JP2006073168A - フラッシュメモリ素子及びこれを用いたフラッシュメモリセルの消去方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フラッシュメモリ素子は、多数のセルが直列連結された多数のセルストリングを含み、前記セルストリングそれぞれに1本のビットラインが割り当てられ、前記多数のセルのうち1本のワードラインを共有する多数のセルがページを構成する多数のセルブロックと、ブロックアドレスに応じて前記セルブロックを選択するためのブロック選択回路と、ページアドレス及びページ消去信号に応じて前記セルブロック単位の消去または前記ページ単位の消去による多数のグローバルワードラインのバイアスを決定するためのプリデコーダと、前記ブロック選択回路の出力信号に応じて前記セルブロックのワードラインに前記グローバルワードラインを介して所定のバイアスを印加するためのスイッチング部とを含む。
【選択図】図1
Description
選択信号selは高レベルで印加され、ページ消去信号PageEraseは低レベルで印加される。NORゲート410は、高レベルの選択信号selと、第1インバータ420を介して高レベルに反転されたページ消去信号Page Eraseとを入力して低レベルの信号を出力する。低レベルのNORゲート410の出力信号によって、第2ブースティングスダン460はディスエーブルされ、低レベルのNORゲート410の出力信号が第2インバータ430を介して高レベルに反転された信号によって、第1ブースティング手段440はイネーブルされる。したがって、第1NMOSトランジスタ450がターンオンされてグローバルワードラインGWLへ選択電圧Vselが供給される。この際、選択されたセルブロックに連結された多数(複数)のパストランジスタがターンオンされるため、選択電圧Vselは選択されたセルブロックに印加される。
選択信号selは低レベルで印加され、ページ消去信号PageEraseは低レベルで印加される。NORゲート410は、低レベルの選択信号selと、第1インバータ420を介して高レベルに反転されたページ消去信号Page Eraseとを入力して低レベルの信号を出力する。低レベルのNORゲート410の出力信号によって、第2ブースティング手段460はディスエーブルされ、低レベルのNORゲート410の出力信号が第2インバータ430を介して高レベルに反転された信号によって、第1ブースティング手段440はイネーブルされる。したがって、第1NMOSトランジスタ450がターンオンされてグローバルワードラインGWLに選択電圧Vselが供給される。ところが、この際、選択されていないセルブロックに連結されたパストランジスタがターンオフされるため、選択電圧Velは選択されていないセルブロックに印加されない。
選択信号selは高レベルで印加され、ページ消去信号PageEraseは高レベルで印加される。NORゲート410は、高レベルの選択信号selと、第1インバータ420を介して低レベルに反転されたページ消去信号Page Eraseとを入力して低レベルの信号を出力する。低レベルのNORゲート410の出力信号によって、第2ブースティング手段460はディスエーブルされ、低レベルのNORゲート410の出力信号が第2インバータ430を介して高レベルに反転された信号によって、第1ブースティング手段440はイネーブルされる。したがって、第1NMOSトランジスタ450がターンオンされてグローバルワードラインGWLへ選択電圧Vselが供給される。この際、選択されたセルブロックに連結された多数(複数)のパストランジスタがターンオンされるため、選択電圧Vselは選択されたセルブロックの選択されたページに印加される。
選択信号selは低レベルで印加され、ページ消去信号PageEraseは高レベルで印加される。NORゲート410は、低レベルの選択信号selと、第1インバータ420を介して低レベルに反転されたページ消去信号Page Eraseとを入力して高レベルの信号を出力する。高レベルのNORゲート410の出力信号によって、第2ブースティング手段460はイネーブルされ、高レベルのNORゲート410の出力信号が第2インバータ430を介して低レベルに反転された信号によって、第1ブースティング手段440はディスエーブルされる。したがって、第2NMOSトランジスタ470がターンオンされて非選択電圧VunselがグローバルワードラインGWLに供給される。この際、選択されたセルブロックに連結された多数(複数)のパストランジスタがターンオンされるため、非選択電圧Vunselは選択されたセルブロックの選択されていないページに印加される。
110a及び110b セルストリング
120a及び120b ドレイン選択トランジスタ
130a及び130b ソース選択トランジスタ
140a及び140b ページ
200 ローデコーダ
210 プリデコーダ
220 ブロック選択回路
230 パストランジスタ
240a及び240b ドレイン選択用高電圧トランジスタ
250a及び250b セル選択用高電圧トランジスタ
260a及び260b ソース選択用高電圧トランジスタ
Claims (12)
- 複数のメモリセルが直列連結された複数のセルストリングを含み、前記セルストリングそれぞれに1本のビットラインが割り当てられ、前記複数のメモリセルのうち1本のワードラインを共有する複数のメモリセルがページを構成する複数のセルブロックと、
ブロックアドレスに応じて前記セルブロックを選択するためのブロック選択回路と、
ページアドレス及びページ消去信号に応じて前記セルブロック単位の消去または前記ページ単位の消去による複数のグローバルワードラインのバイアスを決定するためのプリデコーダと、
前記ブロック選択回路の出力信号に応じて前記セルブロックのワードラインに前記グローバルワードラインを介して所定のバイアスを印加するためのスイッチング部とを含むフラッシュメモリ素子。 - 前記セルブロックは、前記セルストリングと前記ビットラインとの間に接続されたドレイン選択トランジスタと、
前記セルストリングと前記共通ソースラインとの間に接続されたソース選択トランジスタをさらに含むことを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子。 - 前記プリデコーダは、前記ページアドレスに応じて複数の選択信号を選択的に出力するためのワードラインデコーダと、
前記ページ消去信号と前記それぞれの選択信号を入力して前記セルブロック単位の消去または前記ページ単位の消去による所定のバイアスを前記複数のグローバルワードラインそれぞれを介して印加するための複数のワードラインスイッチとを含むことを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子。 - 前記ワードラインスイッチは、前記選択信号と前記ページ消去信号の反転信号を入力するための論理手段と、
前記論理手段の反転された出力信号に応じて、選択されたセルブロックまたはページが消去されるようにするための第1電圧を前記グローバルワードラインへ出力するための第1スイッチと、
前記論理手段の出力信号に応じて、選択されていないセルブロックまたはページが消去されないようにするための第2電圧を前記グローバルワードラインへ出力するための第2スイッチとを含むことを特徴とする請求項3記載のフラッシュメモリ素子。 - 前記論理手段はNORゲートを含むことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子。
- 前記第1電圧は0Vであり、前記第2電圧は電源電圧以上であることを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子。
- 前記ワードラインスイッチは、論理手段の反転された出力信号に応じて第1ブースティング信号を出力して前記第1スイッチを駆動させるための第1ブースティング手段と、
前記論理手段の出力信号に応じて第2ブースティング信号を出力して前記第2スイッチを駆動させるための第2ブースティング手段とをさらに含むことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子。 - 前記スイッチング部は、
ドレイン選択トランジスタと前記プリデコーダとの間に接続されたドレイン選択用トランジスタと、
前記メモリセルのワードラインとグローバルワードラインとの間にそれぞれ接続された複数のセル選択用トランジスタと、
ソース選択トランジスタと前記プリデコーダとの間に接続されたソース選択用トランジスタとを含むことを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子。 - 複数のセルが直列連結された複数のセルストリングを含み、前記セルストリングそれぞれに1本のビットラインが割り当てられ、前記複数のセルのうち1本のワードラインを共有する複数のセルがページを構成し、前記セルストリングとビットラインとの間にドレイン選択トランジスタが接続され、前記セルストリングと共通ソースラインとの間にソース選択トランジスタが接続された複数のセルブロックと、
ブロックアドレスに応じて前記セルブロックを選択するためのブロック選択回路と、
ページアドレス及びページ消去信号に応じて前記セルブロック単位の消去または前記ページ単位の消去による複数のグローバルワードラインのバイアスを決定するためのプリデコーダと、
前記ブロック選択回路の出力信号に応じて前記セルブロックのワードラインに前記グローバルワードラインを介して所定のバイアスを印加するためのスイッチング部とを含むフラッシュメモリ素子が提供され、
前記ブロックアドレスに応じてセルブロックを選択した後、前記ページアドレス及びページ消去信号に応じて前記セルブロックまたはページ単位の消去によるバイアスを、前記グローバルワードライン及び前記スイッチング部を介して、選択されたセルブロックまたはページのワードラインに印加して消去することを特徴とするフラッシュメモリセルの消去方法。 - 前記選択されたセルブロックのビットライン及びソースをフローティングさせた後、前記スイッチング部をイネーブルさせて前記ドレイン選択トランジスタ及び前記ソース選択トランジスタに第2電圧を印加し、前記ワードラインに第1電圧を印加して消去を行うことを特徴とする請求項9記載のフラッシュメモリセルの消去方法。
- 前記選択されていないセルブロックのビットライン及びソースをフローティングさせた後、前記スイッチング部をディスエーブルさせて前記ドレイン選択トランジスタ及び前記ソース選択トランジスタをフローティングさせ、選択されていないセルブロックのワードラインに電源が印加されないようにして消去が行われないようにすることを特徴とする請求項9記載のフラッシュメモリセルの消去方法。
- 前記選択されたセルブロックのビットライン及びソースをフローティングさせ、前記スイッチング部をイネーブルさせて前記ドレイン選択トランジスタ及び前記ソース選択トランジスタに第2電圧を供給した後、選択されたページのワードラインに第1電圧を供給し、選択されていないページのワードラインに前記第2電圧を供給して、選択されたページのみ消去を行うことを特徴とする請求項9記載のフラッシュメモリセルの消去方法。
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