KR100298700B1

KR100298700B1 - 세정기기 및 처리장치에 사용되는 모니터제어방법 및 모니터장치

Info

Publication number: KR100298700B1
Application number: KR1019960031736A
Authority: KR
Inventors: 다쓰유키 이와마
Original assignee: 히가시 데쓰로; 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 1995-07-31
Filing date: 1996-07-31
Publication date: 2001-11-30
Also published as: KR970008395A; US5740053A

Abstract

가. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야

본 발명은 세정기기 및 처리장치에 사용되는 모니터제어방법 및 모니터장치에 관한 것이다.

나. 그 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제

본 발명에 따른 디스플레이는 처리될 피처리체를 로우딩시키기 위한 로우더, 처리된 피처리체를 반출하기 위한 언로우더 및 처리될 피처리체를 세정하기 위하여 다운 스트림 방향으로 로우더 및 언로우더 사이에 순차적으로 배치된 다수의 처리 유니트를 포함하는 세정장치의 처리 과정을 디스플레이하며, 아울러 시스템의 안전성 및 조작능을 향상시키고자 하는 것이다.

다. 그 발명의 해결방법의 요지

본 발명에 따른 모니터 제어방법은 다수의 처리 아이템을 가지며, 일반처리 과정에 따라 처리를 행하는 일반 조작자와, 상기 처리장치의 조절을 담당하는 특수 조작자에 관하여 각각 다수의 처리 메뉴를 준비하는 단계, 상기 처리장치가 초기화될 때, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴만이 디스플레이되는 단계, 특수 조작자에 의해 패스워드가 입력될 때만 특수 조작자에대한 처리 메뉴가 디스플레이되는 단계, 및 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 아이템을 선택할 때, 선택된 처리 아이템에 상응하는 처리 정보를 디스플레이하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

라. 발명의 중요한 용도

본 발명은 세정기기 및 처리 장치에 사용되는 모니터 제어방법 및 모니터장치로서 유용하다.

Description

세정기기 및 처리장치에 사용되는 모니터제어방법 및 모니터장치

본 발명은 처리될 피처리체, 예컨대 반도체 웨이퍼 및 모니터 장치를 처리하는 처리장치 및 웨이퍼 세정장치의 모니터를 제어하는 방법에 관한 것이다.

제조공정에 있어서 세정은 예컨대 LSI를 들 수 있는 반도체 장치의 제조공정에서의 세정에 의해 기술될 것이다. 반도체 웨이퍼 세정장치는 일반적으로 반도체 웨이퍼 표면에서의 오염 물질, 예컨대 먼지 입자, 유기 오염물, 및 금속 불순물을 제거하는 데 사용되어 왔다. 이러한 장치들 중에서 습식형 세정장치가 효과적으로 먼지입자를 제거하고, 배취 공정을 수행할 수 있기 때문에 광범위하게 사용되어 왔다.

이러한 유형의 세정장치에 있어서, 소정의 수치를 저장하는 캐리어로 불리우는 저장부재, 예컨대25 반도체 웨이퍼가 반송 로봇에 의해 세정장치의 로우더부에 로딩된다. 이들이 평배향 얼라이먼트된 후, 저장된 반도체 웨이퍼는 웨이퍼 호울더내의 홀딩 유니트에 의해 캐리어로부터 제거된다. 반송준비 상태의 반도체 웨이퍼는 다양한 유형의 세정조작을 행하고 세정부에서 소정의 세정 작업을 하는 세정부에 웨이퍼 척으로 불리우는 척 부재를 가지는 반송 장치에 의해 반송된다.

세정부는 화학적 세정 작업, 예컨대 SC1 세정, SC2 세정, HF세정, 및 SPM 세정을 수행하기 위한 하나 또는 최소한 두 개의 세정 유니트를 배열시킴으로써 형성될 수 있다. 각 세정 유니트는 화학적 세정을 수행하기 위한 화학조 및 순수한 물 세정을 행하기 위한 수조로 이루어진다. 반송장치에 의해 특정 세정 유니트로 반송된 처리 피처리체는 화학약액조에서 화학적으로 처리되고, 화학약액조의 다운 스트림에 배치된 수조로 반송된다. 반도체 웨이퍼의 표면에 부착되는 화학약액이 수조의 깨끗한 물로 세척 제거된 후, 반도체 웨이퍼는 다른 종류의 화학약액으로 세정하는 세정 유니트로 반송된다. 이러한 방식으로 일련의 세정 작업을 수행한 반도체 웨이퍼는 최종적으로 순수한 물로 세척되고, 건조된 후, 언로우더부를 통해 처리장치 밖으로 언로우딩된다.

상기와 같은 세정장치에서의 세정 작업은 일반적으로 작업자가 퍼스널 컴퓨터, 워크스테이션 등으로 이루어진 콘트롤러의 디스플레이 장치 상에 디스플레이되는 제어 메뉴에 의해 작업을 수행할 때 행해진다. 이러한 경우, 엔지니어 메뉴도 통상의 작동 메뉴에 부가하여 디스플레이 된다. 따라서, 디스플레이된 엔지니어 메뉴가 패스워드 등에 의해 전혀 보호되지 않을 때, 소정의 지식을 가지는 작업자에 한해서만 호출되고 통상적으로는 호출되어서는 안돼는 레서피 형성 메뉴, 메인터넌스 메뉴, 및 서비스 메뉴에서조차도 통상의 작업자가 쉽게 호출할 수 있다. 따라서, 웨이퍼 레서피, 장치 파라미터, 고정된 파라미터, 처리조 파라미터 등 장치의 조작에 크게 영향을 미치는 인자들은 부주의하게 또는 무의식적으로 변조 또는 왜곡될 수도 있다.

엔지니어 메뉴가 패스워드 등에 의해 보호된다 하더라도 엔지니어 메뉴 자체는 메인 메뉴에 디스플레이되지 않는다. 따라서, 통상의 조작자는 엔지니어 메뉴를 계속하여 호출한다. 만일 패스워드가 엄격하게 제어되지 않거나 어떤 이유로 통상의 조작자에게 알려진 경우, 통상의 조작자는 엔지니어 메뉴를 호출할 수 있고 여러 파라미터들을 변경 또는 위조시킬 수 있는 소지가 있다.

종래에는 처리장치의 제어 화면, 예컨대 세정장치에 관한 다양한 유형의 정보를 나타내는 장치 데이터 이미지를 포함한다. 조작자는 필요한 장치 데이터 이미지에 의거하여 세정장치의 상태를 확인할 수 있다. 장치에 관한 데이터는 변한다. 조작자가 장치 데이터를 문의할 때마다 모든 데이터가 디스플레이 된다면 상태 확인 조작은 매우 번거롭게 될 것이다. 따라서, 융통성 있는 데이터 디스플레이 방법이 요구된다

본 발명의 목적은 모니터를 조작하는 동안 조작자가 시스템을 이탈하는 경우더라도 시스템 보안을 보증 할 수 있는 신규하고 개량된 화면 배열 방법 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 적정한 방식으로 장치에 종속된 여러 유형의 데이터를 디스플레이 할 수 있는 신규하고 개량된 화면 제어방법을 제공하는 것이다.

제1도는 본 발명에 따른 세정장치의 일실시예를 나타내는 개략적인 사시도.

제2도는 제1도에 나타낸 세정장치의 로우더부의 일 예를 나타내는 확대 사시도.

제3도는 제1도에 나타낸 세정장치의 웨이퍼 반송부를 나타내는 부분사시도.

제4도는 제1도에 나타낸 세정장치의 세정조를 나타내는 부분사시도.

제5도는 제4도에 나타낸 세정조의 개략 단면도.

제6도는 제4도에 나타낸 세정조의 사시도.

제7도는 세정장치의 마스터 유니트 및 종속 유니트의 개략적인 블록 다이어그램.

제8도는 본 발명에 사용되는 조작자 화면의 계층 구조를 나타내는 제1계층 시스템 도면.

제9도는 본 발명에 사용되는 조작자 화면의 계층구조를 나타내는 제2계층 시스템 도면.

제10도는 본 발명에 사용되는 조작자 화면의 계층구조를 나타내는 제3계층 시스템 도면.

제11도는 메인 메뉴로부터 초기화되는 장치의 선택시 얻어지는 메뉴를 나타내는 도면.

제12도는 메인 메뉴로부터 준비 처리 메뉴(Stand-by processing menu)의 선택시 얻어지는 메뉴 화면을 나타내는 도면.

제13도는 준비 처리 메뉴를 나타내는 도면.

제14도는 메인 메뉴로부터 웨이퍼 플로우 스타트 선택시 얻어지는 메뉴를 나타내는 도면.

제15도는 웨이퍼 플로우 스타트 메뉴를 나타내는 설명도.

제16도는 메인 메뉴로부터 처리의 완료 선택시 얻어지는 메뉴를 나타내는 도면.

제17도는 메인 메뉴로부터의 시스템 정보의 선택시 얻어지는 메뉴를 나타내는 도면.

제18도는 수동 모드에서 제1장치상의 화면 디스플레이 정보를 나타내는 도면.

제19도는 수동 모드에서 제2 장치상의 화면 디스플레이 정보를 나타내는 도면.

제20도는 사용자에 의해 선택되는 화면 디스플레이 정보를 나타내는 도면.

제21도는 메인 메뉴로부터 취출 처리 선택시 얻어지는 메뉴를 나타내는 도면.

제22도는 취출 처리 메뉴를 나타내는 도면.

제23(a)도는 패스워드의 입력후, 디스플레이되는 패스워드 세팅 화면을 나타내는 도면.

제23(b)도는 패스워드 입력에 의해 디스플레이되는 메인 메뉴를 나타내는 도면.

제24도는 서비스 메뉴의 패스워드 세팅을 나타내는 설명도.

제25도는 웨이퍼 플로우 레서피 화면을 나타내는 도면.

제26도는 웨이퍼 플로우 편집 화면을 나타내는 도면.

제27도는 제1 단계 물-세척 레서피의 파일 선택 메뉴를 나타내는 도면.

제28도는 제1 단계 물-세척 레서피의 선택 화면을 나타내는 도면.

제29도는 정지상태 설정 메뉴를 나타내는 도면이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 세정장치 100 : 로우더부

110 : 플랫폼 111 : 플랫폼 테이블

112a 내지 112n : 스테이션 113 : 잠금부

115 : 이동기구 116 : 클램프부재

117 : 얼라이먼트부 121a 및 121b : 아암

120 : 콘베이어 장치 122 : 리포터

123 : Z 베이스 124 : X 베이스

130 : 릴레이부 133.135 : 호울더

134 : 이동기둥 136 : 유지홈

137 : 잠금부재 140,140a,140b : 웨이퍼 반송부

141a,141b : 척부재 142 : 웨이퍼 척

143 : 호울더 144 : 구동기구

145 : 반송 베이스 146a,146b : 회동축

147a, 147b,148a,및 148b : 세정부 202 내지 205 : 수조(화학약액조)

206 : 건조조(乾燥槽) 210 : 처리조부

211 : 처리조 212 : 웨이퍼 호울더

213 : 바닥부 214 : 공급포트

215 : 내부조 216 : 외부조

217 : 방출포트 218 : 화학용액 순환로

220 : 정류기 221 : 정류판

222 : 확산 디스크 223 : 구멍

240 : 개폐가능한 덮개 260 : 콘트롤러

261 : 작업원 디스플레이 262 : 입력 유니트

300 : 언더로어부

본 발명에 따라, 처리될 피처리체 및 처리된 피처리체를 반송하기 위한 반송부, 및 처리될 피처리체인 처리하기 위한 최소한 하나 이상의 처리 유니트를 가지는 처리장치의 처리 과정을 디스플레이하는 디스플레이의 모니터 제어 방법으로서, 다수의 처리 아이템을 가지며, 일반 처리 과정에 따라 처리를 행하는 일반 조작자와, 상기 처리장치의 조절을 담당하는 특수 조작자에 관하여 각각다수의 처리 메뉴를 준비하는 단계, 상기 처리장치가 초기화될 때, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴만이 디스플레이 되는 단계, 특수 조작자에 의해 패스워드가 입력될 때만 특수 조작자에 대한 처리 메뉴가 디스플레이 되는 단계, 및 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 아이템을 선택할 때, 선택된 처리 아이템에 상응하는 처리 정보를 디스플레이하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법이 제공된다.

또한, 본 발명에 따라, 처리될 피처리체 및 처리된 피처리체를 반송하기 위한 반송부, 및 반송부에 의해 반송된 처리될 피처리체를 세척하기 위한 다수의 세정 유니트를 가지는 처리장치의 처리 과정을 디스플레이하는 디스플레이의 모니터 제어방법으로서, 다수의 처리 아이템을 가지며, 일반 처리 과정에 따라 처리를 행하는 일반 조작자와, 상기 피처리체 세정장치의 조절을 담당하는 특수 조작자에 관하여 각각 다수의 처리 메뉴를 준비하는 단계, 상기 세정장치가 초기화될 때, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴에 포함되고, 세정장치에 의해 고정적으로 결정되는 고정 정보 및 세정장치의 처리 아이템으로부터 사용자에 의해 미리 선택되어진 처리 아이템을 포함하는 사용자정보를 디스플레이하는 단계, 특수 조작자에 의해 패스워드가 입력될 때만 특수 조작자에 대한 처리 메뉴가 디스플레이되는 단계, 및 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 아이템을 선택할 때, 선택된 처리 아이템에 상응하는 처리 정보를 디스플레이하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 모니터 제어방법이 제공된다.

부가적으로, 본 발명에 따라, 처리될 피처리체 및 처리된 피처리체를 반송하기 위한 반송부, 및 처리될 피처리체를 처리하기 위한 최소한 하나 이상의 처리 유니트를 가지는 처리장치의 처리 과정을 모니터 하기 위한 모니터장치로서, 다수의 처리 아이템을 가지며, 일반 처리 과정에 따라 처리를 행하는 일반 조작자와, 상기 처리장치의 조절을 담당하는 특수 조작자에 관하여 각각다수의 처리 메뉴를 저장하는 저장 수단, 패스워드를 입력하기 위하여 특수 조작자에 의해 조작되는 입력 수단, 상기 처리장치가 초기화될 때는 저장 수단으로부터 일반 조작자에 관한 처리 메뉴만을, 특수 조작자에 의해 패스워드가 입력될 때는 저장 수단으로부터 특수 조작자에 관한 처리 메뉴만을 리든 아웃 하는 리드-아웃 수단, 및 상기 리드-아웃 수단에 의해 각각 리드 아웃된 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 메뉴를 디스플레이하고, 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 아이템을 선택할 때, 선택된 처리 아이템에 상응하는 처리 정보를 디스플레이하는 디스플레이 수단을 포함하는 것을 모니터 장치가 제공된다.

본 발명에 따른 다른 목적 및 이점은 이하에서 보다 상세히 설명될 것이며, 부분적으로 발명의 상세한 설명에 의해 상기한 바, 또는 본 발명의 실시에 의해 명백할 것이다. 본 발명의 목적 및 이점은 첨부되는 청구 범위에 기재한 바의 구체화 또는 조합에 의해 얻어질 수 있을 것이다.

이하에서, 본 발명을 첨부되는 도면과 바람직한 실시예를 참고로 보다 상세히 설명한다.

제1도에 있어서, 세정장치(1)는 세개의 영역, 즉 세척전에 처리될 피처리체, 예컨대 반도체 웨이퍼와 같은 피처리체를 캐리어 유니트 내로 저장하기 위한 로우더부(100), 웨이퍼 세척을 위한 세정부(200), 및 세정장치(1)의 밖으로 세척된 웨이퍼를 캐리어 유니트 내에서 반출시키기 위한 언로우더부(300)로 이루어진다.

로우더부(100)는 플랫폼(110), 콘베이어 장치(120), 및 릴레이부(130)로 이루어진다. 소정 개수, 예컨대 25 언로우드 웨이퍼를 저장하는 캐리어(C)가 로딩되고 플랫폼(110)에 위치하게 된다. 콘베이어 장치(120)는 플랫폼(110)에 위치한 캐리어(C)를 호울더(133및 135)에 반송한다. (제2도에 확대 도시되어 있음). 릴레이부(130)는 캐리어(C)로부터 웨이퍼를 취출하여 웨이퍼 반송부(140)로 반송한다. 플랫폼(110)은 예컨대 제2도에 도시된 바와 같은 동공 플랫폼 테이블(111)을 갖는다. 각각이 캐리어(C)의 하부가 삽입될 수 있는 개구를 가지는 2열의 다수 스테이션(112a, l12b‥‥‥ 112n)이 플랫폼 테이블(111)의 상부 표면 위에 얼라인된다. 캐리어(C)의 상면 코너부를 잠글 수 있는 잠금부(113)가 각 스테이션(112)의 각 코너 근처에 형성된다.

로우더부(100)는 수직 및 수평 방향의 구동 장치(도시하지 않음)에 의해 구동될 수 있는 이동기구(115)를 갖는다. 이동기구(115)는 바람직한 스테이션(112a, l12b‥‥‥ 112n)으로 클램프부재(116)에 의해 유지된 캐리어(C)를 이동시킬 수 있다. 이동기구(115)는 캐리어(C)내에 저장된 웨이퍼(W)의 평배향을 얼라인하는 얼라인먼트부(117)를 갖는다. 따라서, 캐리어(C)가 이동하는 동안 저장된 웨이퍼의 얼라인먼트가 평평하게 배향될 수 있다.

제2도에 도시된 바와 같이, 콘베이어 장치(120)는 로우더부(100) 뒤에 제공된다. 콘베이어 장치(120)는 한 쌍의 아암(121a 및 121b), 리프터(122), Z 베이스(123) 및 X 베이스(124)로 이루어진다. 아암(121a 및 121b) 쌍은 서로 가까워지거나 멀어지게 이동할 수 있다. 리프터(122)는 수평 방향으로 아암(121a 및 121b)을 지지한다. Z 베이스(123)는 리프터(122)를 수직 방향(Z방향)으로 이동시킨다. X 베이스(124)는 Z 베이스(123) 자체를 길이 방향(X방향)으로 이동시킨다. 캐리어(C)의 두 상측부가 아암(121a 및 121b)에 위치하는 동안, 콘베이어 장치(120)는 제1도에 나타낸 바와 같이 릴레이부(130)로 캐리어(C)를 반송하기 위하여 아암(121a및 121b)에 의해 캐리어(C)의 외측면을 클램프한다.

제2도에 도시된 바와 같이, 릴레이부(130)는 지지 포스트(131)를 통하여 상부 플레이트(132)상에 고정되는 호울더(133) 및 Y방향으로 이동 포스트(134)를 이동시킴으로서 지지되는 호울더(135)를 갖는다. 이동 포스트(134)는 Y방향으로 상부 플레이트(132)에 대하여 이동 가능하다. 각각의 호울더(133및 135)는 캐리어(C)의 저면의 개방 부분을 통하여 통과될 수 있는 형상을 갖는다. 소정의 개수, 예컨대 25개의 아치형의 호울딩 그루우브(136)의 상부표면에 형성된다. 호울딩 그루우브(136)는 실질적으로 수직 방향으로 웨이퍼(W)를 설정하기 위하여 웨이퍼(W)의 주변 부분을 수용한다. 캐리어(C)의 저단부의 코너 부분을 잠그기 위한 네 개의 잠금부재(137)가 지지 포스트(131) 및 이동 포스트(134)의 각 베이스 부분에 인접한 상부 플레이트(132)상에 형성된다.

호울더(133 및 135)에 의해 유지되는 웨이퍼(W)를 즉시 척킹하고 세정부(200)에 이를 반송하기 위한 각 웨이퍼 반송부(140)는 제3도에 도시된 바와 같은 배열을 한다. 보다 상세하게, 웨이퍼 반송부(140)는 웨이퍼 척(142), 호울더(143), 구동기구(144), 및 반송 베이스(145)로 이루어진다(제2도). 웨이퍼 척(142)은 예컨대 50개의 웨이퍼를 한 번에 척킹하는 한 쌍의 좌우 척부재(141b 및 141a)으로 이루어진다. 호울더(143)는 웨이퍼 척(142)의 척 부재를 개폐하기 위한 개폐 기구 및 웨이퍼 척(142)을 전후 방향으로 이동시키기 위한 기구를 갖는다. 구동기구(144)는 호울더(142)를 상하 방향(즉, Z방향)으로 이동시킨다. 구동기구(144)는 호울더(143)를 수직 방향(즉, Z 방향)으로 이동시키며, 전후 방향(즉, Y 방향)으로 이동시킨다. 반송 베이스(145)는 세정부((200)의 길이 방향(X 방향)으로 구동기구(144)를 이동시킨다.

웨이퍼 척(142)의 척 부재(141a 및 141b)는 대칭적이며, 그 회전 축(146a 및 146b)이 자유롭게 개폐된다. 석영으로 만들어진 척 부재(141a 및 141b)의 척 부재의 상단부는 각각 회전 축(146a 및 146b)에 고정된다. 실리카로 만든 상하 척 로드(147a 및 148a) 및 상하 척 로드(147b 및 148b)는 서로에 대해 평행하게 각각의 척 부재(141a 및 141b)의 저단부 부분 사이에 연장된다. 예컨대, 50 개의 척 그루우브(149)는 웨이퍼(W)의 주변부를 수용하기 위하여척 로드(147a, 147b, 148a, 및 148b)의 반대 표면에 형성된다. 회전 축(146a및 146b)이 회전 할 때, 척 부재(141a 및 141b)가 척 로드(147a, 147b, 148a,및 148b)에 의해 웨이퍼(W)를 척킹하고, 이를 수직 방향(Z방향) 및 길이 방향(X방향)의 바람직한 위치로 이를 반송한다.

웨이퍼 반송 장치(140)는 세정부(201a, 201b‥‥‥ 201n) 중에서 웨이퍼를 반송하기 위하여 제공되며, 반송 베이스(145)를 이동시킴으로서 소정의 개수의 웨이퍼를 포함하는 다량을 이동시킬 수 있다. 예컨대 웨이퍼 반송 장치(140a)는 로우더부(100)와 세정부(200)의 제1 단계 세정부(201a) 사이, 및 제1 단계 세정부(201a)와 제2 단계 세정부(201b) 사이의 롯트 유니트 내에서 웨이퍼를 반송한다. 웨이퍼 반송 장치(140b)는 제1 단계 세정부(201a)와 제2 단계 세정부(201b) 사이의 롯트 유니트 내에서 웨이퍼를 반송할 수 있다. 웨이퍼 반송 장치(140n)는 (n-1)-단계 세정 유니트201(n-1)와 n-단계 세정 유니트 201n 및 n-단계 세정 유니트(201n)와 언로우더부(300) 사이의 롯트 유니트에 웨이퍼를 반송할 수 있다.

웨이퍼는 후술하는 제2단계 수조(경계조)를 통하여 인접한 세정 유니트(201) 사이에서 반송될 수 있으며, 소정의 화학조(202) 또는 수조(203, 204 또는 205)로 제공되는 웨이퍼 호울더(212, 제4도 참조)(후술함)로 반송될 수 있다. 수조(203)는 물 세척 또는 화학적 세정에 선택적으로 사용될 수 있다.

세정부(200)가 기재된다. 세정부(200)는 다수의 세정부(201a, 201b‥‥‥201n, 제1 단계 세정부에서 n-단계 세정부, 제1도에 도시함)를 순차적으로 배치함으로서 형성된다. 각 세정부(201)는 예컨대 화학조(202), 제1 단계수조(203) 및 제2단계 수조(204)로 이루어져 있다. 웨이퍼(W)가 화학조에서 화학적으로 세정된 후, 웨이퍼(W)에 부착된 화학적 물질은 제1 단계 및 제2 단계 수조(203 및 204)에서 순수한 물로 세척되며, 웨이퍼(W)는 웨이퍼 반송 장치(140)에 의해 다운스트림 세정 유니트로 반송된다. 더욱이, 순수한 물에 의한 최종 세정을 행하기 위한 최종 수조(205) 및 예컨대 IPA(이소프로필 알코올)에 의해 세정을 행하는 웨이퍼(W)를 건조시키기 위한 건조조(206)가 순차적으로 일련의 세정 작업을 수행하기 위하여 세정부(200)내의 다운 스트림 단면상에 배치된다.

각 세정 유니트에 있어서, 소정의 화학용액이 웨이퍼를 화학적으로 세척하기 위하여, 유기 불순물, 금속 불순물 등과 같이 웨이퍼 표면에 부착된 오염물의 유형에 따라 처리조로 공급된다. 예컨대, 웨이퍼 표면이 유기 물질로 오염될 때, 유기 물질, 소위 SCI세정은 암모니아수 및 과산화수소수의 용액 혼합물에 의해 수행될 수 있다. 천연 산화물막 및 금수고 불순물은 소위HF 용액에 의해 HF 세정으로 제거될 수 있다. 더욱이, 세정 천연 산화물 필름은 염산 및 과산화수소 용액 혼합물에 의해 소위 SC2 세정을 수행함으로서 실리콘에 부착된 금속 분순물을 제거하는 동안 웨이퍼 상에 형성될 수 있다. 과산화수소를 기초로 한 전형적인 세정 방법, 즉 소위 RCA 세정 방법에 관하여, 웨이퍼는 해당 세정 유니트에 의해 SCI세정 HF세정 SC2 세정을 순차적으로 수행함으로서 세척될 수 있다.

본 발명에 기초하여 조립된 세정장치에 사용될 수 있는 전형적인 처리조의 구조는 SCI세정 조부(210)에 의해 제4도 및 5도를 참고로 기재된다.

다른 유형의 화학조 및 수조의 기본적인 구조는 이하에서 기술되는 SCI 세정조와 동일하므로, 그 상세한 내용은 생략한다.

제4도 및 제5도에 도시된 바와 같이, 처리부(210)는 박스형 처리조(211)및 웨이퍼 호울더(212)를 갖는다. 처리조(211)는 고온으로 가열되고, 암모니아수 및 과산화수소수의 용액 혼합물로 이루어지는 SCI 세정 화학약액을 저장한다. 웨이퍼 호울더(212)는 예컨대 50개의 웨이퍼(W)를 수직으로 유지하기 위한 처리조(211)내에 배치된다. 세정 화학약액을 위한 공급포트(214)는 처리조(211)의 저부(213)에 형성된다. 공급포트(214)를 통하여 처리조(211)로 도입되는 세정 용액은 난류를 일으키지 않고 웨이퍼 호울더(212) 및 저부(213)사이에 개입된 정류기(220)에 의해 웨이퍼(W)주위에 균일하게 공급된다.

보다 상세하게, 정류기(220)는 공급포트(214) 위에 배치된 확산 디스크(222) 및 수직으로 나뉘어져 수평으로 배치된 정류 보드(221)로 이루어진다. 다수의 공극(223)이 정류 보드(221)에 형성된다. 공급포트(214)를 통하여 도입되는 화학약액은 확산 디스크(222)의 저면에 부딪히고, 확산 디스크(222)의 주변부를 통하여 정류 보드(221)의 전체 저면에 확산되며, 정류 보드(221)의 공급(223)을 통하여 통과하고, 웨이퍼 호울더(212)에 의해 유지되는 웨이퍼(W) 주위에 공급된다. 따라서, 화학약액 이 전체 웨이퍼(W)를 균일하게 세척하기 위하여 교란을 일으키지 않고 균일한 유속으로 웨이퍼(W)를 둘러싼다. 처리조(211)는 내부조(215) 및 외부조(216)로 이루어진다. 내부조(215)는 처리 용액 내의 웨이퍼(W)의 디핑을 허용하는 웨이퍼 호울더(212)를 저장한다. 외부조(216)는 내부조(215)의 상단부로부터 오버플로우되는 처리 용액을 수용한다. 화학약액 순환 루프(218)는 내부조(215)의 저부(213)에 형성된 고급 포트(214)및 외부조(216)의 저부에 형성된 방출포트(217)사이에 연결된다. 순환 펌프P, 댐퍼D, 가열기H, 필터F가 화학약액 용액 순환 루프(218)에 연결된다. 내부조(215)로 부터 외부조(216)로 오버플로우되는 화학약액은 순환 펌프P, 댐퍼D, 가열기H, 필터F를 통하여 세척되며, 내부조(215)로 순환된다.

개폐가능한 커버(240)는 처리조(211)의 상부 개구부에 부착된다. 커버(240)이 폐쇄될 때, 처리 중에 기화되는 처리 용액이 확산되는 것을 방지 할 수 있으며, 오염 물질 및 분진은 밖으로부터 세정조부(210)로 혼합되는 것을 방지할 수 있다.

세정부(200)는 상기 배열을 갖는다. 언로우더부(300)가 캐리어(C)를 세척하고, 세정장치 밖으로 반출시키기는 웨이퍼(W) 반송을 위한 세정부(200)의 다운스트림에 제공된다. 언로우더부(300)의 기본적인 배열 및 처리된 웨이퍼(W)는 반대 순서로 로우더부(100)에 의해 수행되는 단계를 수행함으로서 세정장치 밖으로 반출될 수 있다. 따라서, 언로우더부(300)의 기본 배열의 상세한 설명은 생략한다. 즉, 로우더(100)가 반대 방향으로 구동되는 경우, 세정장치의 밖으로 처리된 웨이퍼(W)를 반송하기 위한 언로우더로서 기능할수 있다. 이러한 경우, 언로우더부(300)는 생략될 수 있다.

이하에서 상기 배열을 가지는 세정장치(1)의 조작을 기술한다.

각각 25개의 미처리된 웨이퍼(W)를 저장하는 캐리어(C1 및 C2)가 반송로봇(도시하지 않음)에 의해 로우더부(100, 제1도에 도시)의 스테이션(112, 제2도에 도시)의 로우딩 위치에 위치한다.

이동기구(115)는 순차적으로 캐리어(Cl 및 C2)를 클램프하며, 순차적으로 평배향 얼라인먼트를 수행하는 동안 스테이션(112)의 반송 위치에 이동시킨다. 콘베이어 장치(120)의 아암(121a 및 121b)은 반송 위치에서 캐리어(Cl및 C2)를 동시에 클램프하며, Z 베이스(123)가 X 방향으로 릴레이부(130)로 이동되며, 릴레이부(130)의 호울더(133 및 135)는 Z 방향으로 위쪽으로 이동하며, 캐리어(Cl 및 C2)내의 웨이퍼(W)는 호울더(133 및 135)로 반송된다.

제1도에 도시된 웨이퍼 반송 장치(140a)는 제3도에 도시된 웨이퍼 척(142)에 의해 롯트 유니트내에서 얼라인된 웨이퍼(W)를 클램프하기 위하여 릴레이부(130)로 이동하며, 제1 단계 세정 유니트(201a)의 SCI세정조(202a)로 웨이퍼(W)를 반송하며, 제4도에 도시된 처리조(211)의 처리용액 내에서 앞쪽으로 제공되는 웨이퍼 호울더(212)로 롯트 유니트 내에 이를 전달한다.

소정의 SCI세정이 웨이퍼 (W)에 행해진 후, 웨이퍼(W)는 웨이퍼 척(142)에 의해 처리조(211)로부터 제거되며, 제1 단계 수조(203a)내에 제공된 웨이퍼 호울더(212)에 전달되어 순수한 물에 의해 제1단계 세정이 행해진다. 그 후, 순수한 물에 의해 세척된 웨이퍼(W)는 제2 단계 수조(204a)로 보내지며, 순수한 물에 의해 유사한 방식으로 제2 단계 세정을 행한다. 웨이퍼(W)에 부착한 화학약액은 완전히 세척된다. 제1 단계 수조(204a)도 경계조라 할 수 있으며, 상기 화학적 세정 유니트 및 다른 유형의 화학약액에 의해 세척하는 세정 유니트 사이에 배치되고, 두 가지 화학약액이 혼합되는 것을 방지하기 위한 버퍼 작용을 한다. 제1도에 도시한 경우와 같이, 화학적 세정조(202a)내에서 SCI세정을 행하는 웨이퍼(W)가 물로 세척되며, 후속단계의 제2 단계 수조(201a)에 의해 HF 세정을 위한 경계조로서 역할을 하는 제2 단계 세정 유니트(204a)내에서 요구되는 준비 상태로 설정된다.

웨이퍼(W)는 제2단계 세정 유니트(201b)를 커버하는 제2단계 웨이퍼반송장치(140b)에 의해 제1 단계 세정 유니트(201a)의 제2 단계 수조(204a)로부터 제거되며, HF세정을 위한 제2 단계 세정 유니트(201b)의 HF화학조(202b)로 반송된다. 소정의 화학적 처리 후, 웨이퍼(W)는 제1 단계 수조(203b)에서 제1단계 세정이 행해지며, 제2경계조에서의 후속 세정 작업을 기다린다. SC2세정 및 다른 필요한 세정 조작이 상기와 같은 동일한 반복 단계에 의해 수행된다. 계속하여, 웨이퍼(W)그 n-단계 웨이퍼 반송장치(140)에 의해 최종 수조(205)로 보내지고, 순수한 물에 의해 최종 물세척을 행하며, 예컨대 IPA에 의해 증발 건조되는 건조조(206)로 보내진다. 건조된 웨이퍼는 언로우더부(300)를 통하여 장치 밖으로 반출된다.

본 발명에 사용될 수 있는 세정 장치(1)에 의해 특정한 웨이퍼를 세정하는 단계는 상기에서 기술한 바 있다. 일반적으로, 상기와 같은 처리 단계는 처리 방법 설정 및 콘트롤러(260)에서의 입력 사항에 따라 수행된다. 콘트롤러(260)는 제1도에 도시된 바와 같이, 예컨대 키보드 및 마우스와 같은 작동 디스플레이(261) 및 입력 유니트(262)를 가지는 워크스테이션 또는 퍼스널 컴퓨터로 이루어지며, CPU, ROM, RAM, 키보드, 디스플레이, 하드 디스크(HD), 플로피 디스크 등을 가지는 마스터 유니트와 같은 하드웨어 구조물을 갖는다(제7도에 도시). 제7도에 도시된 종속 유니트는 제1도에 도시된 세정 장치 내에 결합된 다양한 장치에 각각 부착된다. 조작자가 조작 화면에 따라 콘트롤러(260)에 소정의 지시를 입력하면, 콘트롤러(260)는 수동 또는 자동으로 세정 장치를 제어할 수 있다.

제8도 내지 제10도는 본 발명에 사용될 수 있는 화면 제어 시스템의 계층인 시스템을 나타낸다. 제8도에 도시된 바와 같이, 메인 메뉴는 일반 조작자 메뉴와 특수 조작자 메뉴, 예컨대 엔지니어용 메뉴로 나뉘어진다. 일반조작자 메뉴는 제9도에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 플로우 개시, 시스템 정보, 각 처리조를 초기화하는 명령을 포함하는 준비 처리, 반송 시스템을 초기화하는 명령을 포함하는 초기화 시스템, 처리 완결 메뉴, 및 취출 처리를 포함한다. 엔지니어용 메뉴(특수 조작자 메뉴)는 제10도에 도시된 바와 같이 레서피 형성, 메인터넌스 및 서비스를 포함한다.

레서피 형성에 있어서, 웨이퍼 플로우 레서피, 시스템 파라미터, 고정 파라미터, 및 처리조 파라미터가 선택된다. 메인터넌스 단계에서, 티칭 콘트롤, 센서 스테이터스, 및 알람 로깅이 선택될 수 있다.

본 발명에 따라, 전력 공급 후, 일반 조작자 메뉴만이 제11도에 도시된 바와 같이 디스플레이된다. 엔지니어용 메뉴가 디스플레이되기 위하여, 제23도에 도시된 바와 같이, 패스워드 설정 화면이 디스플레이된 후, 패스워드를 알고 있는 조작자만이 키보드를 통해 패스워드 설정 화면에 입력시킬 수 있다. CPU가 입력된 패스워드를 등록된 패스워드와 비교한다. 입력 패스워드가 등록 패스워드와 일치할 때만이 제23(b)도에 도시된 바와 같은 메인 메뉴가 디스플레이 된다.

상기 메뉴 정보는 마스터 유니트의 하드 디스크에 저장되며, 디스플레이에 디스플레이되는 데 필요하게 판독된다.

일반 조작자가 상기 배열을 가지는 화면 콘트롤 시스템에 기초하여 일반적인 세정조작을 행하는 경우에 관하여 설명한다.

일반 조작자가 전원을 공급한 경우, 제11도에 도시된 바와 같이, 메인메뉴는 웨이퍼 플로우 개시, 시스템 정보, 준비 처리, 시스템 초기화, 처리완결, 취출 처리를 포함하며, 특수 정보를 알지 못하는 일반 조작자에 의해 하드 디스크로부터 호출될 수 있고, 조작자 디스플레이(261)에 디스플레이 된다. 일반 조작자가 제11도에 도시된 바와 같은 이러한 메인 메뉴 내에서 시스템 초기화 메뉴를 선택하는 경우, 마스터 유니트는 세정 장치 내에 웨이퍼가 있는지에 관해 종속 유니트에 문의한다. 조작자가 메뉴로부터 웨이퍼의 존재를 확인하는 경우, 콘트롤러(260)가 장치의 반송 시스템, 예컨대 로우더(100)의 콘베이어 장치(120), 각 세정부(201)의 웨이퍼 반송장치(140)등을 초기 위치에 저장하여 세정장치의 각 유니트를 제어하여, 새로운 롯트를 수용할 수 있다.

그 후, 조작자가 제12도에 도시된 바와 같이, 준비 상태를 선택하는 경우, 제13도에 도시된 바와 같이, 처리 테이블이 터스플레이 된다. 콘트롤러(260)가 각 처리조에서 소정의 화학약액 또는 순수한 물을 주입/교환하고, 소정 온도로 화학약액 또는 순수한 물을 조정함으로써 준비 상태로 전체 세정 장치를 설정하여 세정이 언제라도 실시될 수 있게 한다.

상기한 바와 같이, 이러한 실시예에 있어서, 웨이퍼 플로우 개시는 시스템개시 및 준비 처리가 실행된 후에만 제14도에 도시된 바와 같이, 선택될 수 있다. 이러한 실시예에 있어서, 웨이퍼 플로우 개시에 관한 입력이 실행되거나 *표시로 구별되지 않으며, *표시는 각 처리 조작을 실행할 때 삭제된다. 웨이퍼 플로우 개시는 이러한 방식으로 선택되며, 웨이퍼의 롯트(ID)및 각 처리 레서피가 제15도에 도시된 화면상에서 확인된다. 그 후, 롯트개시 키를 터치할 때, 상기와 같은 일반 조작자는 자동 모드에서 시작된다. 일련의 세정 조작이 완결된 후, 처리된 롯트는 반송 로봇에 의해 장치 밖으로 언로우더부(300)로부터 자동적으로 반출된다.

세정 장치(1)을 정지시키기 위하여, 처리의 완료가 제16도에 도시된 바와 같이 선택된다. 필요한 경우, 각 처리조 내에 화학약액 및 순수한 물이 배치되거나 방출되고 그 후 세정 장치(1)가 정지된다.

제17도에 도시된 바와 같이, 일반 조작자 메뉴의 시스템 정보는 예컨대 세정 장치(1), 처리 레서피, 롯트 정보 등을 화면에 포함하는 화학조 및 수조의 각 유니트에 관한 것이며, 이들 정보를 확인하는 디스플레이 정보로 사용된다. 이러한 장치 정보 메뉴는 세정 장치에 의해 고정적으로 디스플레이되는 고정 정보, 및 세정장치의 아이템 정보들 중에서 사용자에 의해 선택될 수 있는 사용자 정보로 이루어질 수 있다.

고정 정보는 다음과 같은 요소들로 이루어진다;

전력이 공급된 후 경과된 시간을 나타내는 "전체 시간";

웨이퍼 플로우 시간을 나타내는 "제조 시간";

전력 공급 후 웨이퍼 플로우가 수행되는 동안 제조 시간/전체 시간의 시간 비율을 나타내는 "제조 능력";

장치의 이름을 나타내는 "장치 명칭";

시스템 정보의 디스플레이 모드를 나타내는 "디스플레이 모드";

웨이퍼의 존재/부재 및 현재 아암의 위치를 나타내는 "아암 정보";

세정장치를 구성하는 예컨대 처리조와 같은 각 유니트의 이름을 나타내는 유니트 명칭 ";

현재 수행하고 있는 유니트, 예컨대, 세정, 물 세정등과 같은 처리를 나타내는 "처리 정보";

유니트 내에 존재하는 롯트의 웨이퍼 플로우 수를 나타내는 "웨이퍼 플로우 수", 및

유니트 내에 존재하는 롯트의 ID를 나타내는 "롯트 ID".

사용자 다음과 같은 요소들로 이루어진다;

예컨대, 세정, 침지, 및 건조와 같은 처리의 잔여 시간을 나타내는 "처리 시간";

예컨대, 세정, 침지, 및 건조와 같은 처리에 대하여 설정된 시간을 나타내는 "설정 처리 시간";

화학조의 측정된 처리조 온도 및 수조의 측정된 비내성을 나타내는 "측정된 온도/내성 ";

화학조의 설정된 처리조 온도 및 수조의 설정된 비내성을 나타내는 "설정된 온도/내성 ";

화학약액의 측정된 DIW 탱크 온도를 나타내는 "측정된 탱크 온도";

화학약액의 설정된 DIW 탱크 온도를 나타내는 "설정된 탱크 온도";

화학약액 또는 IPA의 교환 시간 간격을 나타내는 "교환 시간";

화학약액 또는 IPA의 설정 교환 시간 간격을 나타내는 "설정 교환 시간";

화학약액 또는 IPA의 교환후 경과된 시간을 나타내는 "경과 시간";

화학약액 또는 IPA의 교환후 경과된 회수를 나타내는 "경과 회수";

화학약액의 교환과 롯트 로딩 사이의 대기 시간을 나타내는 "WAIT 시간";

화학약액의 공급 시간 간격을 나타내는 "화학약액 공급 시간";

화학약액의 설정된 공급 시간 간격을 나타내는 "설정 화학약액 공급 시간";

화학약액의 주기적인 공급 회수를 나타내는 "화학약액 공급 회수";

화학약액의 설정된 주기적인 공급 회수를 나타내는 "설정된 화학약액 공급 회수";

과산화수소수 공급의 주기적인 시간을 나타내는 "과산화수소수 공급 시간";

설정된 과산화수소수 공급의 주기적인 시간을 나타내는 "설정된 과산화수소수 공급 시간";

과산화수소수 공급의 주기적인 회수를 나타내는 "과산화수소수 공급 회수";

설정된 과산화수소수 공급의 주기적인 회수를 나타내는 "설정된 과산화수소수 공급 시간";

순수한 물 공급의 주기적인 시간을 나타내는 "순수한 물 공급 시간";

설정된 순수한 물 공급의 주기적인 시간을 나타내는 "설정된 순수한 물 공급 시간"; 및

순수한 물 공급의 주기적인 회수를 나타내는 "순수한 물 공급 회수";

설정된 순수한 물 공급의 주기적인 회수를 나타내는 "설정된 순수한 물 공급 회수".

제18도 및 제19도는 전형적인 시스템 정보를 나타낸다. 제18도 및 제19도에 도시된 바와 같이, 본 발명에 기초하여 형성된 시스템 정보는 고정 정보 및 사용자 정보를 디스플레이한다. 보다 상세하게, 전체 시간, 제조 시간, 제조 능력, 장치 명칭 및 디스플레이 모드를 포함하는 특성 스트링, 및 알람 정보, 유니트 명칭, 처리 정보, 웨이퍼 플로우 및 롯트 ID를 포함하는 테이블로 이루어진 고정 정보가 화면의 상반부에 디스플레이된다. 이러한 고정 정보는 제18도 및 제19도에 도시된 바와 같이 시스템 정보가 디스플레이될 때, 디스플레이 모드 및 디스플레이 화면에 관계없이 언제나 디스플레이 된다.

처리 시간, 설정된 처리 시간, 교환 시간, 및 설정된 교환 시간으로 이루어진 사용자 정보는 제18도에 도시된 바와 같은 화면의 하반부에서 디스플레이되며, 경과 시간 및 경과 회수로 이루어진 사용자 정보는 제19도에 도시된 바와 같은 화면의 하단부에 디스플레이된다. 제20도에 있어서, 처리 시간, 설정된 처리 시간, 교환 시간, 및 설정된 교환 시간이 첫 번째 디스플레이에서 디스플레이되는 아이템으로서 선택되고, 두 번째 디스플레이에서 디스플레이되는 아이템으로서 경과 시간 및 경과 회수가 디스플레이된다. 따라서, 디스플레이는 바람직한 아이템이 제1디스플레이에 해당하는 제18도 및 제2 디스플레이에 해당하는 제19도에 도시된 화면상에 디스플레이될 수 있다.

상기한 바와 같이, 본 발명에 따라, 고정 정보에 부가하여, 사용자 정보는 사용자의 독단적인 선택시 디스플레이된다. 따라서, 적정한 시스템 정보가 처리 조건, 처리 환경, 및 조작자의 타입에 따라 형성될 수 있다.

선택된 사용자 정보가 제18도 및 제19도에 도시된 바와 같이 2이상의 프레임 사이즈를 가질 때, 예컨대 실시간은 디스플레이 모드로서 선택되며, 사용자 정보가 각 프레임에 대하여 매 30초마다 순차적으로 디스플레이되어, 조작자의 주의를 끌게 된다. 선택적으로는 고정 디스플레이가 디스플레이 모드로 선택되는 경우, 높은 우위를 가지는 자의 확인이 필요한 정보가 항상 디스플레이될 수 있으며, 디스플레이 스위치 키를 조작하는 경우 두 번째 높은 우위를 가지는 자의 확인을 필요로 하는 정보가 디스플레이 될 수 있다.

본 발명에 따라, 임의의 프레임은 최소의 필요한 정보를 확인하는 고정정보를 디스플레이 한다. 따라서, 조작자는 항상 최소한의 필요한 정보를 획인 할 수 있다. 제21도와 같은 취출 처리 메뉴는 일반 조작자 메뉴에서 준비된다. 취출 처리는 처리 중에 장치의 임의의 처리조에서 문제가 일어날때 필요하며, 수조의 다운 스트림으로 문제가 발생하는 경우 처리조로부터 웨이퍼를 강제로 취출하고, 제22도에 도시한 바와 같이 화면을 사용하며, 최종 세정 및/또는 건조 후에 웨이퍼와 같은 강제로 반출되지 않게 하는 지시를 발생하는 데 사용된다.

이제까지 설정된 처리 플로우에 의해 세정을 수행하는 데 사용되는 일반조작자 메뉴가 개략적으로 기술되었다. 세정 장치 내에 설정된 처리 플로우를 새로이 설정하고 정정하기 위하여, 메인 메뉴 내에 전력이 공급되고 패스워드 입력 화면이 제23도에서와 같이 디스플레이된 후, 제1 패스워드가 시스템에 입력된다. 입력 패스워드가 등록된 패스워드와 일치하는 경우, 제23(b)도에 도시된 바와 같은 메인 메뉴가 디스플레이된다. 또한, 제25도에 도시된 바와 같이 웨이퍼 플로우 레서피가 디스플레이되는 경우 제2패스워드가 제23(a)도에 도시된 메인 메뉴가 디스플레이된다. 즉, 본 발명에 따라, 특정 파라미터를 설정하고 변경하기 위해 사용되는 메뉴를 호출되게 하는 패스워드는 이러한 파라미터에 관하여 다른 지식을 가지는 조작자에게만 알려진다. 따라서, 엔지니어용 메뉴를 호출할 수 있는 조작자가 해당메뉴에 관한 충분한 지식을 가지는 것으로 더 식별되어, 문제의 파라미터가 보호된다.

이러한 방식으로 이러한 실시예에 있어서, 조작될 특수 정보를 필요로 하는 메뉴에는 패스워드가 요구된다. 따라서, 이러한 메뉴를 가지는 특수 지식을 가지는 특별 조작자(엔지니어)가 불필요하고, 부주의하며, 무의식적인 호출을 방지하기 위하여 이러한 메뉴의 특별 지식을 가지지 않는 일반 조작자와 구별되게 하여, 시스템의 다양한 조작이 변경 또는 왜곡되지 않게 한다.

보다 상세하게, 제8도 내지 제10도에 도시된 바와 같이, 레서피 형성 화면을 디스플레이하기 위하여,패스워드가 입력되어야 한다. 패스워드를 아는사람, 즉 레서피를 형성/변경하는데 필요한 지식을 가진 사람만이 웨이퍼 플로우 레서피, 시스템 파라미터, 고정 파라미터, 처리조 파라미터를 디스플레이할 수 있다. 이러한 메뉴에 포함된 내용은 불필요하게 또는 부주의하게 변경되지 않아야 한다. 따라서, 경우에 따라, 다양한 패스워드가 상이한 메뉴에 대하여 설정될 수 있으며(제10도에 도시), 해당 메뉴는 보호될 수 있다.

이러한 방식으로 호출되는 제25도에 도시된 웨이퍼 플로우 레서피는 일반 조작자 메뉴의 플로우 개시에 의해 처리를 수행하는 데 필요한 처리 플로우, 즉 처리 레서피가 기록되는 파일을 만드는 데 필요하다. 이러한 실시예에 있어, 40개의 파일이 다루어 질 수 있다.

제25도에 도시된 화면에 있어서, 특정 파일이 지정되고 "1. 창출, 편집"이 선택되는 경우, 각 처리 유니트 및 해당 처리 조작을 나타내는 제26도에 도시된 테이블이 디스플레이 된다. 각 파라미터에 있어서, 처리 조건이 설정되고 처리 레서피에 다른 상세한 지시가 필요하지 않은 경우, 테이블을 완결하기 위해 처리 레서피의 수치가 입력된다.

테이블에 각 처리 유니트에 관한 처리 레서피가 창설 또는 편집되는 경우, "레서피 편집" 키가 제27도에 도시된 바와 같이 등록된 처리 레서피의 리스트를 디스플레이하게 할 수 있다. 형성/정정을 실행하는 처리 레서피가 선택되는 경우, 제28도에 도시된 바와 같은 레서피 편집 화면이 디스플레이 될 수 있다. 하기의 설명에서와 같이, 레서피 편집 화면을 처리하는 방법은 순수한 물에 의해 세정을 행하는 제1 단계 세정조에 관하여 레서피 편집에 의해 기재된다.

제28도에 있어서, 제1 단계 수조에 관한 정보가 처리 플로우를 따라 시간 차트의 형태로 형성된다. 제28도에 도시된 예에 있어서, 제1 단계 수조에 관한 정보에 무관하게, 제4도 내지 제6도에 도시한 바와 같이, 공급포트(214)를 통하여 처리조(211)로 순수한 물을 공급하는 처리 플로우를 나타내는 <순수한 물 공급>, 웨이퍼 방출 밸브V를 통하여 물을 방출하는 <물 방출>, 및 스프링클러 파이프(230)에 의해 물을 살포하는 <물 살포>의 각 아이템에 관한 것은 시간 차트 및 도시된 도면의 형태로 일련의 시간으로 나타낸다. 파라미터, 예컨대 이러한 실시예에 있어서 처리시간을 이러한 정보에 근접하여 나타낸다.

보다 상세하게, 제28도에 있어서, (1) 순수한 물이 30초 동안 처리조에 공급된 후, 물을 로드한다. (2) 순수한 물을 60초 동안 공금 한 후, (7) 물을 배출하고, (9) 동시에 물을 살포한다. 물을 10 초 동안 방출 할 때, 세정 사이클이 개시된다. 물이 살포되는 동안 순수한 물이 다시 공급된다. 물의 살포는 개시 30 초후에 중단한다. 또한, 순수한 물을 2100초 동안 공급하고,(10) 물 방출 완료 시에 세정 사이클이 완료되며, 물의 살포가 세 번 행해진다. 그 후, 웨이퍼가 언로우드 되고, 물의 살포가 행해진다. 이러한 방식으로, 매우 복잡한 처리 공정이 시간 순서에 맞추어 시간 차트 형태로 나타나기 때문에 처리 스테이터스를 한 눈에 볼 수 있다. 따라서, 조작자가 높은 정도의 특수 지식을 가지지 않는다 하더라도 디스플레이되는 시간 차트만 따라 하면 처리 상태를 이해할 수 있고, 따라서, 처리 레서피가 용이하게 설정/정정될 수 있다. 또한, 처리의 진행을 한 눈에 볼 수 있기 때문에 수많은 입력 데이터가 처리 레서피를 설정/정정하는 동안 최소화될 수 있다.

또한, 본 발명에 따라, 커서가 시간 순서대로 배열되는 정보에 가깝게, 즉, 제28도의 예에서 볼 수 있는 바와 같이, 그림(1)의 부분으로 이동하는 경우, 이러한 정보에 관한 처리 시간 파라미터가 설정 또는 변경될 수 있어, 처리가 용이하게 수행되며, 따라서 조작능이 개선된다. 이러한 경우, 파라미터에 관한 정보, 즉 제28도의 예에서 현재 변경되는 파라미터가 확인 과정을 수행하면서 편집될 수 있어, 입력 에러가 최소화된다. 제28도의 예에 있어서, 모든 처리 레서피가 하나의 디스플레이에서 디스플레이되기 때문에 처리 상태를 한눈에 쉽게 볼 수 있어 조작능이 더 개선된다.

상기한 바와 같이, 바람직한 세정은 일반 조작자 화면의 웨이퍼 개시 화면으로부터 시간 흐름 테이블의 형태를 가지는 화면에 편집된다.

레서피 형성 메뉴는 제8도 내지 제10도를 참고로 하여 설명된다. 시스템 파라미터 화면에 있어서, 각 처리조 및 수조의 온도, 알람이 발생해야 하는 알람 온도 등과 같은 파라미터가 설정되어야 한다. 고정된 파라미터 화면에 있어서, 각 처리조 내에서의 액체 교환, 공급 조건 등과 같은 파라미터가 설정되어야 한다. 이러한 방식으로, 파라미터 및 웨이퍼 플로우 레서피에의해 설정된 처리 레서피에 기초하여 적정한 세정이 수행된다.

이하에서, 제8도 내지 제10도에 도시된 메인터넌스 메뉴에 대해 기재한다. 메인터넌스는 티칭 콘트롤, 센서 스테이터스 및 알람 로깅을 포함한다.

이러한 아이템들 중에서, 티칭 콘트롤은 반송 시스템, 즉 웨이퍼 반송장치(140), 로우더부(100), 언로우더부(300), 콘베이어 장치(120)등과 같은 시스템의 위치 조정을 수행하는 화면을 디스플레이하며, 이는 초기 위치 설정 및 장치의 조작에 정교한 조작이 필요한 경우 디스플레이된다. 이러한 센서 스테이터스는 세정장치의 각 부분에 제공되며, 필요한 경우, 센서의 스테이터스를 조정할 때 필요하다. 이러한 실시예의 세정 장치에 있어서, 장치에서 발생하는 알람 시간, 코드 스테이터스 등과 같은 정보들이 기록된다. 이러한 정보는 알람 로깅에 디스플레이되며, 메인터넌스를 수행할 때 참고로 된다.

이하에서 제8도 내지 10도에 도시된 서비스 화면을 설명한다. 서비스화면은 정지상태 화면 설정, 패스워드 설정 및 시간 설정을 포함한다. 이러한 실시예의 세정장치는 키 조작이 소정 시간을 초과하여 행해지지 않는 경우 지정된 화면을 자동적으로 디스플레이하는 기능을 갖는다. 정지상태 화면 설정에 있어서, 조작자가 디스플레이를 원하는 아이템이 제29도에 도시된 정지상태에서 설정될 수 있다. 전술한 바와 같이, 엔지니어용 메뉴 및 레서피 형성은 부주의한 조작자로부터 패스워드에 의해 보호된다. 이러한 패스워드가 변경될 필요가 있을 때, 패스워드 설정 화면상에서 변경될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 시스템은 시간 설정 화면을 갖는다. 이는 필요한 경우 장치 내에 부착된 시계에서 변경을 허용한다.

특수 조작자 메뉴, 레서피 형성 및 서비스는 일반적으로 특수 지식을 가지는 특수 조작자에 의해 수동으로 조작된다. 그러나, 특수 조작자가 어떠한 이유로 조작을 완료하기 전에 이탈하는 경우, 특수 조작자와는 다른 사람에 의해 원칙적으로 호출되지 않는 아이템이 제3자에게 무방비하게 노출 될 것이며, 경우에 따라, 처리 레서피 등이 바람직하지 못하게 변경되거나 왜곡될 수 있다. 이러한 이유로, 본 발명에 있어서는 상기와 같은 정지상태 화면이 준비된다. 보다 상세하게, 제29도에 도시된 정지상태 화면에 있어서, 일반 조작자 메뉴, 예컨대 웨이퍼 플로우 개시, 시스템 정보, 준비 처리, 장치 초기화 또는 처리 완료가 제29도에 도시된 바와 같은 정지상태 화면으로서 먼저 선택되는 경우, 소정의 시간 예컨대 50 초를 초과하지 않고 특수조작자 메뉴에서 키 입력이 이루어지는 경우, 현재 화면은 자동적으로 정지상태 화면으로 되돌아간다. 따라서, 특수 조작자가 아닌 제3 자가 특수 조작자 메뉴를 호출할 가능성이 최소화되고, 따라서 시스템의 안전성이 보장된다.

세정장치(1)를 구동하기 위한 콘트롤 시스템과 조작자 사이의 접점은 상기한 바와 같은 방식으로 형성되며, 조작자가 콘트롤러(260)의 조작자 디스플레이(261)상에 디스플레이되는 다양한 유형의 메뉴를 기초로 하여 소정의 처리 플로우를 지정할 때 다양한 보드로 구동될 수 있다. 이러한 경우, 본 발명에 따라 특수 조작자 메뉴는 정지상태 화면 저장 모드에 의해 보호되어, 일반 조작자에 의해 호출될 수 없으며, 시스템의 안전성을 보장할 수 있다. 부가적으로, 시스템의 정보는 사용자의 선택에 따라 적정한 방식으로 형성될 수 있어 조작 성능이 개선된다.

상기와 같은 실시예에 있어서, 각각이 하나의 화학조 및 두 개의 수조를 포함하는 세정 유니트의 조합을 갖는 세정장치를 기재한다. 그러나, 본 발명을 이러한 예로 제한하는 것은 아니며, 예컨대 동일한 유형의 화학약액에 의해 처리하는 다수의 화학조, 하나의 수조만을 포함하는 세정 유니트 등과 같은 다양한 유형의 처리조의 조합을 갖는 세정 장치로 응용될 수 있다.

상기 기재에 있어, 본 발명의 실시 형태는 반도체 웨이퍼 세정 장치에 의해 설명되었다. 그러나, 본 발명을 여기에 한정하는 것은 아니고, 예컨대, LCD 물질 및 다른 성분 및 부재를 세정하는 세정 장치에 응용될 수 있다.

또한, 본 발명은 세정 장치에 한정되는 것은 아니며, 예컨대 에칭 장치 및 필름 형성 장치와 같은 다양한 유형의 처리장치를 콘트롤하는 데 사용되는 조작자 디스플레이에 응용될 수 있고, 이는 본 발명의 처리 플로우에 따라, 예컨대 반도체 웨이퍼 또는 LCD 기질과 같은 처리될 피처리체에 다수의 단계로 이루어지는 소정의 처리 조작을 수행한다. 또한, 이러한 경우, 시스템의 안전성은 일반 조작자와 특수 지식을 가지는 특수 조작자를 구별하게 함으로써 보장된다.

자주 호출되는 화면, 즉 세정 플로우의 개시를 지시하는 세정 웨이퍼 플로우 개시 화면, 각 장치의 초기화를 지시하는 시스템 초기화 화면, 지시를 만들어 각 처리조가 처리될 피처리체를 받아들이게 하는 준비 처리 화면, 및 처리의 완료를 지시하는 처리 완료 화면과 같은 화면; 또는 정지상태 화면과 같이 제3 자에 의해 쉽게 호출되지 않는 화면이 설정되는 경우, 조작능이 개선되고 시스템의 안전성이 개선될 수 있다. 세정장치 등에 관한 다양한 정보를 디스플레이하는 시스템 정보 화면이 조작 메뉴로서 사용될 경우, 조작자는 필요한 경우 장치의 스테이터스를 확인할 수 있다. 이러한 경우, 시스템 정보가 처리장치에 의해 고정적으로 디스플레이되는 고정 정보 및 처리장치의 아이템 정보로부터 미리 사용자에 의해 선택된 아이템을 가지는 사용자 정보로 이루어지는 경우, 가변 장치 정보 화면이 처리 환경 및 조작자에 따라 형성될 수 있다. 이러한 시스템 정보가 정지상태로서 사용되는 경우, 시스템의 안전성이 보장될 수 있으며, 장치의 스테이터스가 한 눈에 볼 수 있어 조작능이 향상된다.

일반 조작자 화면, 특히 상술한 시스템 정보가 하나의 디스플레이에 디스플레이되는 경우 쉽게 육안으로 인식할 수 있어, 조작능이 향상된다. 이들 정지상태 화면이 2이상의 디스플레이를 커버하는 경우, 한눈에 인식할 수 있어 조작능이 향상된다.

또한, 본 발명에 따라, 세정장치의 각 처리조, 예컨대 처리 레서피와 같은 처리조에 관한 정보가 본 발명에 따른 처리 플로우에 따라 시간에 대한 테이블로 형성되며, 처리 레서피 테이블이 조작자 화면상에 디스플레이된다.

또한, 각 정보에 근접하여 처리 레서피 테이블의 각 정보에 해당하는 파라미터가 디스플레이되어, 이러한 파라미터가 화면상에 설정/정정될 수 있다.

따라서, 고도의 특수 지식을 가지지 않는 조작자라 하더라도 입력 에러를 최소화하면서 시간 순서 테이블로 형성된 정보에 의해 필요한 파라미터를 설정/정정함으로써 시스템을 용이하게 조작할 수 있다. 따라서, 사용자에게 친숙한 처리 레서피 설정/정정 환경이 이루어질 수 있다.

조작자의 조작에 관하여, 시스템이 예컨대 키보드 또는 마우스와 같은 경계 장치를 통하여 시간 순서대로 조작자 화면상에 배열되는 정보에 근접한 부분 등 또는 커서에 의해 포인터를 지정함으로써 특정 정보에 해당하는 파라미터를 설정/변경할 수 있도록 형성되는 경우, 조작능이 향상된다.

시스템이 이러한 방식으로 형성되는 경우, 포인터 지정이 행해지는 경우, 포인터에 의해 나타난 정보에 해당하는 파라미터에 관한 정보가 디스플레이에 동시에 자동적으로 디스플레이되고, 조작자가 고도의 특수 지식을 가지지 않는 경우에도 입력 에러를 최소화하면서 시스템을 조작할 수 있다.

이상에서 본 발명을 바람직한 실시예를 중심으로 상세히 기재하였으나, 이러한 실시예에 기재된 사항들이 본 발명의 범주를 제한하는 것은 아니며, 본 발명의 범주 내에서 다양한 변형 및 응용이 가능하다.

Claims

처리될 피처리체 및 처리된 피처리체를 반송하기 위한 반송부, 처리될 피처리체를 처리하기 위한 최소한 하나 이상의 처리 유니트 및 마스터콤퓨터와 결합하여 상기 반송부와 상기 처리 유니트를 제어하기 위한 슬레이브콤퓨터를 가지는 처리장치의 처리 과정을 디스플레이하는 마스터콤퓨터의 디스플레이를 제어하는 모니터 제어 방법으로서, 다수의 처리 아이템을 가지며, 일반 처리 과정에 따라 처리를 행하는 일반 조작자와, 상기 처리장치의 조절을 담당하는 특수 조작자에 관하여 각각 다수의 처리 메뉴를 준비하는 단계, 상기 마스터콤퓨터에 동력이 공급될 때, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴만이 디스플레이 되는 단계, 특수 조작자에 의해 패스워드가 입력될 때만 특수 조작자에 대한 처리 메뉴가 디스플레이 되는 단계, 및 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 아이템을 선택할때, 상기 슬레이브콤퓨터에 의해 보내지고 수행되는 선택된 처리 아이템에 상응하는 처리 정보를 디스플레이하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제1항에 있어서, 일반 조작자에 관한 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 웨이퍼 세정플로우의 시작을 지시하기 위한 최소한 하나 이상의 웨이퍼 플로우 시작 화면, 각 장치의 초기화를 지시하기 위한 시스템 초기화 화면, 처리될 피처리체를 수용할 수 있는 상태에서 설정될 각 처리조를 지시하기 위한 처리 준비 완료 처리 화면, 및 처리의 완료를 지시하기 위한 처리 완료 화면을 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제1항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 처리장치에 의해 고정적으로 디스플레이되는 고정 정보 및 처리장치의 아이템 정보로부터 사용자에 의해 먼저 선택된 아이템으로 이루어지는 사용자 정보를 포함하는 처리 메뉴를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제1항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 키 조작이 소정의 시간을 초과하여 수행되지 않은 경우, 정지상태를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제1항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가 하나의 디스플레이에 있어 하나의 정지상태를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제1항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 다수의 디스플레이에 있어 다수의 처리 정보 아이템을 디스플레이하고, 소정의 시간을 주기로 하여 처리 정보 아이템을 스위치 하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어 방법.
제1항에 있어서, 특수 조작자가 특수 조작에 관한 처리메뉴에 해당하는 처리정보를 변경시킬 수 있게 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터제어 방법.
제1항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계 및 특수 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이이 하는 단계가 순차적으로 디스플레이하는 단계 및 다수의 계층적인 처리 메뉴를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터제어 방법.
제8항에 있어서, 특수 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 패스워드에 따라 특수 조작자에 관한 상하 계층적인 처리 메뉴를 순차적으로 디스플레이하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 모너터 제어방법.
처리될 피처리체 및 처리된 피처리체를 반송하기 위한 반송부, 반송부에 의해 반송된 처리될 피처리체를 세척하기 위한 다수의 세정유니트 및 마스터콤퓨터와 결합하여 상기 반송부와 상기 세정 유니트를 제어하기 위한 슬레이브콤퓨터를 가지는 처리장치의 처리 과정을 디스플레이하는 마스터콤퓨터의 디스플레이를 제어하는 모니터 제어방법으로서, 다수의 처리 아이템을 가지며, 일반 처리 과정에 따라 처리를 행하는 일반조작자와, 상기 피처리체 세정장치의 조절을 담당하는 특수 조작자에 관하여 각각다수의 처리 메뉴를 준비하는 단계, 상기 마스터콤퓨터에 동력이 공급될 때, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴에 포함되고, 세정장치 의해 고정적으로 결정되는 고정 정보 및 세정장치의 처리 아이템으로부터 사용자에 의해 미리 선택되어진 처리 아이템을 포함하는 사용자 정보를 디스플레이하는 단계, 특수 조작자에 의해 패스워드가 입력될 때만 특수 조작자에 대한 처리 메뉴가 디스플레이되는 단계, 및 일반 조작자 및 특수 조작자가 각자 해당 처리 메뉴의 처리 아이템을 선택할때, 상기 슬레이브콤퓨터에 의해 보내지고 수행되는 선택된 처리 아이템에 상응하는 처리 정보를 디스플레이하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 모니터 제어방법.
제10항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 일회 디스플레이에 고정된 정보 및 사용자 정보를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제10항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 다수의 디스플레이시 사용자 정보 및 고정된 정보를 디스플레이하고, 소정의 시간을 주기로 이러한 정보를 순차적으로 스위치 하는 것을 특징으로 하는 모니터제어 방법.
제10항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 웨이퍼 세정플로우의 시작을 지시하기 위한 최소한 하나 이상의 웨이퍼 플로우 시작 화면, 각 장치의 초기화를 지시하기 위한 시스템 초기화 화면, 처리될 피처리체를 수용할 수 있는 상태에서 설정된 각 처리조를 지시하기 위한 처리 준비 완료 화면, 및 처리의 완료를 지시하기 위한 처리 완료 화면을 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제10항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가 처리장치에 의해 고정적으로 디스플레이되는 고정 정보 및 처리장치의 아이템 정보로부터 사용자에 의해 먼저 선택된 아이템으로부터 이루어지는 사용자 정보를 포함하는 처리 메뉴를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제10항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 키 조작이 소정의 시간을 초과하여 수행되지 않은 정지상태를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제10항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 하나의 디스플레이에서 하나의 정지상태를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제10항에 있어서, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계 및 특수 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 순차적으로 디스플레이하는 단계 및 다수의 계층적인 처리 메뉴를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
제10항에 있어서, 특수 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하는 단계가, 패스워드에 따라 특수 조작자에 관한 상하 계층적인 처리 메뉴를 순차적으로 디스플레이하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 제어방법.
처리될 피처리체 및 처리된 피처리체를 반송하기 위한 반송부, 처리될 피처리체를 처리하기 위한 최소한 하나 이상의 처리 유니트 및 마스터콤퓨터와 결합하여 상기 반송부와 상기 처리 유니트를 제어하기 위한 슬레이브콤퓨터를 가지는 처리장치의 처리 과정을 모니터하기 위한 모니터 장치로서, 다수의 처리 아이템을 가지며, 일반 처리 과정에 따라 처리를 행하는 일반조작자와, 상기 처리장치의 조절을 담당하는 특수 조작자에 관하여 각각 다수의 처리 메뉴를 저장하는 저장수단, 패스워드를 입력하기 위하여 특수조작자에 의해 조작되는 입력수단, 상기 마스터콤퓨터에 동력이 공급될 때 저장 수단으로부터 일반 조작자에 관한 처리 메뉴만을, 특수 조작자에 의해 패스워드가 입력될 때는 저장 수단으로부터 특수조작자에 관한 처리 메뉴만을 리드 아웃하는 리드-아웃수단, 및 상기 리드-아웃수단에 의해 각각 리드 아웃된 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 메뉴를 디스플레이하고, 일반 조작자 및 특수 조작자가 각각 해당 처리 메뉴의 처리 아이템을 선택할 때, 상기 슬레이브콤퓨터에 의해 보내지고 수행되는 선택된 처리 아이템에 상응하는 처리 정보를 디스플레이하는 디스플레이 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제19항에 있어서, 일반 조작자에 관한 메뉴를 디스플레이하는 디스플레이수단이, 웨이퍼 세정 플로우의 시작을 지시하기 위한 최소한 하나 이상의 웨이퍼 플로우 시작, 각 장치의 초기화를 지시하기 위한 시스템 초기화, 처리될 피처리체를 수용할 수 있는 상태에서 설정될 각 처리조를 지시하기 위한 처리 준비 완료 처리, 및 처리의 완료를 지시하기 위한 처리완료를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제19항에 있어서, 상기 디스플레이 수단이, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하고, 처리장치에 의해 고정적으로 디스플레이되는 고정 정보 및 처리장치의 아이템 정보로부터 사용자에 의해 먼저 선택된 아이템으로 이루어지는 사용자 정보를 포함하는 처리 메뉴를 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제19항에 있어서, 상기 디스플레이 수단이 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하며, 키조작이 소정의 시간을 초과하여 수행되지 않을 경우, 정지상태를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제19항에 있어서, 상기 디스플레이 수단이, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하며, 하나의 디스플레이에서 하나의 정지상태를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제19항에 있어서, 상기 디스플레이 수단이, 일반 조작자에 관한 처리 메뉴를 디스플레이하며, 다수의 디스플레이 상에 다수의 처리 정보 아이템을 디스플레이하고, 소정의 시간 주기로 처리 정보 아이템을 순차적으로 스위치하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제19항에 있어서, 특수 조작자가 특수 조작자에 관한 처리 메뉴에 해당하는 처리 정보를 변경시킬 수 있게 하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제19항에 있어서, 상기 디스플레이 수단이, 일반 조작자에 관한 최소한 하나 이상의 처리 메뉴 및 특수 조작자에 관한 처리 메뉴를 순차적으로 디스플레이하며, 다수의 계층적인 처리 메뉴를 포함하는 것을 특징으로 하는 모니터 장치.
제26항에 있어서, 상기 디스플레이 수단이 패스워드를 입력함에 따라 특수조작자에 관한 상하 계층적인 처리 메뉴를 순차적으로 디스플레이하는 것을 특징으로 하는 모니터장치.