JP2010147034A - 基板処理システム - Google Patents

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Hajime Abiko
一 安彦
Osamu Ueda
修 上田
Hiroyuki Iwakura
裕幸 岩倉
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Abstract

【課題】半導体製造装置における各種情報の作成等において編集する仕組みを提供するものである。
【解決手段】基板を処理する基板処理装置10と、該基板処理装置10に接続される群管理装置20とで構成される基板処理システム1であって、前記群管理装置20は、前記基板処理装置10との接続情報を示す接続装置情報とユーザ毎に編集権限が定義されているユーザ情報と編集作業に制限を加える編集制御情報とをメモリ5に展開する初期化部と、前記メモリ5内の前記接続装置情報から各種情報表示画面を表示する表示部と、前記情報表示画面が前記編集制御情報により編集不可となっている場合、前記情報表示画面に設けられた編集ボタンが押下されると、編集モードへの移行メッセージを表示し、前記編集モードへの移行を指示する入力が行われると、編集モードへ移行するよう制御する制御部とを備えたことにある。
【選択図】 図2

Description

本発明は、半導体ウェハ等の基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置の生産履歴や稼動状態を閲覧する群管理装置で構成される基板処理システムに関し、特に、該群管理装置に接続されている基板処理装置の各種情報を編集する機能に関する。
半導体製造装置はクリーンルーム内に設置されており、通常はパラメータの変更、レシピの作成等は各装置において行わなければならないが、各半導体製造装置を群管理システムに接続することにより、オフィス等でも各編集作業が可能になっている。群管理システムでの各装置情報の編集は群管理システムへのログイン時のユーザ毎に編集権限が決められており担当者以外が編集できないようになっている。ただ現状では、編集権限があるユーザが各種情報を参照している過程で誤って変更してしまい運用時に想定外の動作をしてしまう等の問題点があった。
本発明は従来技術の問題点である、半導体製造装置における各種情報の作成等において編集する仕組みを提供するものである。
本発明の第1の特徴とするところは、基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置に接続される群管理装置とで構成される基板処理システムであって、前記群管理装置は、前記基板処理装置との接続情報を示す接続装置情報とユーザ毎に編集権限が定義されているユーザ情報と編集作業に制限を加える編集制御情報とをメモリに展開する初期化部と、前記メモリ内の前記接続装置情報から各種情報表示画面を表示する表示部と、前記情報表示画面が前記編集制御情報により編集不可となっている場合、前記情報表示画面に設けられた編集ボタンが押下されると、編集モードへの移行メッセージを表示し、前記編集モードへの移行を指示する入力が行われると、編集モードへ移行するよう制御する制御部とを備えたことにある。
本発明によれば、各担当者がデータを変更したい時にのみ編集操作が行えることから、接続されている装置の各種情報を参照している過程で誤って変更してしまう等の問題が解消でき、更にトップ画面に戻って編集モードを切り替える等の不便さが解消され、データの表示画面のどこからでも編集画面に移行できるという操作性向上にもつながっている。
以下に、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成、及び動作について、図を用いて説明する。まず、図1を用いて、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成について説明する。
図1に示すとおり、基板処理システムは、基板に処理を行う少なくとも一台以上の基板処理装置10と、基板処理装置10に接続される群管理装置20とを備える。尚、基板処理装置10と群管理装置20との接続は、通信ケーブル等による直接接続であっても良いし、構内回線を介したネットワーク接続でも良いし、インターネットや専用線網などの広域回線を介したネットワーク接続であっても良い。また、基板処理装置10は、基板を処理するための基板処理系100と、基板処理系100に接続された基板処理装置用コントローラ240と、基板処理装置用コントローラ240に接続された操作端末241を備え、群管理装置20は、ネットワーク等を解して基板処理装置10に接続される群管理装置コントローラ21と、群管理装置コントローラ21に接続され、ユーザ(保守員)が群管理装置を操作する際に用いる入出力装置である操作端末22とを備える。
本発明を実施するための最良の形態において、基板処理装置は、一例として、半導体装置(IC)の製造方法における処理工程を実施する半導体製造装置として構成されている。尚、以下の説明では、基板処理装置として基板に酸化、拡散処理やCVD処理などを行なう縦型の装置(以下、単に処理装置という)を適用した場合について述べる。
図6および7に示されているように、シリコン等からなるウエハ(基板)200を収納したウエハキャリアとしてフープ(基板収容器。以下ポッドという。)110が使用されている本発明の基板処理系100は、筐体111を備えている。筐体111の正面壁111aの正面前方部にはメンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口103が開設され、この正面メンテナンス口103を開閉する正面メンテナンス扉104、104がそれぞれ建て付けられている。筐体111の正面壁111aにはポッド搬入搬出口(基板収容器搬入搬出口)112が筐体111の内外を連通するように開設されており、ポッド搬入搬出口112はフロントシャッタ(基板収容器搬入搬出口開閉機構)113によって開閉されるようになっている。ポッド搬入搬出口112の正面前方側にはロードポート(基板収容器受渡し台)114が設置されており、ロードポート114はポッド110を載置されて位置合わせするように構成されている。ポッド110はロードポート114上に工程内搬送装置(図示せず)によって搬入され、かつまた、ロードポート114上から搬出されるようになっている。
筐体111内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚(基板収容器載置棚)105が設置されており、回転式ポッド棚105は複数個のポッド110を保管するように構成されている。すなわち、回転式ポッド棚105は垂直に立設されて水平面内で間欠回転される支柱116と、支柱116に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板(基板収容器載置台)117とを備えており、複数枚の棚板117はポッド110を複数個宛それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。筐体111内におけるロードポート114と回転式ポッド棚105との間には、ポッド搬送装置(基板収容器搬送装置)118が設置されており、ポッド搬送装置118は、ポッド110を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ(基板収容器昇降機構)118aと搬送機構としてのポッド搬送機構(基板収容器搬送機構)118bとで構成されており、ポッド搬送装置118はポッドエレベータ118aとポッド搬送機構118bとの連続動作により、ロードポート114、回転式ポッド棚105、ポッドオープナ(基板収容器蓋体開閉機構)121との間で、ポッド110を搬送するように構成されている。
筐体111内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体119が後端にわたって構築されている。サブ筐体119の正面壁119aにはウエハ200をサブ筐体119内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口(基板搬入搬出口)120が一対、垂直方向に上下二段に並べられて開設されており、上下段のウエハ搬入搬出口120、120には一対のポッドオープナ121、121がそれぞれ設置されている。 ポッドオープナ121はポッド110を載置する載置台122、122と、ポッド110のキャップ(蓋体)を着脱するキャップ着脱機構(蓋体着脱機構)123、123とを備えている。ポッドオープナ121は載置台122に載置されたポッド110のキャップをキャップ着脱機構123によって着脱することにより、ポッド110のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
サブ筐体119はポッド搬送装置118や回転式ポッド棚105の設置空間から流体的に隔絶された移載室124を構成している。移載室124の前側領域にはウエハ移載機構(基板移載機構)125が設置されており、ウエハ移載機構125は、ウエハ200を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置(基板移載装置)125aおよびウエハ移載装置125aを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ(基板移載装置昇降機構)125bとで構成されている。これら、ウエハ移載装置エレベータ125bおよびウエハ移載装置125aの連続動作により、ウエハ移載装置125aのツイーザ(基板保持体)125cをウエハ200の載置部として、ボート(基板保持具)217に対してウエハ200を装填(チャージング)および脱装(ディスチャージング)するように構成されている。
移載室124の後側領域には、ボート217を収容して待機させる待機部126が構成されている。待機部126の上方には、処理炉202が設けられている。処理炉202の下端部は、炉口シャッタ(炉口開閉機構)147により開閉されるように構成されている。
図6に示されているように移載室124のウエハ移載装置エレベータ125b側と反対側である右側端部には、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア133を供給するよう供給フアンおよび防塵フィルタで構成されたクリーンユニット134が設置されており、ウエハ移載装置125aとクリーンユニット134との間には、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置135が設置されている。
クリーンユニット134から吹き出されたクリーンエア133は、ノッチ合わせ装置135およびウエハ移載装置125aに流通された後に、図示しないダクトにより吸い込まれて、筐体111の外部に排気がなされるか、もしくはクリーンユニット134の吸い込み側である一次側(供給側)にまで循環され、再びクリーンユニット134によって、移載室124内に吹き出されるように構成されている。
図6に示されているように、耐圧筐体111右側端部とサブ筐体119の待機部126右端部との間にはボート217を昇降させるためのボートエレベータ(基板保持具昇降機構)115が設置されている。ボートエレベータ115に連結された連結具としてのアーム128には蓋体としてのシールキャップ219が水平に据え付けられており、シールキャップ219はボート217を垂直に支持し、処理炉202の下端部を閉塞可能なように構成されている。
ボート217は複数本の保持部材を備えており、複数枚(例えば、50枚〜125枚程度)のウエハ200をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。
次に、本発明の基板処理系100の動作について説明する。
図6および7に示されているように、ポッド110がロードポート114に供給されると、ポッド搬入搬出口112がフロントシャッタ113によって開放され、ロードポート114の上のポッド110はポッド搬送装置118によって筐体111の内部へポッド搬入搬出口112から搬入される。搬入されたポッド110は回転式ポッド棚105の指定された棚板117へポッド搬送装置118によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板117から一方のポッドオープナ121に搬送されて載置台122に移載されるか、もしくは直接ポッドオープナ121に搬送されて載置台122に移載される。この際、ポッドオープナ121のウエハ搬入搬出口120はキャップ着脱機構123によって閉じられており、移載室124にはクリーンエア133が流通され、充満されている。例えば、移載室124にはクリーンエア133として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が20ppm以下と、筐体111の内部(大気雰囲気)の酸素濃度よりも遥かに低く設定されている。
載置台122に載置されたポッド110はその開口側端面がサブ筐体119の正面壁119aにおけるウエハ搬入搬出口120の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構123によって取り外され、ポッド110のウエハ出し入れ口が開放される。ポッド110がポッドオープナ121によって開放されると、ウエハ200はポッド110からウエハ移載装置125aのツイーザ125cによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、ノッチ合わせ装置135にてウエハを整合した後、移載室124の後方にある待機部126へ搬入され、ボート217に装填(ウエハチャージング)される。ボート217にウエハ200を受け渡したウエハ移載装置125aはポッド110に戻り、次のウエハ110をボート217に装填する。
この一方(上段または下段)のポッドオープナ121におけるウエハ移載装置125によるウエハのボート217への装填作業中に、他方(下段または上段)のポッドオープナ121には回転式ポッド棚105ないしロードポート114から別のポッド110がポッド搬送装置118によって搬送され、ポッドオープナ121によるポッド110の開放作業が同時進行される。
予め指定された枚数のウエハ200がボート217に装填されると、炉口シャッタ147によって閉じられていた処理炉202の下端部が炉口シャッタ147によって開放される。続いて、ウエハ200を保持したボート217はシールキャップ219がボートエレベータ115によって上昇されることにより、処理炉202内へ搬入(ローディング)されて行く。
ローディング後は、処理炉202にてウエハ200に任意の処理が実施される。処理後は、ノッチ合わせ装置135でのウエハの整合工程を除き、概上述の逆の手順で、ウエハ200およびポッド110は筐体111の外部へ払出される。
次に図2を用いて、本願発明における群管理装置20のフローについて詳述する。
図2において、本願発明の群管理装置20は、基板処理装置との接続状態を格納する接続装置情報DB2と、各ユーザがどのような編集権限を持っているかを設定しているユーザ情報DB3と、編集権限を有するユーザが操作を定義している編集制御情報DB4とで構成される記憶手段と、システム起動時に内部メモリ5に前記記憶手段に格納されている各種情報を展開する初期化部6と、前記内部メモリ5内の接続装置情報から前記基板処理装置10に関する所定の情報を表示する表示部7と、前記基板処理装置10に関する所定の情報を送受信する通信部8と、前記接続装置情報や前記編集制御情報や前記ユーザ情報に基づいて、ユーザが各種情報を編集するよう制御する制御部(図示せず)とで構成される制御手段21と、操作画面やキーボード等の入力手段とを備えた操作部(操作端末)22とで構成される。
尚、本願発明は、群管理装置コントローラ(制御手段)21より群管理装置20で処理される情報編集処理フローを実行することにより実現される。
具体的に、以下情報編集処理フローの流れを説明する。
基板処理システム1起動時に、初期化部6が接続装置情報とユーザ情報と編集制御情報を内部メモリ5に展開することで各情報が初期化される。
群管理装置20(モニタサーバ)起動後、装置のパラメータ編集画面の表示を選択された場合、内部メモリ5のユーザ情報から現在のログインしたユーザが、参照可又は編集可のユーザであれば前記パラメータ編集画面に移行する。ここで、編集権限有のユーザで、前記内部メモリが1(通常は参照モードで編集時に編集モードに移行のモード)の場合、前記パラメータ編集画面は編集不可の参照モードとして動作する。このとき、表示される情報は、表示部7が、前記内部メモリ5の接続装置情報から対象装置を検索し、その装置に通信部8を経由して受信した情報をパラメータ編集画面に表示する。ユーザが情報の編集を行い場合、前記パラメータ編集画面を参照モードから編集モードへ移行させる編集ボタンを押下することで、表示部8は、編集モード移行メッセージを表示して、編集モード移行の可否をユーザに促し、編集モード移行可を選択された場合のみ編集モードに移行する。編集操作終了時に、編集モードから抜けて参照モードとなる。
次に、ユーザ情報について図3を用いて説明する。ユーザ情報は、各登録されたユーザがどのような編集権限を持っているかを設定してある情報であり、本情報により、現在のユーザが装置のパラメータ編集画面等の情報表示画面が参照不可か、参照のみ可か、編集可のどれかを示すものである。
次に、編集制御情報について図4を用いて説明する。編集制御情報はユーザが編集権限を持つ場合、情報表示画面において、どのような操作とするかを定義した情報である。これが0の場合は常時編集可として動作し、1の場合は、通常は参照モードで編集時に編集モードに移行させる設定となる。
図5は、具体的に情報表示画面において参照モードから編集モードへの移行を表した図である。
ユーザが編集権限を有し、編集制御情報が1の設定(通常は参照モードで編集時に編集モードに移行させる設定)となっていた場合、情報表示画面は参照モードでの表示となり、各データ(情報)の変更は不可である。
ここで、データを変更する必要がある場合、画面左上の編集ボタンを押下すると、編集モードへの移行メッセージが画面に表示され、編集モードへの移行の可否をユーザに問い合わせる。ここで、「Y」を入力して編集モードへの指示を行うと、編集モードとなり、各データの変更が可能となる。また、本実施の形態では、入力という手段を使用したがこれに限られない。
本発明の実施形態に係る基板処理システムの概略構成図 本発明の実施形態に係る群管理装置におけるプログラム処理フローを示した図 ユーザ情報を示す図である。 編集制御情報を示す図である。 情報編集画面において参照モードから編集モードへの移行を示した図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置を示す平面透視図 本発明の実施形態に係る基板処理装置を示す側面透視図
符号の説明
1 基板処理システム
2 接続装置情報DB
3 ユーザ情報DB
4 編集制御情報DB
5 内部メモリ
6 初期化部
7 表示部
8 通信部
10 基板処理装置
20 群管理装置
21 群管理装置コントローラ
22 操作端末(操作部)
100 基板処理系

Claims (1)

  1. 基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置に接続される群管理装置とで構成される基板処理システムであって、
    前記群管理装置は、
    前記基板処理装置との接続情報を示す接続装置情報とユーザ毎に編集権限が定義されているユーザ情報と編集作業に制限を加える編集制御情報とをメモリに展開する初期化部と、
    前記メモリ内の前記接続装置情報から各種情報表示画面を表示する表示部と、
    前記情報表示画面が前記編集制御情報により編集不可となっている場合、
    前記情報表示画面に設けられた編集ボタンが押下されると、編集モードへの移行メッセージを表示し、
    前記編集モードへの移行を指示する入力が行われると、編集モードへ移行するよう制御する制御部とを備えたことを特徴とする基板処理システム。
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