JPS63119240A - 半導体基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は半導体基板処理装置に関し、特にエツチング液
を用いて半導体基板（ウェハ）からペレットを切離す装
置に係わる。

（従来の技術） 従来、半導体基板処理装置としては、例えば第５図に示
すものが知られている。

図中の１は、底部に排出口１ａを有した第１槽である。

この第１槽１の内側には、エツチング液を導入する導入
口２ａを有した第２槽２が配置されている。ここで、前
記導入口２ａは、前記第１槽１の底部を貫通している。

前記第２槽２の内側には、底部にペレット３のサイズよ
り小さな穴を設けた樹脂製の第１ビーカ４が配置されて
いる。

この第１ビーカ４の内側には、例えば４〜５枚のウェハ
５を載置する樹脂製の第２ピーカ６が配置されている。

こうした構造の装置は、次の手順でウェハからペレット
を切離す。

■まず、所定の温度に設定されたエツチング液を導入口
３ａから噴出する第２槽２中に、作業者が片手に第１ビ
ーカ４を、他方の手に第２ビーカ６を持ち、両ビーカ４
，６を液中で上下動させる。

■この動作を数秒行なうと、エツチング液によりウェハ
５片面に形成された溝が削られ、ペレット３が分離する
。そして、分離したペレット３は第２ビーカ６の底部の
穴を通って第１と一カ４に入り、該ど一力４の底部に落
ちる。

■第２ビーカ６中のウェハ５がら分離したペレット３が
すべて第１ビーカ４の底部に堆積したのを確認した後、
エツチング液中から両ビーカ４゜６を取出す。

■次に、多数のペレット３が入った第１ビーカ４を持ち
、これを水洗槽に入れてペレット３の洗浄を行なう。

■水洗が終了したら、ペレット３をアルコール槽に数秒
間浸漬し、取出して自然乾燥する。

しかしながら、従来の半導体基板処理装置によれば、以
下に示す問題点を有する。

（１）作業者が第２ビーカ６にウェハ５を４〜５枚のみ
重ねて行なっているため、１０ツト（２５枚）処理する
のにがなりの時間を要する。

従って、生産性が低下する。

（２）作業者の目視判断でエツチング液中よりペレット
５を引上げているため、作業者により引き上げタイミン
グが異なる。従って、ペレット３のオーバーエッチ差が
発生し、特性変動が出てペレットの歩留りが低い。

（３）エツチング液が流れる第１・第２槽上で作業者が
作業するため、薬液が手に触れる危険があり、更に有害
な合液のガスを吸う危険がある。

マタ、作業者がウェハ近傍で処理している為、作業者か
らの塵埃がペレットに付着し易い。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、従来と比べ
生産性、歩留りを向上させるとともに、安全性が高くペ
レットが汚染しにくい半導体基板処理装置を提供するこ
とを目的とする。

［発明の構成］ （問題点を解決するための手段と作用）本発明は、底部
にペレットサイズより大きな穴を有したペレットバスケ
ット、及びこのペレットバスケットの内側に該バスケッ
トと分離可能でかつ上下に揺動可能に配置され底部にペ
レットサイズより小さな穴を有したキャリアバスケット
とからなる保持具と、この保持具をセットするローダ部
と、ウェハをエツチングしてペレットに分離するエツチ
ング槽と、分離したペレットを洗浄から乾燥まで行なう
処理槽と、処理後の前記保持具を載置するアンローダ部
と、前記保持具を前記エツチング槽及び処理槽に運ぶ搬
送機構とを具備することを要旨とし、生産性、歩留り、
安全性の点で優れ、かつペレットの汚染がしにくい等の
利点を有する。

（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図〜第４図を参照して説
明する。

第３図及び第４図は本発明に係る保持具を示す図である
。図中の２１は、底部にペレットサイズより小さいメツ
シュ状の穴２２・・・を有した塩化ビニール樹脂製のペ
レットバスケットである。このバスケット２１の対向す
る側壁には鋳型の溝２１ａ、２１ｂ・・・が設けられ、
かつバスケット２１の上部にはフランジ２３ａ、２３ｂ
が設けられている。前記バスケット２１の内側には、底
部にペレットサイズより小さい穴２４を有した塩化ビニ
ール樹脂製のキャリアバスケット２５が設けられている
。このバスケット２５の対向する側壁には、前記溝２１
ａ、２１ｂ・・・に挿入するようにピン２５ａ、２５ｂ
・・・が設けられている。また、前記キャリアバスケッ
ト２５の上端部には、フランジ２６ａ、２６ｂが設けら
れている。ここで、前記キャリアバスケット２５のピン
２５ａ・・・がベレットバスケット２１の溝２１ａ・・
・に夫々挿入された状態で、両バスケット２１．２５間
に空間２７が形成され、ピン２５ａ・・・を横方向、縦
方向に移動させることによりバスケット２５をバスケッ
ト２１から外す事ができる。前記キャリアバスケット２
５には、複数のウェハ２８を垂直に立てかけた耐薬品性
に優れたふっ素樹脂製のキャリア２９がセットされてい
る。

第１図及び第２図は半導体基板処理装置である。

図中の３１は、上部に排気ダクト３２を有した装置本体
である。この装置本体３１の所定の位置には、前記両バ
スケット２１．２５からなる保持具３３をセットするロ
ーダ部３４が設けられている。このローダ部３４の近く
には、ウェハをエツチングしてペレットに分離するエツ
チング槽３５、水洗槽３６ａ、３６ｂ、アルコール槽３
７、温風乾燥槽３８、及び処理後の保持具３３を載置す
るアンローダ部３９が夫々−直線上に一定のピッチで配
置されている。また、これら各処理槽の近くには前記保
持具３３をシーケンスに従って各処理槽に運ぶ搬送機構
４０が設けられ、該搬送機構４０の下端部にはアーム４
０ａ、４０ｂが設けられている。前記搬送機構４０は、
装置本体３１に内蔵された電気制御部４１によって制御
される。

前記搬送機構４０の近くには、保持具３３のうちキャリ
アバスケット２５のみを上下動させる上下機構４２が設
けられている。なお、図中の４２ａ。

４２ｂは上下機構４２のア′−ムである。

次に、こうした構造の装置の操作手順について説明する
。

■まず、ペレットバスケット２１に組込まれたキャリア
バスケット２５に、複数のウェハの入ったキャリア２９
をセットした後、装置本体３１のローダ部３４の所定の
場所に作業者がセットし、電気制御部４１のスタートス
イッチを押す。この結果、搬送機構４０が動き、前記保
持具３３の前で停止する。

■次に、搬送機構４０のアーム４０ａ、４０ｂでキャリ
アバスケット２５のフランジ２６ａ。

２６ｂをチャックして持上げ、エツチング槽３５にセッ
トする。

■セットし終わると、上下機構４２のアーム４２ａ、４
２ｂが動いてキャリアバスケット２５のピン２５ａ〜２
５ｄをチャックし、キャリアバスケット２５を上下に揺
動する。

■一定時間揺動すると、ウェハ２８からペレット４３が
分離し、これらのペレット４３がペレットキャリア２１
の底部に次々に堆積する。

■更に一定時間が過ぎると、上下機構４２のアーム４２
ａ、４２ｂがビン２５ａ〜２５ｄから離れ、搬送機構４
０が移動してアーム４０ａ。

４０ｂがキャリアバスケット２５の７ランジ２６ａ、２
６ｂ下に入って救い上げ、エツチング槽３５から次の水
洗槽３６ａに設置する。ここで、前記バスケット２１．
２５を洗う。

０次に、搬送機構４０のアーム４０ａ、４０ｂが再びキ
ャリアラバスケット２５のフランジ２６ａ、２６ｂをチ
ャックし、前進、上昇でペレットバスケット２１よりキ
ャリアバスケット２５を分離し、−挙にアンローダ部３
９へ運ぶ。

■次いで、ペレットバスケット２１のフランジ２３ａ、
２３ｂをチャックし、他方の水洗槽３６ｂにセットする
。ここで、ペレットバスケット２１に収納された複数の
ペレット４３は洗浄される。

■引続き、ペレットバスケット２１は搬送機構４０によ
りアルコール槽３７．ｍＪｉｌ乾燥槽３８゜アンローダ
部３９へと順次運ばれ、一連の処理が終了する。

上記実施例によれば、以下に列挙する効果を有する。

（１）ウェハ１０ット分をキャリアに収納して自動的に
処理するので、生産性が向上する。

（２〉ウェハが自動的に処理されるので、常に一定品質
のペレットがえられ、歩留りが向上する。

（３）作業者が薬液に触れたり吸う機会もなくなり、安
全性が向上した。

（４）自動化により、作業者は処理時間中地の仕事が出
来る様になり、その工程の省人が図れる。

また、同様な理由により、処理中無人運転となり、製品
のペレットがゴミなどにより汚染されることを防止でき
る。

［発明の効果］ 以上詳述した如く本発明によれば、生産性、歩留り安全
性が高く、かつペレットが汚染しにくい半導体基板処理
装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る半導体基板処理装置の
説明図、第２図は同装置に係る保持具をエツチング槽に
セットした状態を示す断面図、第３図は同装置の保持具
の斜視図、第４図は第３図のＸ−Ｘ線に沿う断面図、第
５図は従来の半導体基板処理装置の断面図である。 ２１・・・ペレットバスケット、２１ａ、２１ｂ・・・
溝、２２．２４−・・穴、２３ａ、２３ｂ、２６ａ。 ２６ｂ・・・フランジ、２５・・・キャリアバスケット
、２７・・・空間、２８・・・ウェハ、２９・・・キャ
リア、３１・・・装置本体、３３・・・保持具、３４・
・・ローダ部、３５・・・エツチング槽、３６ａ、３６
ｂ・・・水洗槽、３７・・・アルコール槽、３８・・・
温風乾燥槽、３９・・・アンローダ部、４０　・・・搬
送機構、４０ａ、４０ｂ。 ４２ａ、４２ｂ−アーム、４２−・・上下機構、４３・
・・ペレット。 出願人代理人　弁理士　鈴江武彦 第１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 底部にペレットサイズより大きな穴を有したペレットバ
   スケット、及びこのペレットバスケットの内側に該バス
   ケットと分離可能でかつ上下に揺動可能に配置され底部
   にペレットサイズより小さな穴を有したキャリアバスケ
   ットとからなる保持具と、この保持具をセットするロー
   ダ部と、ウェハをエッチングしてペレットに分離するエ
   ッチング槽と、分離したペレットを洗浄から乾燥まで行
   なう処理槽と、処理後の前記保持具を載置するアンロー
   ダ部と、前記保持具を前記エッチング層及び処理槽に運
   ぶ搬送機構とを具備することを特徴とする半導体基板処
   理装置。