることが容易に考えられる。また、メンテナンスを必要がある処理室に誤って加熱処理が行われ、メンテナンス作業者が危険な目に遭う事態を招く恐れがある。

パラメータＢは、例えばロードポートの設定を行うボタンである。縦型装置や枚葉装置である場合に関係なく、現在使用できるロードポートの数により設定を逐次行う。例えば、この設定を誤って無効（ロードポートがない若しくはメンテナンス中）にしてしまうと、ロードポートにカセットが置けなくなる。

パラメータＣは、例えばＮ２ガスパージ機能を設定するボタンである。これは本実施形態における縦型装置の場合、後述するように、移載室１２４をクリーンな状態にする。この機能が有効になっていないと特に処理済のウェハ表面に自然酸化膜が形成されてしまい、ウェハの品質低下を招く。

パラメータＤは、例えばノッチ合せ機構を有効にするかどうか、つまりウェハのノッチ合せを行うかどうかの設定である。通常は、ウェハの品質向上のために、ウェハの位置合せ（ノッチ合せ）を行うが、処理内容によってはノッチ合せを行う必要がない場合がある。この場合、ノッチ合せを行わずにウェハ移載を行うことでスループットを稼ぐことができる。

以上、編集画面における装置パラメータの設定について説明したが、上記した本実施の形態は一例であり、これに限らず種々のパラメータ追加、変更等が行えるのは言うまでもない。例えば、ロードロック室の設定をパラメータＥとして追加できる。

本発明に係る基板処理装置は、レシピ編集画面、パラメータ編集画面等、基板処理装置の機能に関するデータを編集する画面において、データを編集するための操作を受け付ける。例えば、基板処理装置は、所定の編集画面においてユーザがキーボードを用いて入力する操作、及びマウス等のポインティングデバイスを用いて行う操作を受け付ける。

本発明に係る基板処理装置は、受け付けられる操作とその次の操作との間の時間を計測し、計測された時間が所定時間を超えた場合、データを編集するための操作の受付を禁止する。例えば、基板処理装置は、操作を受け付けずに所定時間経過した場合、ログアウト処理を行って、初期画面（例えば、メニュー画面）を表示する。この場合、ユーザは、再度、ＩＤ及びパスワードを入力しなければ、運転レシピ等の編集を行うことができない。

ログアウト処理により切り替えられた初期画面（メニュー画面）は、一番権限の低いユーザに対応した画面（デフォルト画面）になっている。これは、編集途中のレシピを他のユーザに使用されないようにするためである。また、編集途中でログアウトされる場合、ログアウトまでに編集されたデータ（パラメータ等）は、破棄される。これは、編集済のデータが保存された上で編集途中のレシピを他のユーザが気づかないでレシピを保存し実行してしまうと、誤った運転レシピで実行されることになり、製品の品質の低下及び装置の破損の原因となるためである。

ユーザは、ログアウト後のメニュー画面において、メニュー画面上の権限変更ボタンを押下して再度ログインを行い、レシピ編集画面をもう一度表示させて編集作業を行う。

なお、編集途中のレシピは、編集前の状態に戻され、編集されたデータ情報は、一時ファイルに保存されてもよい。この場合、編集途中のデータが一時ファイルに保存されているので、他のユーザが編集されていないレシピを実行することが可能である。また、ログアウト前に編集作業を行っていたユーザが再度編集作業を行う場合に有効である。例えば、編集途中まで作業したユーザが再度ログインした場合、元のレシピが一時ファイルのデータを用いて更新されるので、ユーザがレシピを再編集しなくても済むので便利である。また、元のレシピが一時ファイルを用いて更新されるか否かを選択可能にしてもよい。

ログアウト時に編集途中のデータは、該編集されたデータの使用方法やユーザの都合等は様々である。従い、汎用性を持たせるために、編集途中のデータが削除されるか又は一時ファイルに保存されるかを選択できるようにしておくのが望ましい。

また、例えば、基板処理装置は、操作を受け付けずに所定時間経過した後、ログアウト処理を行い、認証画面（図１（Ｂ））を表示し、ユーザに対してＩＤ及びパスワードを入力することを要求するようにしてもよい。この場合、ユーザは、ＩＤ及びパスワードを再び入力しなければ、運転レシピ等の編集を行うことができない。

例えば、途中まで編集していたユーザが再度ログインした場合のみ、基板処理装置が編集操作を受け付けることにより、編集途中のレシピが他のユーザにより実行されないようにすることが可能である。このような場合、ログアウト処理までに編集されたレシピに関するデータの保存も可能である。

なお、編集途中のレシピを編集前のレシピに戻し、編集途中のデータをバッファファイル（一時ファイル）に別途保存しておき、他のユーザの操作を受け付けることも可能である。この場合、編集途中まで作業したユーザが、再度ログインした場合、編集途中のデータを用いて元のレシピを更新できるようにしてもよい。また、一時ファイルで元のレシピを更新するか否かを選択するようにしてもよい。他のユーザがログインした場合、当該ユーザは編集前のレシピ（元のレシピ）を実行可能である。

したがって、編集処理の間に、基板処理装置が操作を受け付けることなく所定時間が経過した場合、レシピ編集画面から指定された所定の画面に切り替わるので、編集権限のあるユーザが不在でも、編集権限のないユーザが、編集画面において値を変更することが防止される。このため、装置が、誤って編集された運転レシピ等に基づいて制御されることが防止され、製品の品質の低下及び装置の損傷が防止される。

次に、図３乃至図５を参照して、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０を詳細に説明する。
図３は、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０の構成を、制御装置１２を中心に示す図である。
図３に示すように、基板処理装置１０は、ＣＰＵ１４及びメモリ１６などを含む制御装置１２と、ネットワークを介して外部のコンピュータなどとデータの送信及び受信を行う通信装置１８と、ハードディスクドライブなどの記憶装置２２と、液晶ディスプレイなどの表示装置並びにキーボード及びマウス等のポインティングデバイスを含むユーザインタフェース（ＵＩ）装置２０と、プロセス装置１００とを有する。

制御装置１２は、プロセス装置１００に対して、基板に対する処理の指示を発行する。また、制御装置１２は、図示しないネットワークを介して外部のホスト装置等に対してプロセス装置１００の状態などを送信する。

プロセス装置１００（基板処理装置本体）は、例えば基板に酸化並びに拡散処理及びＣＶＤ処理などを行なう縦型の装置であり、制御装置１２による指示に基づいて、温度やガスなどを調整して基板に対して成膜処理を行う。具体的には、プロセス装置１００は、記憶されている運転レシピ、制御パラメータ等に基づいて、制御装置１２により制御される。

このように、基板処理装置１０は、例えば、後述する制御プログラム４０などがインストールされた汎用コンピュータを含み、基板に対して所定の処理を行うものである。本発明の実施形態に係る基板処理装置１０は、運転レシピ、装置パラメータ等、機能に関するデータを記憶し、前記記憶されているデータを編集するための操作を受け付け、前記受け付けられる操作の間の時間を計測し、前記計測された時間が所定時間を超えた場合、データを編集するための操作の受付を禁止する。なお、基板処理装置１０は、ＵＩ装置２０のキーボード及びマウスなどを介してユーザにより行われる操作を受け付けてもよいし、ユーザが外部のコンピュータ（不図示）を用いて入力した操作を通信装置１８を介して受け付けてもよい。

図４は、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０に適用されるプロセス装置１００の斜透視図である。
図５は、図４に示されるプロセス装置１００の側面透視図である。
図４及び図５に示すように、プロセス装置１００は、筐体１１１を備えている。この筐体１１１の正面壁１１１ａの正面前方部には、メンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口１０３が開設され、この正面メンテナンス口１０３を開閉する正面メンテナンス扉１０４、１０４がそれぞれ建て付けられている。また、プロセス装置１００は、シリコン等からなるウエハ（基板）を収納したウエハキャリアとしてフープ（基板収容器。以下ポッドという。）１１０を備える。

筐体１１１の正面壁１１１ａには、ポッド搬入搬出口（基板収容器搬入搬出口）１１２が筐体１１１の内外を連通するように開設されており、ポッド搬入搬出口１１２は、フロントシャッタ（基板収容器搬入搬出口開閉機構）１１３によって開閉されるようになっている。ポッド搬入搬出口１１２の正面前方側には、ロードポート（基板収容器受渡し台）１１４が設置されており、ロードポート１１４は、ポッド１１０を載置されて位置合わせするように構成されている。ポッド１１０は、ロードポート１１４上に工程内搬送装置（図示せず）によって搬入され、かつまた、ロードポート１１４上から搬出されるようになっている。

筐体１１１内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５が設置されており、回転式ポッド棚１０５は、複数個のポッド１１０を保管するように構成されている。即ち、回転式ポッド棚１０５は、垂直に立設されて水平面内で間欠回転される支柱１１６と、支柱１１６に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板（基板収容器載置台）１１７とを備えており、複数枚の棚板１１７は、ポッド１１０を複数個宛それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。

筐体１１１内におけるロードポート１１４と回転式ポッド棚１０５との間には、ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８が設置されており、ポッド搬送装置１１８は、ポッド１１０を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ（基板収容器昇降機構）１１８ａと搬送機構としてのポッド搬送機構（基板収容器搬送機構）１１８ｂとで構成されている。ポッド搬送装置１１８は、ポッドエレベータ１１８ａとポッド搬送機構１１８ｂとの連続動作により、ロードポート１１４、回転式ポッド棚１０５、ポッドオープナ（基板収容器蓋体開閉機構）１２１との間で、ポッド１１０を搬送するように構成されている。

筐体１１１内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体１１９が後端にわたって構築されている。サブ筐体１１９の正面壁１１９ａには、ウエハをサブ筐体１１９内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０が一対、垂直方向に上下二段に並べられて開設されている。上下段のウエハ搬入搬出口１２０、１２０には、一対のポッドオープナ１２１、１２１がそれぞれ設置されている。ポッドオープナ１２１は、ポッド１１０を載置する載置台１２２、１２２と、ポッド１１０のキャップ（蓋体）を着脱するキャップ着脱機構（蓋体着脱機構）１２３、１２３とを備えている。ポッドオープナ１２１は、載置台１２２に載置されたポッド１１０のキャップをキャップ着脱機構１２３によって着脱することにより、ポッド１１０のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。

サブ筐体１１９は、ポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５の設置空間から流体的に隔絶された移載室１２４を構成している。移載室１２４の前側領域には、ウエハ移載機構（基板移載機構）１２５が設置されており、ウエハ移載機構１２５は、ウエハを水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置（基板移載装置）１２５ａと、ウエハ移載装置１２５ａを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ（基板移載装置昇降機構）１２５ｂとで構成されている。図４に模式的に示されているように、ウエハ移載装置エレベータ１２５ｂは、耐圧筐体１１１右側端部とサブ筐体１１９の移動室１２４前方領域右端部との間に設置されている。これらは、ウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ及びウエハ移載装置１２５ａの連続動作により、ウエハ移載装置１２５ａのツイーザ（基板保持体）１２５ｃをウエハの載置部として、ボート（基板保持具）２１７に対してウエハを装填（チャージング）及び脱装（ディスチャージング）するように構成されている。

移載室１２４の後側領域には、ボート２１７を収容して待機させる待機部１２６が構成されている。待機部１２６の上方には、処理炉２０２が設けられている。処理炉２０２の下端部は、炉口シャッタ（炉口開閉機構）１４７により開閉されるように構成されている。

図４に模式的に示されているように、耐圧筐体１１１右側端部とサブ筐体１１９の待機部１２６右端部との間には、ボート２１７を昇降させるためのボートエレベータ（基板保持具昇降機構）１１５が設置されている。ボートエレベータ１１５の昇降台に連結された連結具としてのアーム１２８には、蓋体としてのシールキャップ２１９が水平に据え付けられており、シールキャップ２１９はボート２１７を垂直に支持し、処理炉２０２の下端部を閉塞可能なように構成されている。ボート２１７は、複数本の保持部材を備えており、複数枚（例えば、５０枚〜１２５枚程度）のウエハをその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。

図４に模式的に示されているように、移載室１２４のウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ側及びボートエレベータ１１５側と反対側である左側端部には、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガス（Ｎ２ガス）であるクリーンエア１３３を供給するよう供給フアン及び防塵フィルタで構成されたクリーンユニット１３４が設置されている。ウエハ移載装置１２５ａとクリーンユニット１３４との間には、図示はしないが、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置１３５が設置されている。

クリーンユニット１３４から吹き出されたクリーンエア１３３は、ノッチ合わせ装置１３５及びウエハ移載装置１２５ａ、待機部１２６にあるボート２１７に流通された後に、図示しないダクトにより吸い込まれて、筐体１１１の外部に排気がなされるか、もしくはクリーンユニット１３４の吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環され、再びクリーンユニット１３４によって、移載室１２４内に吹き出されるように構成されている。

図６は、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０の制御装置１２により実行される制御プログラム４０の機能構成を示す図である。
図６に示すように、制御プログラム４０は、ユーザインタフェース（ＵＩ）部４００、認証部４０２、ユーザＤＢ４０４、設定部４０６、レシピ記憶部４０８、パラメータ記憶部４１０、装置制御部４１２、操作制御部４１４及び計時部４１６を有する。制御プログラム４０は、例えば、ＦＤ、ＣＤ又はＤＶＤなどの記録媒体２４（図３）に格納されて基板処理装置１０に供給され、メモリ１６にロードされて、制御装置１２上で動作する図示しないＯＳ上で、ハードウェアを具体的に利用して実行される。なお、制御プログラム４０は、図示しないネットワークに接続された外部のコンピュータから通信装置１８を介して制御装置１２に供給されてもよい。

制御プログラム４０において、ＵＩ部４００は、ＵＩ装置２０に対するユーザの操作を受け入れ、制御プログラム４０の各構成部分に対して出力する。さらに、ＵＩ部４００は、制御プログラム４０の各構成部分により作成された情報・データ及び各構成部分の処理内容などをＵＩ装置２０の表示装置に表示する。

ユーザＤＢ４０４は、ユーザの識別子（ＩＤ）、該ユーザのパスワード、及びレシピ編集処理、パラメータ編集処理等のそれぞれの処理に対する該ユーザの権限を記憶する。ＩＤは、ユーザを一意に識別するための識別子である。パスワードは、ユーザを認証するための例えば英数字からなる所定の長さの文字列である。権限は、例えば、設定値を参照及び編集するための「編集」権限、設定値を参照するための「参照」権限、及び参照・編集のいずれも行うことができない「禁止」権限のいずれかである。ユーザは、それぞれの処理に対していずれかの権限を設定されている。ユーザＤＢ４０４は、メモリ１６及び記憶装置２２の少なくともいずれかにより実現される。

認証部４０２は、認証画面において入力されたＩＤ及びパスワードを受け付け、ユーザＤＢ４０４を参照し、ユーザを認証する。具体的には、認証部４０２は、ＩＤ及びパスワードを受け付けると、パスワードがＩＤに対して正しいものであるか否かを判定する。さらに、認証部４０２は、メニュー画面において選択された処理に対するユーザの権限を参照し、ユーザが該処理に対する権限を有するか否かを判定する。パスワードがＩＤに対して正しいものであり、かつ、ユーザが選択された処理を行うことができると判定された場合、認証部４０２は、選択された処理が実行されることを許可する。

レシピ記憶部４０８は、複数のプロセスの処理内容が記載された運転レシピを記憶する。パラメータ記憶部４１０は、プロセス装置１００を制御するためのパラメータを記憶する。具体的には、パラメータ記憶部４１０は、プロセス装置１００の状態や使用可能な機能等を変更するための装置パラメータを記憶する。このようにして、レシピ記憶部４０８及びパラメータ記憶部４１０は、プロセス装置１００の機能に関するデータを記憶するデータ記憶手段を構成する。なお、レシピ記憶部４０８及びパラメータ記憶部４１０は、ユーザＤＢ４０４と同様に、記憶装置２２等により実現される。

設定部４０６は、レシピ記憶部４０８又はパラメータ記憶部４１０により記憶されているデータを編集するための操作を受け付ける編集操作受付手段を構成する。具体的には、設定部４０６は、ユーザによりレシピ編集画面（図２）又はパラメータ編集画面を介して入力される操作を受け付け、レシピ記憶部４０８に記憶されている運転レシピ、パラメータ記憶部４１０に記憶されている装置パラメータの登録、削除及び更新を行う。

装置制御部４１２は、レシピ記憶部４０８に記憶されている運転レシピ及びパラメータ記憶部４１０に記憶されている装置パラメータに基づいて、プロセス装置１００に対して、基板の処理に関する指示を出力し、プロセス装置１００を制御する。

計時部４１６は、設定部４０６により受け付けられる操作の間の時間を計測する。具体的には、計時部４１６は、設定部４０６がユーザによる操作を受け付けた場合、計時された値を操作制御部４１４により初期化される。さらに、計時部４１６は、所定の間隔で時間を計測し、計測値を操作制御部４１４に対して出力する。

操作制御部４１４は、計時部４１６により計測された時間が所定時間を超えた場合、データを編集するための操作の受付を禁止する禁止手段を構成する。より具体的には、操作制御部４１４は、レシピ編集画面、パラメータ編集画面等、基板処理装置の機能に関するデータを編集する画面において、データを編集するための操作を受け付けると、計時部４１６により計測された時間を初期化する。操作制御部４１４は、計時部４１６により計測される時間を受け付け、該時間が所定時間を超えたか否かを判定する。該時間が所定時間を超えた場合、操作制御部４１４は、操作の受付を禁止する。

例えば、操作制御部４１４は、認証部４０２を制御して、操作中のユーザを強制的にログアウトさせ、メニュー画面等の初期画面又は認証画面をＵＩ装置２０に表示する。また、例えば、操作制御部４１４は、操作を受け付けずに所定時間経過した後に操作を受け付けた場合、認証部４０２を制御して、認証画面を表示させてＩＤ及びパスワードを入力させる。

次に、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０の制御処理を説明する。
図７は、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０による編集画面においての制御処理（Ｓ１０）を示すフローチャートである。
図７に示すように、ステップ１００（Ｓ１００）において、制御プログラム４０の操作制御部４１４は、ＵＩ装置２０にメニュー画面（図１（Ａ））を表示する。操作制御部４１４は、権限変更ボタンが押下されたか否か、ユーザによりいずれかのメニューが選択されたか否かを判定し、権限変更ボタンが選択された場合にはＳ１０２の処理に進み、そうでない場合にはＳ１００の処理に戻る。

ステップ１０２（Ｓ１０２）において、認証部４０２は、操作制御部４１４に制御されて、認証画面（図１（Ｂ））をＵＩ装置２０に表示し、この認証画面を介して入力されたＩＤ及びパスワードを受け付け、認証処理を行う。具体的には、認証部４０２は、ユーザＤＢ４０４を参照し、パスワードがＩＤに対して正しいものであるか、及び該ユーザが選択された処理を行う権限を有しているかを確認する。その後、ユーザの権限に応じたメニュー画面（図１（Ａ））が表示される。このメニュー画面は、使用可能な機能は色分け表示される。

ステップ１０４（Ｓ１０４）において、操作制御部４１４は、計時部４１６により計測された時間を初期化する。例えば、計測された時間は、ゼロにされる。
ステップ１０６（Ｓ１０６）において、ユーザがメニュー画面上で使用可能な機能を選択すると（押下すると）、設定部４０６は、操作制御部４１４に制御されて、編集画面（図２（Ａ）、図２（Ｂ）等）をＵＩ装置２０に表示する。ユーザは、表示された画面を介して所定の処理を行う。図２（Ａ）では、所望の制御パラメータの設定、図２（Ｂ）では、所望の装置パラメータの設定を行う。

ステップ１０８（Ｓ１０８）において、計時部４１６は、上記設定に伴う操作を操作制御部４１４から通知されると、計時処理を行って、該操作を受付けてから計測した時間を操作制御部４１４に対して出力する。ここで、計時部４１６は、計測した時間に所定の時間（例えば、１秒）を加算して、加算後の値を出力する。

ステップ１１０（Ｓ１１０）において、設定部４０６は、ユーザによる操作を受け付けたか否かを判定する。制御プログラム４０は、操作が受け付けられた場合にはＳ１１２の処理に進み、そうでない場合にはＳ１１４の処理に進む。

ステップ１１２（Ｓ１１２）において、設定部４０６は、受け付けられた操作が終了操作（例えば、「保存終了」ボタンが押下された操作）であるか否かを判定する。受け付けられた操作が終了操作である場合、制御プログラム４０は処理を終了する。そうでない場合、設定部４０６は、受け付けられた操作に基づいて、レシピ記憶部４０８、パラメータ記憶部４１０等に記憶されているデータの参照、更新等を行い、制御プログラム４０はＳ１０４の処理に戻る。

ステップ１１４（Ｓ１１４）において、操作制御部４１４は、計測された時間（即ち、計時部４１６から出力された時間）が予め決められた所定時間を超えたか否かを判定する。操作制御部４１４は、計測された時間が所定時間を超えた場合にはＳ１１６の処理に進み、そうでない場合にはＳ１０８の処理に戻る。

ステップ１１６（Ｓ１１６）において、操作制御部４１４は、認証部４０２を制御して、強制的にログアウト処理を行う。ログアウト処理が実行された後、操作制御部４１４は、ＵＩ装置２０に初期画面（例えば、メニュー画面）を表示する。

ログアウトまでに編集されたレシピは、該編集されたデータの使用方法やユーザの都合等によるので、編集途中でログアウトされる場合、汎用性を持たせるために削除されても保存されてもよいように選択できるようにしておくのが望ましい。

本実施例のように、初期画面が表示される場合、操作制御部４１４は、編集されたレシピは編集前のレシピに戻し、編集されたデータは認定部４０６により破棄させる。そうすることで編集途中までのレシピを他のユーザに誤って実行されることを防止できる。

また、操作制御部４１４は、図示しないがバッファファイル（一時ファイル）を格納するための記憶部に前記編集されたデータを一次保存することも可能である。この場合、編集途中のレシピの元のレシピを他のユーザが編集及び実行することができる。

初期画面が表示された後、再度編集作業の続きを行う場合、ユーザは、前記初期画面上で権限変更ボタンを押下してログインを行う。そして、メニュー画面からレシピ編集を選択し、編集作業を行う。前記編集されたデータを一次保存しておくと、ログインする際に、操作制御部４１４に認定部４０６へ元のレシピを更新させるよう制御させることができるので、再度編集作業を実施するときに始めから設定しなおす必要がなくなり便利である。

さらに、認証画面を表示させるようにしてもよい。表示された後、再度編集作業の続きを行うため、ログインを行う。編集途中までのデータを保存しても、編集していたユーザが再度ログインしたときにだけ認証部４０２を制御する。そうすると、編集途中のレシピを他のユーザに編集されることが防止される。また、編集途中のレシピを編集前のレシピに戻し、編集されたデータを図示しない一時ファイルに一次保存しておく。そして、ログインの際に操作制御部４１４に認定部４０６へ元のレシピを使用するかもしくは元のレシピを更新させるか選択させるようにして、他のユーザのログインを受け入れるようにしてもよい。

このようにして、レシピ記憶部４０８に記憶されている運転レシピ、及びパラメータ記憶部４１０に記憶されている装置パラメータは、権限のないユーザにより編集されることが防がれる。また、編集途中のレシピが誤って実行されることがない。したがって、操作権限のないユーザが運転レシピや装置パラメータ等の編集を行うことにより、製品品質の低下及び装置の損傷を防止することができる。

なお、本実施例においては、ユーザからの入力操作間の時間でログアウト処理を行っている。しかしながら、本実施例の形態によらず、例えば、操作画面からの距離（ＩＤタグ等）又は非接触でデータ通信が可能なＩＣタグのようなものを用いる場合は、そのＩＣタグが読み取れるかどうかなど種々の変更が可能である。

次に、運転レシピ、装置パラメータ等に基づいて制御されるプロセス装置１００の動作を、図４及ぶ図５を参照して詳細に説明する。なお、このような動作は、制御プログラム４０の装置制御部４１２により制御される。

図４及び図５に示されているように、ポッド１１０がロードポート１１４に供給されると、ポッド搬入搬出口１１２がフロントシャッタ１１３によって開放され、ロードポート１１４の上のポッド１１０は、ポッド搬送装置１１８によって筐体１１１の内部へポッド搬入搬出口１１２から搬入される。

搬入されたポッド１１０は、回転式ポッド棚１０５の指定された棚板１１７へポッド搬送装置１１８によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板１１７から一方のポッドオープナ１２１に搬送されて載置台１２２に移載されるか、もしくは直接ポッドオープナ１２１に搬送されて載置台１２２に移載される。この際、ポッドオープナ１２１のウエハ搬入搬出口１２０は、キャップ着脱機構１２３によって閉じられており、移載室１２４には、クリーンエア１３３が流通され充満されている。例えば、移載室１２４には、クリーンエア１３３として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が２０ｐｐｍ以下と、筐体１１１の内部（大気雰囲気）の酸素濃度よりも遥かに低く設定されている。

載置台１２２に載置されたポッド１１０は、その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップが、キャップ着脱機構１２３によって取り外され、ウエハ出し入れ口を開放される。ポッド１１０がポッドオープナ１２１によって開放されると、ウエハは、ポッド１１０からウエハ移載装置１２５ａのツイーザ１２５ｃによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、ノッチ合わせ装置１３５にてウエハを整合した後、移載室１２４の後方にある待機部１２６へ搬入され、ボート２１７に装填（チャージング）される。ボート２１７にウエハを受け渡したウエハ移載装置１２５ａはポッド１１０に戻り、次のウエハ１１０をボート２１７に装填する。

この一方（上段又は下段）のポッドオープナ１２１におけるウエハ移載機構１２５によるウエハのボート２１７への装填作業中に、他方（下段又は上段）のポッドオープナ１２１には、回転式ポッド棚１０５から別のポッド１１０がポッド搬送装置１１８によって搬送されて移載され、ポッドオープナ１２１によるポッド１１０の開放作業が同時進行される。

予め指定された枚数のウエハがボート２１７に装填されると、炉口シャッタ１４７によって閉じられていた処理炉２０２の下端部が、炉口シャッタ１４７によって、開放される。続いて、ウエハ群を保持したボート２１７はシールキャップ２１９がボートエレベータ１１５によって上昇されることにより、処理炉２０２内へ搬入（ローディング）されて行く。

ローディング後は、処理炉２０２にてウエハに任意の処理が実施される。処理後は、ノッチ合わせ装置１３５でのウエハの整合工程を除き、概上述の逆の手順で、ウエハ及びポッド１１０は筐体１１１の外部へ払出される。

なお、本発明に係る基板処理装置は、縦型装置だけでなく、枚葉装置、横型装置、ＬＣＤ装置などにも適用されうる。また、これら複数の基板処理装置を集中管理する群管理装置にも適用されうる。特に、作業者が群管理装置を扱う場合、該作業者はシステムを管理する権限を有するので、本発明による効果が顕著である。さらに、本発明に係る基板処理装置は、炉内の処理を限定せず、ＣＶＤ、ＰＶＤ、酸化膜、窒化散を形成する処理、及び金属を含む膜を形成する処理を含む成膜処理を行うことができる。

本発明に係る基板処理装置に対して所定の処理を行う際に表示されるメニュー画面及び認証画面を示す図であって、図１（Ａ）はメニュー画面を示し、図１（Ｂ）は認証画面を示す。 本発明に係る基板処理装置に記憶されている運転レシピや制御パラメータを編集するための画面を例示する図であって、図２（Ａ）はレシピ編集画面を例示し、図２（Ｂ）はパラメータ編集画面を例示する。 本発明の実施形態に係る基板処理装置１０の構成を、制御装置１２を中心に示す図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置１０に適用されるプロセス装置１００の斜透視図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置１０に適用されるプロセス装置１００の側面透視図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置１０の制御装置１２により実行される制御プログラム４０の機能構成を示す図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置１０による編集画面においての制御処理（Ｓ１０）を示すフローチャートである。

符号の説明

１０ 基板処理装置
１２ 制御装置
１４ ＣＰＵ
１６ メモリ
１８ 通信装置
２０ ＵＩ装置
２２ 記憶装置
４０ 制御プログラム
１００ プロセス装置
４００ ＵＩ部
４０２ 認証部
４０４ ユーザＤＢ
４０６ 設定部
４０８ レシピ記憶部
４１０ パラメータ記憶部
４１２ 装置制御部
４１４ 操作制御部
４１６ 計時部

Claims (5)

1. 作成又は編集されたレシピを実行して基板を処理する基板処理装置であって、
   レシピを作成又は編集するための編集画面を表示する表示手段と、
   前記表示手段により表示された編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、ログアウト処理及び前記編集画面から当該編集画面とは異なる所定の画面への画面切り替え処理を行うとともに前記レシピに関するデータのうち前記ログアウト処理までに編集されたデータの削除処理を行うように制御する制御手段と
   を有する基板処理装置。
2. 前記制御手段は、前記編集画面から初期画面に切り替える
   請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記制御手段は、前記編集画面から認証画面に切り替える
   請求項１に記載の基板処理装置。
4. 前記初期画面には、操作権限の変更及びログイン処理を行うための指定手段が含まれ、
   前記制御手段は、前記指定手段を介して操作権限の変更及びログイン処理が行われた場合、レシピの編集操作を受け入れる
   請求項２に記載の基板処理装置。
5. 前記制御手段は、前記認証画面を介して入力された使用者の識別子及びパスワードと、予め記憶されている使用者の識別子及びパスワードとが一致した場合、レシピの編集操作を受け入れる
   請求項３に記載の基板処理装置。

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