JP5224744B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5224744B2 JP5224744B2 JP2007205108A JP2007205108A JP5224744B2 JP 5224744 B2 JP5224744 B2 JP 5224744B2 JP 2007205108 A JP2007205108 A JP 2007205108A JP 2007205108 A JP2007205108 A JP 2007205108A JP 5224744 B2 JP5224744 B2 JP 5224744B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- screen
- recipe
- editing
- data
- edit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/048—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI]
- G06F3/0484—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI] for the control of specific functions or operations, e.g. selecting or manipulating an object, an image or a displayed text element, setting a parameter value or selecting a range
- G06F3/04847—Interaction techniques to control parameter settings, e.g. interaction with sliders or dials
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Program-control systems
- G05B19/02—Program-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
Description
好適には、前記制御手段は、前記編集画面から認証画面に切り替える。
図1は、本発明に係る基板処理装置に対して所定の処理を行う際に表示されるメニュー画面及び認証画面を示す図であって、図1(A)はメニュー画面を示し、図1(B)は認証画面を示す。図2は、本発明に係る基板処理装置に記憶されている運転レシピや装置パラメータを編集するための画面を例示する図であって、図2(A)はレシピ編集画面を例示し、図2(B)はパラメータデータ(装置パラメータ)を設定することにより、装置の状態や使用可能な機能等を容易に変更するためのパラメータ編集画面パラメータ編集画面を例示する。
ユーザが図1(A)に示される権限変更ボタンを押下すると、画面は図1(B)の認証画面に切り替えられ、ユーザはログイン(ユーザID及びパスワード入力)を行う。ログイン処理が実行されると、画面は、図1(A)のメニュー画面に再度切り替えられる。ログイン前の初期画面(メニュー画面)と当該メニュー画面との違いは、当該メニュー画面では、ログインを行ったユーザが使用できる機能が色分け表示されていることである。ユーザがこの画面上でレシピ編集ボタンを押下すると、画面はレシピ編集画面に切り替えられる。ユーザは、レシピ編集画面で編集作業を行い、編集を終了したら保存終了ボタンを押下する。保存終了ボタンが押下されると、画面はメニュー画面に戻る。そして、ユーザは、図示しないレシピ実行ボタンを押下してレシピを実行させる画面を表示し、レシピを選択して実行する。
図3は、本発明の実施形態に係る基板処理装置10の構成を、制御装置12を中心に示す図である。
図3に示すように、基板処理装置10は、CPU14及びメモリ16などを含む制御装置12と、ネットワークを介して外部のコンピュータなどとデータの送信及び受信を行う通信装置18と、ハードディスクドライブなどの記憶装置22と、液晶ディスプレイなどの表示装置並びにキーボード及びマウス等のポインティングデバイスを含むユーザインタフェース(UI)装置20と、プロセス装置100とを有する。
図5は、図4に示されるプロセス装置100の側面透視図である。
図4及び図5に示すように、プロセス装置100は、筐体111を備えている。この筐体111の正面壁111aの正面前方部には、メンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口103が開設され、この正面メンテナンス口103を開閉する正面メンテナンス扉104、104がそれぞれ建て付けられている。また、プロセス装置100は、シリコン等からなるウエハ(基板)を収納したウエハキャリアとしてフープ(基板収容器。以下ポッドという。)110を備える。
図6に示すように、制御プログラム40は、ユーザインタフェース(UI)部400、認証部402、ユーザDB404、設定部406、レシピ記憶部408、パラメータ記憶部410、装置制御部412、操作制御部414及び計時部416を有する。制御プログラム40は、例えば、FD、CD又はDVDなどの記録媒体24(図3)に格納されて基板処理装置10に供給され、メモリ16にロードされて、制御装置12上で動作する図示しないOS上で、ハードウェアを具体的に利用して実行される。なお、制御プログラム40は、図示しないネットワークに接続された外部のコンピュータから通信装置18を介して制御装置12に供給されてもよい。
図7は、本発明の実施形態に係る基板処理装置10による編集画面においての制御処理(S10)を示すフローチャートである。
図7に示すように、ステップ100(S100)において、制御プログラム40の操作制御部414は、UI装置20にメニュー画面(図1(A))を表示する。操作制御部414は、権限変更ボタンが押下されたか否か、ユーザによりいずれかのメニューが選択されたか否かを判定し、権限変更ボタンが選択された場合にはS102の処理に進み、そうでない場合にはS100の処理に戻る。
ステップ106(S106)において、ユーザがメニュー画面上で使用可能な機能を選択すると(押下すると)、設定部406は、操作制御部414に制御されて、編集画面(図2(A)、図2(B)等)をUI装置20に表示する。ユーザは、表示された画面を介して所定の処理を行う。図2(A)では、所望の制御パラメータの設定、図2(B)では、所望の装置パラメータの設定を行う。
12 制御装置
14 CPU
16 メモリ
18 通信装置
20 UI装置
22 記憶装置
40 制御プログラム
100 プロセス装置
400 UI部
402 認証部
404 ユーザDB
406 設定部
408 レシピ記憶部
410 パラメータ記憶部
412 装置制御部
414 操作制御部
416 計時部
Claims (14)
- 作成又は編集されたレシピを実行して基板を処理する基板処理装置であって、
レシピを作成又は編集するための編集画面を表示する表示装置と、
少なくとも一部のデータを入力して前記レシピを作成又は編集している途中に、前記表示装置により表示された編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、前記編集画面から当該編集画面とは異なる所定の画面への画面切り替え処理を行うとともに、前記設定された時間までに前記操作で作成又は編集された前記レシピを削除し、作成又は編集前の元のレシピに戻すとともに前記データを保存する処理を行うように制御する制御部と
を有する基板処理装置。 - 前記制御部は、前記編集画面から操作権限の変更及びログイン処理を行うための1つ以上のボタンが含まれる初期画面に切り替える
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記編集画面からログイン処理を行うための認証画面に切り替える
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記ボタンを介して操作権限の変更及びログイン処理が行われた場合、レシピの操作を受け入れる
請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記認証画面を介して入力された使用者の識別子及びパスワードと、予め記憶されている使用者の識別子及びパスワードとが一致した場合、レシピの操作を受け入れる
請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記編集画面から前記所定の画面へ切り替えるとともにログアウト処理を行う
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記編集画面上に表示された表示切替ボタンが押下されると、前記所定の画面への画面切替処理を行う
請求項1に記載の基板処理装置。 - 少なくとも一部のデータを入力してレシピを作成又は編集している途中に、編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、前記編集画面から当該編集画面とは異なる所定の画面への画面切り替え処理を行うとともに、前記設定された時間までに前記操作で作成又は編集された前記レシピを削除し、作成又は編集前の元のレシピに戻すとともに前記データを保存する処理を行う
レシピ編集方法。 - 前記編集画面から認証画面へ切り替え、前記認証画面を介して入力された使用者の識別子及びパスワードと、予め記憶されている使用者の識別子及びパスワードとが一致した場合、前記編集画面上の操作を受け入れる
請求項8に記載のレシピ編集方法。 - 前記編集画面から操作権限の変更及びログイン処理を行うためのボタンが含まれる初期画面へ切り替え、
前記ボタンを介して前記操作権限の変更及びログイン処理が行われた場合、前記レシピの操作を受け入れる
請求項8に記載のレシピ編集方法。 - レシピを作成又は編集するための編集画面を表示し、
少なくとも一部のデータを入力してレシピを作成又は編集している途中に、前記編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、前記編集画面から操作権限の変更やログイン処理を行うためのボタンが含まれる初期画面へ切り替え、前記設定された時間までに前記操作で作成又は編集された前記レシピを削除し、作成又は編集前の元のレシピに戻すとともに前記データを保存する処理を行い、
前記ボタンを介して前記初期画面上で前記ログイン処理が行われた場合、前記元のレシピの前記操作を受け入れ、前記操作により前記元のレシピを実行して基板を処理する
半導体装置の製造方法。 - レシピを作成又は編集するための編集画面を表示し、
少なくとも一部のデータを入力してレシピを作成又は編集している途中に、前記編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、前記編集画面から操作権限の変更やログイン処理を行うためのボタンが含まれる初期画面へ切り替え、前記設定された時間までに前記操作で作成又は編集された前記レシピを削除し、作成又は編集前の元のレシピに戻すとともに前記データを保存する処理を行い、
前記ボタンを介して前記初期画面上で前記ログイン処理が行われた場合、前記レシピの前記操作を受け入れ、
前記操作権限に応じて、
前記元のレシピをそのまま実行するか、または保存しておいた前記データを前記元のレシピに入力して前記初期画面に切り替わる前の編集途中のレシピを実行するか、前記元のレシピを編集した後のレシピを実行するか、または前記編集途中のレシピを再編集した後に実行するかして基板を処理する
半導体装置の製造方法。 - レシピを作成又は編集するための編集画面を表示する工程と、
少なくとも一部のデータを入力してレシピを作成又は編集している途中に、表示された編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、前記編集画面から当該編集画面とは異なる所定の画面への画面切り替え、前記設定された時間までに前記操作で作成又は編集された前記レシピを削除し、作成又は編集前の元のレシピに戻すとともに前記データを保存する工程と
を有する画面制御方法。 - レシピを作成又は編集するための編集画面を表示する工程と、
少なくとも一部のデータを入力してレシピを作成又は編集している途中に、表示された編集画面上で操作が行われないまま予め設定された時間が経過した場合、前記編集画面から当該編集画面とは異なる所定の画面への画面切り替え、前記設定された時間までに前記操作で作成又は編集された前記レシピを削除し、作成又は編集前の元のレシピに戻すとともに前記データを保存する工程と
を有する画面制御プログラム。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007205108A JP5224744B2 (ja) | 2006-10-04 | 2007-08-07 | 基板処理装置 |
| KR1020070098631A KR101192674B1 (ko) | 2006-10-04 | 2007-10-01 | 기판 처리 장치 |
| US11/905,582 US8806370B2 (en) | 2006-10-04 | 2007-10-02 | Substrate processing apparatus |
| KR1020110026870A KR101046260B1 (ko) | 2006-10-04 | 2011-03-25 | 기판 처리 장치 |
| KR1020120041363A KR101297131B1 (ko) | 2006-10-04 | 2012-04-20 | 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006272746 | 2006-10-04 | ||
| JP2006272746 | 2006-10-04 | ||
| JP2007205108A JP5224744B2 (ja) | 2006-10-04 | 2007-08-07 | 基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008112968A JP2008112968A (ja) | 2008-05-15 |
| JP5224744B2 true JP5224744B2 (ja) | 2013-07-03 |
Family
ID=39445303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007205108A Active JP5224744B2 (ja) | 2006-10-04 | 2007-08-07 | 基板処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8806370B2 (ja) |
| JP (1) | JP5224744B2 (ja) |
| KR (3) | KR101192674B1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0365965A (ja) * | 1989-08-04 | 1991-03-20 | Ricoh Co Ltd | コロナ放電装置 |
| US8510790B2 (en) * | 2007-03-12 | 2013-08-13 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus |
| JP4324207B2 (ja) * | 2007-04-20 | 2009-09-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| JP2010061583A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Riso Kagaku Corp | 情報処理装置 |
| JP5369800B2 (ja) * | 2009-03-19 | 2013-12-18 | コニカミノルタ株式会社 | 情報処理システム、情報処理方法および情報処理装置 |
| JP6018369B2 (ja) * | 2011-08-25 | 2016-11-02 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理システム、管理装置及び基板処理システムにおける表示方法 |
| US8982066B2 (en) * | 2012-03-05 | 2015-03-17 | Ricoh Co., Ltd. | Automatic ending of interactive whiteboard sessions |
| JP5666537B2 (ja) * | 2012-11-07 | 2015-02-12 | 株式会社堀場製作所 | 分析システム及び管理装置 |
| JP6403431B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2018-10-10 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、流量監視方法及び半導体装置の製造方法並びに流量監視プログラム |
| WO2016046956A1 (ja) | 2014-09-26 | 2016-03-31 | 株式会社日立国際電気 | 処理装置、コントローラ、記録媒体及び処理システム |
| JP6277166B2 (ja) * | 2015-10-09 | 2018-02-07 | 株式会社三共 | 遊技機 |
| JP6683031B2 (ja) * | 2016-06-22 | 2020-04-15 | 富士通株式会社 | 制御プログラム、制御方法および端末装置 |
| JP6817757B2 (ja) * | 2016-09-16 | 2021-01-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板移送方法 |
| KR101754996B1 (ko) * | 2016-11-11 | 2017-07-07 | (주) 위솔루션 | 로드 포트의 질소 퍼지 제어시스템 및 로드 포트의 질소 퍼지 제어방법 |
| CN113424294B (zh) * | 2019-03-20 | 2024-01-23 | 株式会社国际电气 | 制程生成方法、半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质 |
| PL3871627T3 (pl) * | 2020-02-27 | 2024-07-01 | Erbe Elektromedizin Gmbh | Urządzenie chirurgiczne i sposób sterowania nim |
Family Cites Families (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4315685A (en) * | 1978-08-24 | 1982-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
| US5283943A (en) * | 1992-08-31 | 1994-02-08 | Kermit Aguayo | Automated assembly apparatus |
| US5566076A (en) * | 1993-08-05 | 1996-10-15 | Tokyo Electron Limited | Semiconductor process system and positioning method and apparatus for transfer mechanism thereof |
| JP3377657B2 (ja) * | 1994-08-08 | 2003-02-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄処理装置および処理装置の画面処理方法 |
| US5591299A (en) * | 1995-04-28 | 1997-01-07 | Advanced Micro Devices, Inc. | System for providing integrated monitoring, control and diagnostics functions for semiconductor spray process tools |
| US5740053A (en) * | 1995-07-31 | 1998-04-14 | Tokyo Electron Limited | Method of controlling monitor used in cleaning machine and object processing machine and monitor apparatus |
| JP3892493B2 (ja) * | 1995-11-29 | 2007-03-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システム |
| JPH1195878A (ja) | 1997-09-25 | 1999-04-09 | Casio Comput Co Ltd | データ処理装置、ネットワークシステム、及び記録媒体 |
| JP4199324B2 (ja) | 1998-01-05 | 2008-12-17 | 株式会社日立国際電気 | 固体デバイス製造装置 |
| US6336053B1 (en) * | 1998-05-29 | 2002-01-01 | Plexus Systems, Llc | Graphical user interface shop floor control system |
| US6629003B1 (en) * | 1998-12-04 | 2003-09-30 | Vector Corporation | Batch processing control system recipe management and batch information system |
| US6415193B1 (en) * | 1999-07-08 | 2002-07-02 | Fabcentric, Inc. | Recipe editor for editing and creating process recipes with parameter-level semiconductor-manufacturing equipment |
| US6618851B1 (en) * | 1999-08-31 | 2003-09-09 | Autodesk, Inc. | Method and apparatus for state-reversion |
| US6625513B1 (en) * | 2000-08-15 | 2003-09-23 | Applied Materials, Inc. | Run-to-run control over semiconductor processing tool based upon mirror image target |
| AU2001292703A1 (en) * | 2000-09-15 | 2002-03-26 | Wonderware Corporation | A method and system for animating graphical user interface elements via manufacturing/process control portal server |
| US7065714B1 (en) * | 2000-10-13 | 2006-06-20 | Oracle International Corporation | Graphical user interface for navigation, viewing and maintenance of recipes |
| ITBO20010030A1 (it) * | 2001-01-23 | 2002-07-23 | Gd Spa | Metodo ed unita' per effettuare un cambio di configurazione in una macchina operatrice automatica |
| KR20020065275A (ko) | 2001-02-06 | 2002-08-13 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 제조 장비의 설정 상태를 전산으로 관리하는 방법 |
| US7337019B2 (en) * | 2001-07-16 | 2008-02-26 | Applied Materials, Inc. | Integration of fault detection with run-to-run control |
| JP2003046299A (ja) * | 2001-08-02 | 2003-02-14 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 回路基板作業システムおよび状態設定方法 |
| US20030098798A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-05-29 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Manufacturing system, and apparatus and system for administering the manufacturing system |
| JP2003140715A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-16 | Toshiba Mach Co Ltd | 数値制御装置 |
| JP4036642B2 (ja) * | 2001-12-20 | 2008-01-23 | 富士機械製造株式会社 | 対回路基板作業機 |
| KR100595440B1 (ko) * | 2002-01-21 | 2006-07-03 | 삼성전자주식회사 | 화면차단기능을 갖는 디스플레이시스템 및 그 제어방법 |
| KR20020035044A (ko) | 2002-03-13 | 2002-05-09 | 신동우 | 인터넷을 이용한 인증교육방법 및 인증교육시스템 |
| JP4196584B2 (ja) * | 2002-03-18 | 2008-12-17 | 富士機械製造株式会社 | 管理調整モードプロテクション機能を備えた回路基板製造装置及びその運転方法 |
| US20030222905A1 (en) * | 2002-06-04 | 2003-12-04 | Argonaut Technologies, Inc. | Recipe recorder for automated chemistry |
| JP4019907B2 (ja) * | 2002-11-14 | 2007-12-12 | セイコーエプソン株式会社 | リサイクル作業支援システム、リサイクルセンタ設備、情報管理センタ設備及び設備用プログラム、並びにリサイクル作業支援方法 |
| JP2005056301A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Fujitsu Ltd | 端末管理方法、プログラム及び装置 |
| JP2005294460A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置 |
| US20060009943A1 (en) * | 2004-07-09 | 2006-01-12 | Jay Keck | Method and system for managing, analyzing and automating data in the production of semiconductor wafers and for monitoring the production process |
| JP4669681B2 (ja) | 2004-08-24 | 2011-04-13 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置 |
| US7364922B2 (en) * | 2005-01-24 | 2008-04-29 | Tokyo Electron Limited | Automated semiconductor wafer salvage during processing |
| US7477960B2 (en) * | 2005-02-16 | 2009-01-13 | Tokyo Electron Limited | Fault detection and classification (FDC) using a run-to-run controller |
| US20070038324A1 (en) * | 2005-08-11 | 2007-02-15 | Asm Japan K.K. | Recipe operation using group function and/or subroutine function |
| JP2007109967A (ja) | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Tokyo Electron Ltd | 半導体処理装置 |
| JP4839101B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2011-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理条件検討方法及び記憶媒体 |
| JP4697878B2 (ja) | 2006-04-28 | 2011-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | プロセス情報管理装置、およびプログラム |
-
2007
- 2007-08-07 JP JP2007205108A patent/JP5224744B2/ja active Active
- 2007-10-01 KR KR1020070098631A patent/KR101192674B1/ko active Active
- 2007-10-02 US US11/905,582 patent/US8806370B2/en active Active
-
2011
- 2011-03-25 KR KR1020110026870A patent/KR101046260B1/ko active Active
-
2012
- 2012-04-20 KR KR1020120041363A patent/KR101297131B1/ko active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101192674B1 (ko) | 2012-10-19 |
| KR20110036725A (ko) | 2011-04-08 |
| US8806370B2 (en) | 2014-08-12 |
| KR20120087865A (ko) | 2012-08-07 |
| JP2008112968A (ja) | 2008-05-15 |
| KR101297131B1 (ko) | 2013-08-14 |
| KR101046260B1 (ko) | 2011-07-04 |
| KR20080031624A (ko) | 2008-04-10 |
| US20080178119A1 (en) | 2008-07-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5224744B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR101031539B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 시스템 | |
| KR101075128B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| TWI427446B (zh) | 基板處理系統、群管理裝置、群管理裝置的異常檢測方法、群管理裝置的顯示方法 | |
| JPWO2011115249A1 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2014138158A (ja) | 基板処理装置及びその制御方法並びに編集プログラム | |
| US8510790B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
| JP5622334B2 (ja) | 基板処理装置及びその制御方法並びにプログラム | |
| JP4734185B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理装置の制御方法 | |
| JP6018369B2 (ja) | 基板処理システム、管理装置及び基板処理システムにおける表示方法 | |
| KR101132291B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 시스템 | |
| JP2010153602A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2010102430A (ja) | 基板処理システム | |
| JP2011135090A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2008078351A (ja) | 基板処理システム | |
| JP2025035062A (ja) | 表示処理装置、基板処理装置、表示方法、基板処理方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム | |
| JP2024149274A (ja) | 制御装置、基板処理装置、半導体装置の製造方法、及びプログラム | |
| JP2008053603A (ja) | 基板処理システム | |
| JP2010147034A (ja) | 基板処理システム | |
| JP2013102037A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2011204865A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2010027983A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2012104701A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090928 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120628 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120802 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121101 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130124 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130131 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130220 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130312 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5224744 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160322 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |