JPH08103739A - 洗浄処理装置および処理装置の画面処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 専門オペレータ用メニューの保全および装置
情報画面の最適化を図ることができる画面処理方法を提
供する。 【解決手段】 本発明によれば、たとえば専門オペレー
タが処理レシピ作成中に席を離れた場合であっても、専
門オペレータによるキー入力が所定時間ない場合には、
一般オペレータにより操作可能な制御用画面および装置
に関する各種情報を表示する装置情報画面の中から予め
選択された定常画面に自動的に戻るので、専門オペレー
タ以外の一般オペレータが、許可された画面以外にアク
セスする可能性を最小限に抑えることが可能となる。ま
た、装置情報画面に表示される情報を、処理装置により
固定的に表示される固定情報と、処理装置が有する項目
別情報の中からユーザにより予め選択された項目から成
るユーザ情報とから構成することにより、処理環境また
はオペレータに応じた柔軟な装置情報画面を構築するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハなど
の被処理体を処理するための処理装置および洗浄処理装
置の画面処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえばＬＳＩ等の半導体デバイスの製
造工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来
から半導体ウエハ表面のパーティクル、有機汚染物、金
属不純物等のコンタミネーションを除去するために、半
導体ウエハの洗浄処理装置が使用されており、その中で
もとりわけ、ウェット型の洗浄処理装置は、パーティク
ルを効果的に除去できしかもバッチ処理が可能なため、
広く普及している。

【０００３】この種の洗浄処理装置においては、所定枚
数、たとえば２５枚の半導体ウエハを収納した、キャリ
アと称される収納体が、搬送ロボットにより、処理装置
のローダ部に搬入され、オリフラ合わせを行った後、ウ
ェハ保持部において、収納された半導体ウェハが保持具
により前記キャリアから取り出され、搬送待機状態に置
かれる。そして、搬送待機状態にある半導体ウエハは、
ウエハチャックと称される把持装置を有する搬送装置に
よって、各種の洗浄処理が行われる洗浄処理部へと搬送
され、この洗浄処理部内にて所定の洗浄処理に付され
る。

【０００４】洗浄処理部は、ＳＣ１洗浄、ＳＣ２洗浄、
ＨＦ洗浄、ＳＰＭ洗浄などの各種薬液洗浄を行うための
１または２以上の洗浄ユニットが順次配列されて成り、
それぞれの洗浄ユニットは、薬液洗浄を行う薬液槽と純
水洗浄を行う水洗槽とから構成されている。前記搬送装
置により、ある洗浄ユニットに移送された被処理体は、
まず薬液槽において薬液洗浄された後、その薬液槽の下
流に配された水洗槽に移送される。そして、その水洗槽
において、半導体ウェハの表面に付着した薬液を純水に
より洗い流してから、別種の薬液による洗浄ユニットに
搬送される。このようにして、一連の洗浄処理が終了し
た半導体ウェハは、さらに純水により最終洗浄され、乾
燥処理され、アンローダ部を介して処理装置外に搬出さ
れる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な洗浄処理装置における洗浄処理は、通常は、パーソナ
ルコンピュータやワークステーションなどから構成され
る制御器のディスプレイ装置に表示される制御画面に従
って、オペレータが操作を進めることにより実行され
る。そして、通常は、電源入力後、所定の起動動作をマ
ニュアルで行った後、オートモードに移行し、上記制御
器に予め設定された処理レシピに従って、所望の洗浄処
理が行われる。またエンジニアが処理レシピなどを設定
／修正したりしている時に、何らかの理由で、エンジニ
アが処理の途中で席を離れたような場合には、第三者が
処理中の端末を自由に操作する可能性が生じ、システム
の保安上問題となっていた。

【０００６】また従来より、洗浄処理装置などの処理装
置の制御用画面には、装置に関する各種情報を表示する
装置情報画面が含まれており、オペレータは適宜その装
置情報画面を参照することにより、洗浄処理装置のステ
ータスを確認することが可能である。しかし、装置に関
する情報には、様々なものがあり、オペレータが装置情
報を参照する度に全ての情報が表示されるのでは、ステ
ータスの確認作業が非常に煩雑となるため、より柔軟な
情報表示方法が求められていた。

【０００７】本発明は、従来の洗浄処理装置などの処理
装置が有する上記のような問題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、画面操作中にオペレ
ータが不在となった場合でも、システムの保全を図るこ
とが可能な、新規かつ改良された画像処理方法を提供す
ることである。さらにまた本発明の別の目的は、装置に
関する各種情報を最適に表示することが可能な、新規か
つ改良された画像処理方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第１の観点によれば、被処理体が装置内に
搬入されるローダ部と、被処理体が装置外に搬出される
アンローダ部とを備え、被処理体を薬液洗浄する１また
は２以上の薬液槽と、被処理体を純水洗浄する１または
２以上の水洗槽とを少なくとも含む複数の処理槽と、被
処理体を乾燥処理する乾燥器が、前記ローダ部と前記ア
ンローダ部との間に順次配列されて成る洗浄処理装置を
制御するためのオペレータ用画面処理方法であって、一
般オペレータにより操作可能な制御用画面および装置に
関する各種情報を表示する装置情報画面の中から定常画
面を予め選択する定常画面設定工程と、マニュアルモー
ド時にキー入力の無い状態が所定時間経過した場合に、
予め選択された定常画面に戻る工程と、から成ることを
特徴とする、洗浄処理装置の画面処理方法が提供され
る。

【０００９】その場合に、前記オペレータにより操作可
能な制御用画面は、少なくとも、洗浄処理フローの開始
を指示する洗浄処理フロー開始指示画面、各装置の初期
化を指示する装置初期化画面、各処理槽を被処理体受け
入れ可能状態にするように指示する処理スタンバイ画
面、処理の終了を指示する処理終了画面を含むように構
成することが好ましい。また、前記装置に関する各種情
報を表示する装置情報画面は、処理装置により固定的に
表示される固定情報と、処理装置が有する項目別情報の
中からユーザにより予め選択された項目から成るユーザ
情報とから構成することが好ましい。

【００１０】そして、上記のように構成された定常画面
は、一画面内に表示されることが好ましいが、２以上の
画面にわたる場合には、各定常画面が、所定の時間周期
で順次切り替わるように表示されることが好ましい。

【００１１】さらに本発明の別の観点によれば、被処理
体が装置内に搬入されるローダ部と、被処理体が装置外
に搬出されるアンローダ部とを備え、被処理体を薬液洗
浄する１または２以上の薬液槽と、被処理体を純水洗浄
する１または２以上の水洗槽とを少なくとも含む複数の
処理槽と、被処理体を乾燥処理する乾燥器が、前記ロー
ダ部と前記アンローダ部との間に順次配列されて成る洗
浄処理装置を制御するためのオペレータ用画面処理方法
であって、そのオペレータ用画面として、少なくとも装
置に関する各種情報を表示する装置情報画面を表示し、
さらに、その装置情報画面として、洗浄処理装置により
固定的に表示される固定情報と、洗浄処理装置が有する
項目別情報の中からユーザにより予め選択された項目か
ら成るユーザ情報とを表示することを特徴とする、洗浄
処理装置の画面処理方法が提供される。

【００１２】そして、上記のように構成された装置情報
画面は、一画面内に表示されることが好ましいが、２以
上の画面にわたる場合には、各定常画面が、所定の時間
周期で順次切り替わるように表示されることが好まし
い。

【００１３】また本発明は、上記洗浄処理装置に限定さ
れず、半導体ウェハやＬＣＤ基板などの被処理体に対し
て、予め設定された処理フローに従って、エッチングや
成膜などの所定の処理を施すことが可能な多くの処理装
置に対しても適用することが可能であり、本発明のさら
に別の観点によれば、かかる処理装置一般に対する上記
構成の応用が開示される。

【００１４】以上のように、洗浄処理装置などの処理装
置においては、たとえば、処理レシピの設定／修正は、
専門の知識を有する専門オペレータのみがアクセスする
ことが好ましく、専門オペレータにより作成された処理
レシピに従って装置を駆動するだけの役割を負う一般オ
ペレータが、処理レシピの設定／修正画面などにアクセ
スできる状況は出来る限り減じることが好ましい。この
点、本発明によれば、たとえば専門オペレータが処理レ
シピ作成中に席を離れた場合であっても、専門オペレー
タによるキー入力が所定時間ない場合には、一般オペレ
ータにより操作可能な制御用画面および装置に関する各
種情報を表示する装置情報画面の中から予め選択された
定常画面に自動的に戻るので、専門オペレータ以外の一
般オペレータが、アクセスが許可された画面以外にアク
セスする可能性を最小限に抑えることが可能となる。

【００１５】また、定常画面を、たとえば洗浄処理フロ
ーの開始を指示する洗浄処理フロー開始指示画面、各装
置の初期化を指示する装置初期化画面、各処理槽を被処
理体受け入れ可能状態にするように指示する処理スタン
バイ画面、処理の終了を指示する処理終了画面などの、
使用頻度の高い画面、あるいは第三者のアクセスによる
危険度の低い画面に設定することにより、操作性の向
上、あるいはシステムの保全性の向上を図ることが可能
である。

【００１６】また、オペレータ用画面として、前記装置
に関する各種情報を表示する装置情報画面を採用するこ
とにより、オペレータは適宜装置のステータスを確認す
ることが可能となるが、その場合に、その装置情報を、
処理装置により固定的に表示される固定情報と、処理装
置が有する項目別情報の中からユーザにより予め選択さ
れた項目から成るユーザ情報とから構成することによ
り、処理環境またはオペレータに応じた柔軟な装置情報
画面を構築することができる。そして、このような装置
情報画面を、上記定常画面として採用することにより、
システムの保全性を図るとともに、装置のステータスを
適宜把握することが可能なので、操作性の向上が図れ
る。

【００１７】そして、一般オペレータ用画面、特に上記
装置情報画面は、一画面に表示することにより、視覚的
認識が容易となり、操作性の向上を図ることが可能であ
る。しかし、これらの定常画面が、二以上の画面にわた
る場合であっても、各画面を所定周期で順次切り替わる
ように構成することにより、視覚的認識が容易となり、
操作性の向上を図ることができる。

【００１８】さらにまた、本発明は洗浄処理装置に限定
されず、半導体ウェハやＬＣＤ基板などの被処理体に対
して、予め設定された処理フローに従って所定の処理を
施すための各種処理装置、たとえばエッチング装置や成
膜装置などの、専門オペレータ用画面を保護し、操作性
を向上させるためにも有効である。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下に本発明を洗浄処理装置に適
用した一実施例について添付図面を参照しながら詳細に
説明することにする。

【００２０】まず図１〜図６を参照しながら本発明を適
用可能な洗浄処理装置１の全体的な構成について説明す
る。図１に示すように、洗浄処理装置１全体は、洗浄処
理前の被処理体、たとえば半導体ウェハをキャリア単位
で収容するローダ部１００と、ウェハの洗浄処理が行わ
れる洗浄処理部２００と、洗浄処理後のウェハをキャリ
ア単位で装置外に搬出するためのアンローダ部３００と
の、３つのゾーンから構成されている。

【００２１】上記ローダ部１００は、未洗浄のウェハが
所定枚数、たとえば２５枚収容されたキャリアＣを搬
入、載置させる載置部１１０と、載置されたキャリアＣ
を、図２に拡大して示す保持部１３３、１３５に移送す
るための移送装置１２０と、キャリアＣからウェハを取
り出してウェハ搬送装置１４０に受け渡しを行う中継部
１３０とから主に構成されている。この載置部１１０
は、図２に示すように、中空の載置台１１１を備え、そ
の上面には、上記キャリアＣの下部が挿通可能な開口を
有する複数のステーション１１２ａ、１１２ｂ、…、１
１２ｎが２列に整列されて設けられている。なお、各ス
テーション１１２の各角隅部近傍には、前記キャリアＣ
の上縁角部を係止可能な係止部１１３がそれぞれ設けら
れている。

【００２２】また上記ローダ部１００は、移動機構１１
５を備えており、この移動機構１１５は図示しない駆動
機構により、上下水平方向に自在に駆動可能であり、ク
ランプ部材１１６により把持された上記キャリアＣを所
望のステーション１１２ａ、１１２ｂ、…、１１２ｎに
まで移動させることが可能である。またこの移動機構１
１５は、上記キャリアＣに収納されたウェハＷのオリフ
ラを整列するための整列装置１１７をも備えており、キ
ャリアＣの移動時に収納されたウェハＷのオリフラ合わ
せを行うことができる。

【００２３】さらに、図２に示すが如く、上記ローダ部
１００の後方には上記移送装置１２０が設けられてい
る。この移送装置１２０は、接近離隔自在に構成された
一対のアーム１２１ａ、１２１ｂと、これらのアーム１
２１ａ、１２１ｂを水平に指示するリフタ１２２と、上
記リフタを上下方向（Ｚ方向）に移動させるためのＺベ
ース１２３と、上記Ｚベース１２３自体を上記洗浄処理
装置の長手方向（Ｘ方向）に移動させるためのＸベース
１２４とから構成されており、上記アーム１２１ａ、１
２１ｂ上に上記キャリアＣの上部両側縁部を載置させた
まま、このキャリアＣを上記アーム１２１ａ、１２１ｂ
で挟持して、これを図１に示す前記中継部１４０まで移
送させることが可能なように構成されている。

【００２４】上記中継部１３０は、図２に示すように、
支柱１３１を介して天板１３２上に固定された保持部１
３３、および天板１３２に対してそのＹ方向に移動自在
な移動柱１３４によって支持された保持部１３５を、そ
れぞれＹ方向に連ねて有している。これら各保持部１３
３、１３５は、上記キャリアＣの下面開口部を通過自在
な形態を有し、さらに各保持部１３３、１３５の上面に
は、それぞれウエハＷの周縁の一部が挿入されて略垂直
に立設されるように円弧形状の保持溝１３６がそれぞれ
所定数、たとえば上記キャリアＣのウェハ収納枚数に対
応する２５本ずつ形成されている。そして上記支持柱１
３１、および移動柱１３４の各基部の近傍における上記
天板１３２上には、上記キャリアＣの下端部各角部が係
止される係止部材１３７が各々４カ所に設けられてい
る。

【００２５】そして、これら保持部１３３、１３５に保
持されるウエハＷを一括して把持し、これを上記洗浄処
理部２００へと搬送するためのウエハ搬送装置１４０
は、図３に示したように構成されている。すなわち、こ
のウエハ搬送装置１４０は、たとえば５０枚のウエハを
一括して把持する左右一対の把持部材１４１ａ、１４１
ｂによって構成されたウエハチャック１４２と、このウ
エハチャック１４２を支持する支持体１４３と、この支
持体１４３を上下方向（Ｚ方向）に昇降させると共に、
前後方向（Ｙ方向）にも移動させる駆動機構１４４と、
この駆動機構１４４を洗浄処理部２００の長手方向（Ｘ
方向）に沿って移動させるための搬送ベース１４５（図
２参照）とによって構成されている。

【００２６】上記ウエハチャック１４２おける各把持部
材１４１ａ、１４１ｂは左右対称形であり、それぞれ、
その回動軸１４６ａ、１４６ｂが上記支持体１４３に回
動自在に支持され、開脚、閉脚自在に構成されている。
さらに、上記回動軸１４６ａ、１４６ｂにはアルミ製の
把持部材１４１ａ、１４１ｂの各上端部が固着され、ま
たこれら各把持部材１４１ａ、１４１ｂの下端部間に
は、上下２段に石英製の把持棒１４７ａ、１４７ｂ、１
４８ａ、１４８ｂが平行に渡されている。上記各把持棒
１４７ａ、１４７ｂ、１４８ａ、１４８ｂの表面には、
ウエハＷの周縁部が挿入される把持溝１４９がたとえば
５０本形成されている。そして、各把持部材１４１ａ、
１４１ｂは、回転軸１４６ａ、１４６ｂを回転させるこ
とにより、その把持棒１４７ａ、１４７ｂ、１４８ａ、
１４８ｂにてウェハＷを把持し、上下方向（Ｚ方向）お
よび長手方向（Ｘ方向）の所望の位置に移載することが
可能なように構成されている。

【００２７】そして、これらの搬送装置１４０は、後述
する各洗浄ユニット２０１ａ、２０１ｂ、…、２０１ｎ
に対応して設置されており、搬送ベース１４５を移動さ
せることにより、所定枚数のウェハから成るロットを、
たとえばウェハ搬送装置１４０ａによりローダ部１００
と上記洗浄処理部２００の一次洗浄ユニット２０１ａ
間、および一次洗浄ユニット２０１ａと二次洗浄ユニッ
ト２０１ｂ間、あるいはウェハ搬送装置１０４ｂにより
一次洗浄ユニットと二次洗浄ユニット間、あるいはウェ
ハ搬送装置１４０ｎにより、（ｎ−１）次洗浄ユニット
２０１ｎとｎ次洗浄槽１４０ｎ間、およびｎ次洗浄ユニ
ット２０１ｎとアンローダ部３００間においてウェハを
ロット単位で移載することが可能である。そして、後述
する二次水洗槽（インタフェース槽）２０４を介して、
隣接する洗浄ユニット１４０間においてウェハの受け渡
しをするとともに、所定の薬液槽２０２または水洗槽２
０４、２０５に設けられている後述のウェハ保持具２１
２（図４参照）にウェハを移載することが可能なように
構成されている。

【００２８】次に洗浄処理部２００について説明する
と、洗浄処理部２００は、図１に示されるように、一次
洗浄ユニットからｎ次洗浄ユニットまで複数の洗浄ユニ
ット２０１ａ、２０１ｂ、…、２０１ｎが順次配列され
て構成されている。各洗浄ユニット２０１は、たとえば
薬液槽２０２、一次水洗槽２０３、二次水洗槽２０４か
ら構成され、薬液槽２０２において薬液洗浄後、一次水
洗槽２０３および二次水洗槽２０４において純水により
ウェハＷに付着した薬液を洗浄した後、前出のウェハ搬
送装置１４０によりさらに下流の洗浄ユニットに移載す
ることが可能なように構成されている。さらに、前記洗
浄処理部２００の最下流には、純水による最終洗浄を行
う最終水洗槽２０５および洗浄処理が終了したウェハ
を、たとえばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で蒸
気乾燥させるための乾燥処理槽２０６が順次配列され
て、一連の洗浄処理を行うことができるように構成され
ている。

【００２９】各薬液槽２０１では、ウェハ表面に付着し
た汚染の種類、たとえば有機物不純物、金属不純物など
に応じて、所定の薬液が導入され、薬液洗浄処理が施さ
れる。たとえば、有機物汚染に対しては、アンモニア水
と過酸化水素水の混合液により、いわゆるＳＣ１洗浄を
行うことが可能である。またＨＦ液により、いわゆるＨ
Ｆ洗浄により自然酸化膜および金属不純物を除去するこ
とが可能である。さらに塩酸と過酸化水素水の混合液に
よりいわゆるＳＣ２洗浄を行うことにより、ベアなシリ
コンに付着した金属不純物を除去しながら、クリーンな
自然酸化膜を成長させることが可能である。そして、過
酸化水素をベースにした典型的な洗浄法、いわゆるＲＣ
Ａ洗浄に関して言えば、ＳＣ１洗浄→ＨＦ洗浄→ＳＣ２
洗浄を順次対応する洗浄ユニットにより行うことによ
り、ウェハの洗浄を行うことが可能である。

【００３０】次に、図４および図５を参照しながら、本
発明に基づいて構成された洗浄処理装置に採用可能な典
型的な処理槽の構造について、ＳＣ１洗浄槽２１０を例
に挙げて説明する。なお、他の種類の薬液槽および水洗
槽の基本的構造は、ここで説明するＳＣ１洗浄槽のもの
と変わらないため詳細な説明は省略する。

【００３１】図示のように、処理槽２１０は、高温に加
熱されたアンモニア水と過酸化水素水の混合液から成る
ＳＣ１洗浄用薬液を収容する箱形の処理槽２１１と、こ
の処理槽２１１内に配設されてウェハＷをたとえば５０
枚垂直に保持するウェハ保持具２１２とを備えている。
さらに、処理槽２１１の底部２１３には洗浄用薬液の供
給口２１４が開口しており、この供給口２１４より槽内
に導入された洗浄液は、上記保持具２１２と上記底部２
１３との間に介装された整流手段２２０を介して、乱流
を生じることなく均等にウェハＷの周囲に供給される。

【００３２】すなわち、この整流手段２２０は、処理槽
２１１を上下に区画するように水平に配設される整流板
２２１と、供給口２１４の上方に配置される円板状の拡
散板２２２とから構成されている。この整流板２２１に
は多数の小孔２２３が穿設されており、供給口２１４よ
り導入された薬液は、まず拡散板２２２の裏面に衝突
し、その拡散板２２２の周縁部より整流板２２１の裏面
全体に拡散され、その後整流板２２１の小孔２２３を通
過して、上記ウェハ保持具２１２により保持されたウェ
ハＷの周囲に供給されるので、乱流を生じることなく均
等な流速でウェハＷを包み込み、ウェハＷ全体をむら無
く均等に洗浄することが可能なように構成されている。

【００３３】また、上記処理槽２１０は、ウェハ保持具
２１２が収納されてウェハＷを処理液中に浸漬すること
が可能な内槽２１５と、この内槽２１５の上端からオー
バーフローする処理液を受けとめる外槽２１６とから構
成されており、上記内槽２１５の底部２１３に設けられ
た供給口２１４と外槽２１６の底部に設けられた排出口
２１７との間には、薬液循環経路２１８が接続される。
そして、この薬液循環経路２１８に、循環ポンプＰとフ
ィルタＦと廃液用バルブＶが介装されて、上記外槽２１
６よりオーバーフローした薬液を清浄化して再び上記内
槽２１５に循環供給するとともに、必要に応じて廃液用
バルブＶを開放して廃液を行うことができるように構成
されている。さらに循環ポンプＰには薬液／純水供給管
路２１９が接続されており、必要に応じて新しい薬液ま
たは純水を上記処理槽２１０に供給することができる。

【００３４】そして、上記処理槽２１０の上記内槽２１
５の上方には、図５および図６に示すように、排気口２
３０が設けられており、上記処理槽２１０内において蒸
発気化した薬液を真空ポンプなどの排気手段２３１など
により適宜排気することが可能なように構成されてい
る。

【００３５】さらにまた、上記処理槽２１０の上方開口
部には開閉式の蓋２４０が挿着されており、この蓋２４
０を閉鎖することにより、処理中に処理液の気化拡散を
防止するとともに、外部から上記処理槽２１０内に汚染
物質やごみが混入することを防止することが可能であ
る。この蓋２４０は、図５および図６に示すように、処
理槽２１０の側壁に枢着される２本の回転軸２４１に対
して突設される開閉アーム２４２に固定される固定され
る一対の蓋体２４３とから構成されており、図示しない
駆動モータにより上記回転軸２４１を所定の時間遅れを
持って回転させることにより、一対の蓋体２４３を開閉
動作させることができる。

【００３６】以上のように洗浄処理部２００は構成され
ており、さらにこの洗浄処理部２００の下流には、洗浄
処理が終了したウェハＷをキャリアＣに戻して、装置外
に搬出するアンローダ部３００が設けられているが、こ
のアンローダ部３００の基本的構成はローダ部１００と
同様であり、ローダ部１００において行われた工程を逆
にフローさせることにより、処理済ウェハＷを装置外に
搬出することが可能である。したがって、ここでは詳細
な説明は省略する。

【００３７】本実施例が適用された洗浄処理装置１は、
上記のように構成されており、次にあるロットを洗浄処
理する一連の動作について説明する。まず、未処理のウ
ェハＷを２５枚ずつ収納したキャリアＣ１、Ｃ２を搬送
ロボットに（図示せず）によって、ローダ部１００の載
置部１１０のステーション１１２のロード用位置に載置
する。

【００３８】そして移動機構１１５によりキャリアＣ
１、Ｃ２を順次クランプし、オリフラ合わせしながら、
ステーション１１２の移載用位置にまで順次移動させ
る。そして、その移載用位置において前記移送装置１２
０のアーム１２１ａ、１２１ｂによりキャリアＣ１、Ｃ
２を同時に挟持した状態でＺベース１２３をＸ方向に中
継部１３０まで移動させ、中継部１３０の保持部１３
３、１３５をＺ方向上方に移動させ、キャリアＣ１、Ｃ
２内のウェハＷを保持部１３３、１３５上に移載する。
その後、移載されたウェハＷを整列装置１１６を備えた
オリフラ部で整列し、所定枚数、例えば５０枚のウェハ
Ｗ列を１ロットとして後続の洗浄処理を待機する。

【００３９】続いて、図１に示す一次ウェハ搬送装置１
４０ａが、上記中継部１３０に移動して、図３に示すウ
ェハチャック１４２により整列されたウェハＷをロット
単位で把持して、これらを一次洗浄ユニット２０１ａの
ＳＣ１洗浄槽２０２ａに搬送し、図４に示す処理槽２１
０内の処理液中に予め設けられた保持部２１２にロット
単位で載置する。その後、処理槽２１０内に所定の薬液
を導入し、ウェハＷに対して所定のＳＣ１洗浄を行った
後、再びウェハＷを上記ウェハチャック１４２により取
り出して、一次水洗槽２０３ａに搬送し、そこで、この
洗浄槽２０３内に設けられている保持部２１２に移載
し、純水による一次洗浄を行う。その後、同様の方法に
より、純水洗浄後のウェハＷを二次水洗槽２０４ａ（図
１）に送り、純水による二次洗浄を行い、ウェハＷに付
着した薬液をより完全に洗浄する。なお、この二次水洗
槽２０４ａは、インタフェース槽とも称されるものであ
り、別種の薬液による洗浄が行われる隣接する洗浄ユニ
ットの間にあって、両薬液の混合を防止するためのバッ
ファとしての機能を有するものであり、図示の実施例に
即して言えば、薬液槽２０１ａにおいてＳＣ１洗浄が行
われたウェハＷは、一次水洗後、インタフェース槽であ
る二次水洗槽２０４ａにおいて、後続の二次洗浄ユニッ
ト２０１ｂにおけるＨＦ洗浄を待機する。

【００４０】そして、二次洗浄ユニット２０１ｂを受け
持つ二次ウェハ搬送装置１４０ｂにより、一次洗浄ユニ
ット２０１ｂの二次水洗槽２０３ａからウェハＷを取り
出して、ＨＦ洗浄用の二次洗浄ユニット２０１ｂのＨＦ
薬液槽２０２ｂに搬送する。所定の薬液処理後に、一次
水洗槽２０３ｂにおいて一次洗浄を行い、さらにインタ
フェース槽である二次水洗槽２０４ｂにおいて、後続工
程の洗浄処理の空きを待機する。以下、同様の工程を反
復して、ＳＣ２洗浄その他の必要な洗浄処理を行う。次
に、ウェハＷは、ｎ次ウェハ搬送装置１４０ｎにより最
終水洗槽２０５に送られ、そこで純水による最終水洗処
理を行った後、乾燥処理槽２０６に送られ、ＩＰＡによ
る蒸気乾燥処理を行った後、アンローダ部３００を介し
て装置外に搬出される。

【００４１】以上が、本発明を適用可能な洗浄処理装置
１によるあるロットに対する洗浄処理のフローである
が、一般に上記のような処理フローは、上記制御器２６
０に予め設定入力された処理レシピに従って行われる。
この制御器２６０は、図１に示すように、オペレータ用
画面２６１およびキーボードやマウスなどの入力手段２
６２を備えたパーソナルコンピュータやワークステーシ
ョンなどから構成されており、以下に示すようなような
操作画面に従って、オペレータが所定の命令を入力する
ことにより、マニュアルモードであるいはオートモード
で洗浄装置を操作することが可能である。

【００４２】図７〜図９には、本発明を適用可能な画面
制御システムの階層的な系統図が示されている。図示の
ように、メインメニューに示すことが可能なオペレータ
用画面は、一般オペレータ用メニューとエンジニアなど
の専門オペレータ用メニューとに分かれている。そし
て、一般オペレータ用メニューでは、図８に示すよう
に、ウェハフロー開始メニュー、装置情報メニュー、ス
タンバイ処理メニュー、メカイニシャライズメニュー、
処理終了メニュー、払い出し処理メニューを、それぞれ
選択することが可能なように構成されている。また図９
に示すように、エンジニア用メニュー（専門オペレータ
用メニュー）は、レシピ作成メニュー、メンテナンス用
メニュー、サービス用メニューから構成される。そして
レシピ作成メニューでは、ウェハフローレシピメニュ
ー、装置パラメータメニュー、固定パラメータメニュ
ー、槽パラメータメニューが選択可能であり、メンテナ
ンス用メニューでは、ティーチング制御メニュー、セン
サステータスメニュー、アラームロギングメニューが選
択可能であり、さらにサービス用メニューでは、定常画
面メニュー、パスワード設定メニュー、時間設定メニュ
ーを選択することが可能なように構成されている。

【００４３】次に、以上のように構成された画面制御シ
ステムに基づいて、一般オペレータが一般の洗浄処理を
実行する場合について説明する。一般オペレータが電源
を入力すると、まず図１０に示すような、専門的知識を
有さない一般オペレータがアクセス可能な、ウェハフロ
ー開始メニュー、装置情報メニュー、スタンバイ処理メ
ニュー、メカイニシャライズメニュー、処理終了メニュ
ー、払い出し処理メニューから構成されるメインメニュ
ー画面が表示される。そして、一般オペレータは、この
メインメニュー画面において、まず図１０に示すよう
に、メカイニシャライズメニューを選択し、装置内にウ
ェハが存在しないかどうかを確認し、確認後、装置の搬
送系、たとえばローダ部１００の移送装置１２０、各洗
浄ユニット２０１の搬送装置１４０などを初期位置に戻
して、新しいロットを受け入れ可能状態にする。

【００４４】その後、図１１に示すように、スタンバイ
メニューを選択し、図１２に示すようなテーブルに基づ
いて、各処理槽に所定の薬液または純水を注入／交換す
るとともに、所定の温度に温調し、いつでも処理を開始
できるように、洗浄装置全体のスタンバイを行う。

【００４５】以上に示したように、本実施例では、メカ
イニシャライズ処理とスタンバイ処理とを実行して、始
めて図１３に示すように、ウェハフロー開始メニューの
選択が可能となる。なお、本実施例においては、メカイ
ニシャライズ処理およびスタンバイ処理を実行したか否
かを「＊」マークにより識別し、各処理を実行すること
により「＊」マークを消去して始めて、ウェハフロー開
始メニューに関する入力を受け付けるように構成してい
る。このように、ウェハフロー開始メニューを選択し、
図１４に示す画面において、ウェハのロットＩＤや各処
理レシピなどの確認を行った後、ロットスタートキーを
押すことにより、オートモードにて上述したような一般
の洗浄処理が開始され、一連の洗浄処理が終了した後、
アンローダ部３００から処理済みのロットが搬送ロボッ
トにより装置外に自動的に搬出される。

【００４６】そして、装置を停止させる場合には、図１
５において、処理終了メニューを選択し、必要な場合に
は、各処理槽内の薬液や純水を廃液／排水処理を実施し
た後、洗浄処理装置を停止する。

【００４７】なお、一般オペレータ用メニューのうち、
図１６に示すように、装置情報メニューは、薬液槽や水
洗槽などの洗浄装置を構成する各装置に関する情報、処
理レシピ、ロット情報などを画面上に表示させ、その確
認を行うための画面である。そして、この装置情報メニ
ューは、洗浄処理装置により固定的に表示される固定情
報と、洗浄処理装置が有する項目別情報の中からユーザ
が選択可能なユーザ情報とから構成することが可能であ
る。

【００４８】上記固定情報としては、たとえば、 ・電源を入れてからの時間を示す「総時間」 ・ウェハフローの時間を示す「生産時間」 ・電源を入れてから、ウェハフローを行っている割合
（生産時間／総時間）を示す「生産利用性」 ・装置の名称を示す「装置名」 ・装置情報画面の表示モードを示す「表示モード」 ・アームの現在位置やウェハの有無情報を示す「アーム
情報」 ・処理槽などの洗浄処理装置を構成する各ユニットの名
称を示す「ユニット名」 ・ユニットが現在行っている処理、たとえば洗浄、水洗
などの情報を示す「処理情報」 ・ユニット内にあるロットのウェハフロー番号を示す
「ウェハフロー番号」 ・ユニット内にあるロットのＩＤを示す「ロットＩＤ」 などから構成することが可能である。

【００４９】また上記ユーザ情報としては、たとえば ・洗浄、浸漬、乾燥などの処理の残り時間を表示する
「処理時間」 ・洗浄、浸漬、乾燥などの処理に関して設定された時間
を表示する「処理設定時間」 ・薬液槽に関する処理槽測定温度または水洗槽に関する
測定比抵抗値を表示する「温／低測定値」 ・薬液槽に関する処理槽設定温度または水洗槽に関する
設定比抵抗値を表示する「温／低設定値」 ・薬液のＤＩＷタンク測定温度を表示する「タンク温測
定値」 ・薬液のＤＩＷタンク設定温度を表示する「タンク温設
定値」 ・薬液やＩＰＡの交換インターバル時間を表示する「交
換時間」 ・薬液やＩＰＡの交換インターバル設定時間を表示する
「交換設定時間」 ・薬液やＩＰＡの交換インターバル回数を表示する「交
換回数」 ・薬液やＩＰＡの交換インターバル設定時間を表示する
「交換設定回数」 ・薬液やＩＰＡの交換後の経過時間を表示する「経過時
間」 ・薬液やＩＰＡの交換後の経過回数を表示する「経過回
数」 ・薬液交換後のロット投入までの待機時間を表示する
「待機時間」 ・薬液補充インターバル時間を表示する「薬補時間」 ・薬液補充インターバル設定時間を表示する「薬補設定
時間」 ・薬液補充インターバル回数を表示する「薬補回数」 ・薬液補充インターバル設定回数を表示する「薬補設定
回数」 ・過酸化水素水補充インターバル時間を表示する「過補
時間」 ・過酸化水素水補充インターバル設定時間を表示する
「過補設定時間」 ・過酸化水素水補充インターバル回数を表示する「過補
回数」 ・過酸化水素水補充インターバル設定回数を表示する
「過補設定回数」 ・純水補充インターバル時間を表示する「純補時間」 ・純水補充インターバル設定時間を表示する「純補設定
時間」 ・純水補充インターバル回数を表示する「純補回数」 ・純水補充インターバル設定回数を表示する「純補設定
回数」 などから構成することが可能である。

【００５０】図１７および図１８には典型的な装置情報
画面が示されている。図示のように、本発明に基づいて
構成された装置情報画面には、固定情報とユーザ情報と
が表示されている。すなわち、画面の中央部より上方に
は、総時間、生産時間、生産利用性、装置名、表示モー
ドの文字列と、アーム情報、ユニット名、処理情報、ウ
ェハフロー番号、ロットＩＤから成る図表化された一覧
テーブルとから構成された固定情報が表示されている。
この固定情報は、表示モードのいかんを問わず、また表
示画面のいかんを問わず、図１７および図１８に示すよ
うに、装置情報画面が表示される場合には常に表示され
るものである。

【００５１】また画面の中央部より下方には、図１７に
示す画面では、処理時間、処理設定時間、交換時間、交
換設定時間、交換回数、交換設定回数から構成されるユ
ーザ情報が、そして図１８には、経過時間、経過回数か
ら構成されるユーザ情報が表示されている。かかるユー
ザ情報は、図１９に示すユーザ情報選択画面において、
本発明に基づいて、装置情報画面に表示するべく選択さ
れた項目であり、図示の例では、第１画面に表示させた
い項目として処理時間、処理設定時間、交換時間、交換
設定時間、交換回数、交換設定回数が選択され、第２画
面に表示させたい項目として経過時間、経過回数が選択
されている。その結果、第１画面に対応する図１７に示
す画面、第２画面に対応する図１８に示す画面に、それ
ぞれ所望の項目を表示することが可能なように構成され
ている。

【００５２】以上のように、本発明によれば、固定情報
に加えて、ユーザ情報をユーザの任意の選択により表示
させることができるので、処理条件、処理環境およびオ
ペレータの種類に応じて、最適な装置情報画面を構築す
ることが可能であり、操作性を向上させることができ
る。

【００５３】また、図１７および図１８に示すように、
選択されたユーザ情報が２画面以上にわたる場合には、
たとえば、表示モードとして実時間表示を選択すること
により、所定の周期、たとえば３０秒ごとに各画面を順
次表示させて、オペレータの注意を喚起することが可能
である。あるいは表示モードとして固定表示を選択する
ことにより、優先的に確認が必要な情報を常に表示さ
せ、画面切換キーにより二次的に確認が必要な情報を表
示させることも可能である。そして、本発明によれば、
いずれの画面においても、最低限確認が必要な固定情報
については表示が行われるので、オペレータは必要最低
限の情報については常に確認を行うことが可能なように
構成されている。

【００５４】なお、一般オペレータ用メニューには、図
２０に示す、払い出し処理メニューが用意されている。
この払い出し処理メニューは、処理中に装置のいずれか
の処理槽においてトラブルが発生した場合に必要なメニ
ューであり、図２１に示すような画面に従って、トラブ
ルが発生した処理槽からウェハを、その下流の水洗槽に
強制的に払い出し、必要によっては、最終洗浄および／
または乾燥処理後に、装置外に強制的に搬出する指令を
発するためのものである。

【００５５】以上が、予め設定された処理フローに従っ
て洗浄処理を行うための一般オペレータ用メニューにつ
いての概略的な説明であるが、洗浄処理装置に予め設定
された処理フローを、新たに設定または修正したい場合
には、電源入力後に表示されるメインメニューにおい
て、パスワードを入力し、図２２に示すようなパスワー
ド入力画面を表示させた後、さらに図２３に示すパスワ
ード設定画面において、所望のメニューに応じて予め設
定されているパスワードを入力することにより、たとえ
ば、図２４に示すようなウェハフローレシピメニューを
表示させることが可能である。

【００５６】このように、本実施例では、操作するため
に専門的知識を必要とするメニュー画面にアクセスする
ためには、パスワードが必要なので、そのメニューに対
する専門的知識を有する専門オペレータ（エンジニア）
を、そのメニューに対する専門的知識を持たない一般オ
ペレータから差別化し、そのメニューに対する、不必要
な、あるいは不注意な、あるいは意図的なアクセスを防
止し、システムの動作に重大な影響を与える各種パラメ
ータが修正または改ざんされないように構成されてい
る。

【００５７】さて、このようにしてアクセス可能となっ
た、図２４に示すウェハフローレシピメニューは、前出
の一般オペレータ用メニューにおけるウェハフロー開始
メニューにより処理を行うために必要な処理フロー、す
なわち処理レシピを記録したファイルを作成するための
メニューであり、本実施例では、４０個のファイルを管
理することが可能である。

【００５８】そして図２４に示す画面において、あるフ
ァイルを指定して、「１．新規作成、編集」を選択する
ことにより、図２５に示すような各処理ユニットと対応
する処理を一覧表示したテーブルを表示させることが可
能である。そして、後述する各パラメータメニューにお
いて予め処理条件が設定されており、処理レシピに従っ
た細かい指示が不要な場合には、図２５に示す画面上に
おいて、単に処理時間を入力することにより、テーブル
が完成され、処理レシピに従った細かい指示が必要な場
合には、処理レシピの番号が入力され、テーブルが完成
される。

【００５９】そして、上記テーブルに入力された各処理
ユニットに関する処理レシピの作成／修正が必要な場合
には「レシピ編集」キーを押すことにより、図２６に示
すような登録された処理レシピの一覧が表示され、さら
に作成／修正を行う処理レシピを選択することにより、
図２７に示すようなレシピ編集画面を表示させることが
可能である。なお、以下の説明においては、純水による
一次洗浄槽に関するレシピ編集を例に挙げて、レシピ編
集用画面の処理方法について説明する。

【００６０】図示のように、この画面では、この一次水
洗槽に関連する情報が処理フローに沿って図表化されて
いるので、オペレータは、容易にかつ入力ミスを最小限
に抑えて、対応するパラメータの設定／修正を行うこと
ができる。そして、以上のように、時系列的に図表化さ
れた画面において編集された処理レシピを、前出の一般
オペレータ用画面のウェハフロー開始メニューで選択す
ることにより、所望の洗浄処理を実行することが可能で
ある。

【００６１】再び図７〜図９に戻って、レシピ作成メニ
ューについて説明すると、装置パラメータメニューで
は、各処理槽の温度や純水タンクの温度、さらにアラー
ムを発する警告温度などのパラメータを設定することが
可能である。また固定パラメータメニューでは、各槽で
の液交換、槽洗浄条件、オーバーフロー時間などのパラ
メータを設定することが可能である。そして槽パラメー
タメニューでは、各処理槽の廃液条件、供給条件などの
パラメータを設定することが可能である。このように、
これらのパラメータメニューで設定されたパラメータお
よび前出のウェハーフローレシピメニューで設定された
処理レシピに基づいて、最適な洗浄処理が行われる。

【００６２】次に図７〜図９に示す、メンテナンス用メ
ニューについて説明すると、このメニューは、ティーチ
ング制御メニューと、センサステータスメニューと、ア
ラームロギングメニューとから構成されている。このう
ち、ティーチング制御メニューでは、搬送装置１４０、
ローダ部１００、アンローダ部３００、移送装置１２０
などの搬送系の位置調整を行うための画面であり、装置
の初期位置および動作に関して微調整が必要な場合に表
示される。またセンサステータスメニューは、洗浄処理
装置の各部位に設置されたセンサの状態の表示を行い、
必要な場合にはセンサの状態を調整する場合に必要な画
面である。なお、本実施例にかかる洗浄処理装置では、
装置内で発生した全てのアラームの時間、コード、状態
などの情報を記録しており、それらの情報は、アラーム
ロギングメニューにおいて表示可能であり、メンテナン
ス時に参照される。

【００６３】次に図７〜図９に示す、サービス用メニュ
ーについて説明すると、このメニューは、定常画面設定
メニューと、パスワード設定メニューと、時間設定メニ
ューとから構成されている。本実施例にかかる洗浄処理
装置では、一定時間キー操作をしない場合に、指定した
画面を自動的に表示する機能を有しているが、この定常
画面設定メニューにおいて、図２８に示す定常画面にお
いて表示させたい項目および切換に要する時間などを設
定することが可能である。そして、本発明によれば、エ
ンジニア用メニュー画面およびレシピ作成画面は、不注
意なオペレータからパスワードにより保護されている
が、これらのパスワードに変更が必要な場合には、図２
３に示すパスワード設定メニュー画面にて変更作業を行
うことが可能である。さらに、サービス用メニューに
は、時間設定メニュー画面が設けられており、必要な場
合には洗浄処理装置に内蔵されているクロックの時間を
変更することができる。

【００６４】ところで、専門オペレータ用メニュー、す
なわちレシピ作成用メニュー、メンテナンス用メニュ
ー、サービス用メニューは、専門的知識を有する専門オ
ペレータによりマニュアルで操作されるのが一般的であ
る。しかしながら、何らかの理由で、専門オペレータが
中座した場合には、本来であれば専門オペレータ以外の
人間のアクセスが禁止されるべきメニューが無防備に第
三者に対してさらされることになり、場合によっては、
処理レシピなどが修正または改ざんされるおそれがあ
る。そこで、本発明は、上述のような定常画面を用意す
ることにより、すなわち、図２８に示す定常画面設定メ
ニューにおいて、専門オペレータ以外の人間であっても
アクセスが許可されているような一般オペレータ用メニ
ュー、たとえばウェハフロー開始、装置情報、スタンバ
イ処理、メカイニシャライズ、処理終了を予め定常画面
として選択することにより、専門オペレータメニューに
おいて所定時間、たとえば５０秒間キー入力がなかった
場合に、自動的に定常画面に戻ることが可能である。そ
の結果、専門オペレータ以外の第三者が専門オペレータ
メニューにアクセスすることができる可能性を最小限に
抑え、システムの保全を図ることが可能である。

【００６５】以上説明したように、洗浄処理装置１を駆
動するための制御系とオペレータとのインタフェースは
構成されており、制御器２６０のオペレータ用画面２６
１に表示される各種メニューに基づいてオペレータが所
定の処理フローを指示することにより、各種モードにて
駆動することが可能である。その場合に、本発明によれ
ば、専門オペレータ用メニューが定常画面復帰モードに
よって保護されており、一般オペレータがアクセスし難
く構成されているのでシステムの保全が図られている。
また、装置情報画面をユーザの選択により最適に構成す
ることが可能なので、操作性の向上が図られている。

【００６６】なお上記実施例においては、１台の薬液槽
と２台の水洗槽から成る洗浄ユニットを組み合わせた洗
浄処理装置について説明したが、本発明はかかる例に限
定されず、たとえば同種の薬液による処理を行う複数の
薬液槽を含む洗浄ユニット、あるいは１台の水洗槽のみ
を含む洗浄ユニットなど、各種処理槽を組み合わせた洗
浄装置に対して適用することが可能である。

【００６７】また以上の説明においては、半導体ウェハ
用の洗浄処理装置を例に挙げて本発明の一実施例を説明
したが、本発明はこれに限定されず、たとえばＬＣＤ基
板その他の部品および部材を洗浄するための洗浄処理装
置に対しても当然適用することが可能である。さらにま
た、本発明は洗浄処理装置に限定されず、半導体ウェハ
やＬＣＤ基板などの被処理体に対して、予め設定された
処理フローに従って、所定の処理を施すための各種処理
装置、たとえばエッチング装置や成膜装置を制御するた
めのオペレータ用画面に対して適用することも可能であ
り、その場合にも、専門的な知識を有するオペレータを
一般オペレータから差別化することにより、システムの
保全を図ることが可能である。

【００６８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
たとえば専門オペレータが処理レシピ作成中に席を離れ
た場合であっても、専門オペレータによるキー入力が所
定時間ない場合には、一般オペレータにより操作可能な
制御用画面および装置に関する各種情報を表示する装置
情報画面の中から予め選択された定常画面に自動的に戻
るので、専門オペレータ以外の一般オペレータが、許可
された画面以外にアクセスする可能性を最小限に抑える
ことが可能となる。

【００６９】また、定常画面を、たとえば洗浄処理フロ
ーの開始を指示する洗浄処理フロー開始指示画面、各装
置の初期化を指示する装置初期化画面、各処理槽を被処
理体受け入れ可能状態にするように指示する処理スタン
バイ画面、処理の終了を指示する処理終了画面などの、
使用頻度の高い画面、あるいは第三者のアクセスによる
危険度の低い画面に設定することにより、操作性の向
上、あるいはシステムの保全性の向上を図ることが可能
である。

【００７０】また、オペレータ用画面として、前記装置
に関する各種情報を表示する装置情報画面を採用するこ
とにより、オペレータは適宜装置のステータスを確認す
ることが可能となるが、その場合に、その装置情報を、
処理装置により固定的に表示される固定情報と、処理装
置が有する項目別情報の中からユーザにより予め選択さ
れた項目から成るユーザ情報とから構成することによ
り、処理環境またはオペレータに応じた柔軟な装置情報
画面を構築することができる。そして、このような装置
情報画面を、上記定常画面として採用することにより、
システムの保全性を図るとともに、装置のステータスを
適宜把握することが可能なので、操作性の向上が図れ
る。

【００７１】そして、一般オペレータ用画面、特に上記
装置情報画面は、一画面に表示することにより、視覚的
認識が容易となり、操作性の向上を図ることが可能であ
る。しかし、これらの定常画面が、二以上の画面にわた
る場合であっても、各画面を所定周期で順次切り替わる
ように構成することにより、視覚的認識が容易となり、
操作性の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に基づいて構成された洗浄処理装置の一
実施例を示す概略的な斜視図である。

【図２】図１に示す洗浄処理装置のローダ部の一例を拡
大して示す斜視図である。

【図３】図１に示す洗浄処理装置のウェハ搬送装置の一
例を拡大して示す斜視図である。

【図４】図１に示す洗浄処理装置の洗浄処理槽の一例を
一部を断裁した状態を概略的に示す斜視図である。

【図５】図４に示す洗浄処理槽の様子を示す概略的な断
面図である。

【図６】図４に示す洗浄処理槽の蓋を閉じた状態を概略
的に示す斜視図である。

【図７】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画面
の階層構造を示す第１の階層系統図である。

【図８】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画面
の階層構造を示す第２の階層系統図である。

【図９】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画面
の階層構造を示す第３の階層系統図である。

【図１０】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューのメカイニシャライズメニュー
選択画面の一実施例を示す説明図である。

【図１１】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューのスタンバイ処理メニュー選択
画面の一実施例を示す説明図である。

【図１２】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちスタンバイ処理メニュー画面の一実施例を示す
説明図である。

【図１３】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューのウェハフロー開始メニュー選
択画面の一実施例を示す説明図である。

【図１４】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちウェハフロー開始メニュー画面の一実施例を示
す説明図である。

【図１５】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューの処理終了メニュー選択画面の
一実施例を示す説明図である。

【図１６】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューの装置情報メニュー選択画面の
一実施例を示す説明図である。

【図１７】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうち第１の装置情報画面の一実施例を示す説明図で
ある。

【図１８】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうち第２の装置情報画面の一実施例を示す説明図で
ある。

【図１９】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面の装置情報に表示させるユーザ情報選択画面の一実施
例を示す説明図である。

【図２０】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューのはい来だし処理メニュー選択
画面の一実施例を示す説明図である。

【図２１】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうち払い出しメニュー画面の一実施例を示す説明図
である。

【図２２】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のメインメニューにおいてパスワード入力後に表示さ
れるパスワード設定画面を示す説明図である。

【図２３】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちサービス用メニューのパスワード設定画面を示
す説明図である。

【図２４】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちウェハフローレシピ画面の一実施例を示す説明
図である。

【図２５】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちウェハフロー編集画面の一実施例を示す説明図
である。

【図２６】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューの一次水洗レシピのファイル選
択メニュー選択画面の一実施例を示す説明図である。

【図２７】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうちメインメニューの一次水洗レシピメニュー選択
画面の一実施例を示す説明図である。

【図２８】本発明に基づいて採用されるオペレータ用画
面のうち定常画面設定メニューの一実施例を示す説明図
である。

【符号の説明】

１ 洗浄処理装置 １００ ローダ部 １１０ 載置部 １３０ 中継部 １４０ ウェハ搬送装置 ２００ 洗浄処理部 ２０１ 洗浄ユニット ２０２ 薬液槽 ２０３ 一次水洗槽 ２０４ 二次水洗槽（インタフェース槽） ２６０ 制御器 ２６１ オペレータ用画面 ２６２ キーボード ３００ アンローダ部

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部とを備
   え、 被処理体を薬液洗浄する１または２以上の薬液槽と、被
   処理体を純水洗浄する１または２以上の水洗槽とを少な
   くとも含む複数の処理槽と、被処理体を乾燥処理する乾
   燥器が、前記ローダ部と前記アンローダ部との間に順次
   配列されて成る洗浄処理装置を制御するためのオペレー
   タ用画面処理方法であって、 一般オペレータにより操作可能な制御用画面および装置
   に関する各種情報を表示する装置情報画面の中から定常
   画面を予め選択する定常画面設定工程と、 キー入力の無い状態が所定時間経過した場合に、予め選
   択された定常画面に戻る工程と、 から成ることを特徴とする、洗浄処理装置の画面処理方
   法。
2. 【請求項２】 前記一般オペレータにより操作可能な制
   御用画面は、少なくとも、洗浄処理フローの開始を指示
   する洗浄処理フロー開始指示画面、各装置の初期化を指
   示する装置初期化画面、各処理槽を被処理体受け入れ可
   能状態にするように指示する処理スタンバイ画面、処理
   の終了を指示する処理終了画面を含むことを特徴とす
   る、請求項１に記載の洗浄処理装置の画面処理方法。
3. 【請求項３】 前記装置に関する各種情報を表示する装
   置情報画面は、処理装置により固定的に表示される固定
   情報と、処理装置が有する項目別情報の中からユーザに
   より予め選択された項目から成るユーザ情報とから構成
   されることを特徴とする、請求項１に記載の洗浄処理装
   置の画面処理方法。
4. 【請求項４】 前記定常画面は、一画面内に表示される
   ことを特徴とする、請求項１、２または３のいずれかに
   記載の洗浄処理装置の画面処理方法。
5. 【請求項５】 前記定常画面は、２以上の画面にわたっ
   て表示され、各定常画面が、所定の時間周期で順次切り
   替わることを特徴とする、請求項１、２または３のいず
   れかに記載の洗浄処理装置の画面処理方法。
6. 【請求項６】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部とを備
   え、 被処理体を薬液洗浄する１または２以上の薬液槽と、被
   処理体を純水洗浄する１または２以上の水洗槽とを少な
   くとも含む複数の処理槽と、被処理体を乾燥処理する乾
   燥器が、前記ローダ部と前記アンローダ部との間に順次
   配列されて成る洗浄処理装置を制御するためのオペレー
   タ用画面処理方法であって、 そのオペレータ用画面として、少なくとも装置に関する
   各種情報を表示する装置情報画面を表示し、さらに、そ
   の装置情報画面として、洗浄処理装置により固定的に表
   示される固定情報と、洗浄処理装置が有する項目別情報
   の中からユーザにより予め選択された項目から成るユー
   ザ情報とを表示することを特徴とする、洗浄処理装置の
   画面処理方法。
7. 【請求項７】 前記装置情報画面は、一画面内に表示さ
   れることを特徴とする、請求項６に記載の洗浄処理装置
   の画面処理方法。
8. 【請求項８】 前記装置情報画面は、２以上の画面にわ
   たって表示され、各装置情報画面が、所定の時間周期で
   順次切り替わることを特徴とする、請求項６に記載の洗
   浄処理装置の画面処理方法。
9. 【請求項９】 被処理体を予め設定された処理フローに
   従って処理する処理装置を制御するためのオペレータ用
   画面の表示方法であって、 オペレータにより操作可能な制御用画面および装置に関
   する各種情報を表示する装置情報画面の中から定常画面
   を予め選択する定常画面設定工程と、キー入力の無い状
   態が所定時間経過した場合に、予め選択された定常画面
   に戻る工程と、から成ることを特徴とする、処理装置の
   画面処理方法。
10. 【請求項１０】 前記定常画面は、一画面内に表示され
    ることを特徴とする、請求項９に記載の処理装置の画面
    処理方法。
11. 【請求項１１】 前記定常画面は、２以上の画面にわた
    って表示され、各定常画面が、所定の時間周期で順次切
    り替わることを特徴とする、請求項９に記載の処理装置
    の画面処理方法。
12. 【請求項１２】 被処理体を予め設定された処理フロー
    に従って処理する処理装置を制御するためのオペレータ
    用画面の表示方法であって、 そのオペレータ用画面は、少なくとも装置に関する各種
    情報を表示する装置情報画面を含み、その装置情報画面
    は、処理装置により固定的に表示される固定情報と、処
    理装置が有する項目別情報の中からユーザにより予め選
    択された項目から成るユーザ情報とから構成されること
    を特徴とする、処理装置の画面処理方法。
13. 【請求項１３】 前記装置情報画面は、一画面内に表示
    されることを特徴とする、請求項１２に記載の処理装置
    の画面処理方法。
14. 【請求項１４】 前記装置情報画面は、２以上の画面に
    わたって表示され、各装置情報画面が、所定の時間周期
    で順次切り替わることを特徴とする、請求項１２に記載
    の処理装置の画面処理方法。