JPH11265592A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH11265592A
JPH11265592A JP6517698A JP6517698A JPH11265592A JP H11265592 A JPH11265592 A JP H11265592A JP 6517698 A JP6517698 A JP 6517698A JP 6517698 A JP6517698 A JP 6517698A JP H11265592 A JPH11265592 A JP H11265592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
output
signal
outputs
gates
gate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6517698A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3227698B2 (ja
Inventor
Satoru Oku
悟 奥
Hiroyuki Obata
弘之 小畑
Masateru Kaneko
真輝 金子
Masakazu Amauchi
正和 天内
Kazuaki Kato
一明 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP6517698A priority Critical patent/JP3227698B2/ja
Priority to DE19911101A priority patent/DE19911101C2/de
Priority to US09/267,665 priority patent/US6111792A/en
Priority to CN99103333A priority patent/CN1229996A/zh
Priority to KR1019990008731A priority patent/KR100329881B1/ko
Publication of JPH11265592A publication Critical patent/JPH11265592A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3227698B2 publication Critical patent/JP3227698B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/08Address circuits; Decoders; Word-line control circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/12Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】特別な構成を増加することなく、一括書込みや
一括消去に要する時間が短縮でき、チップ面積を小さく
することが可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 不揮発性半導体記憶装置は、メモリセル
に対する書込み又は消去を一括に行うためのチップ全体
選択信号CPを出力するモード信号出力回路23と、チ
ップ全体選択信号CPの出力にタイミングを合わせて、
書込み又は消去を一括に行うべきメモリセルのワード線
WLに対応するロウデコーダ群RDを選択するワード線
群選択信号Bを出力する群選択信号出力回路19とを備
えている。不揮発性半導体記憶装置は更に、ワード線群
選択信号Bに従って、このワード線群選択信号Bに対応
するワード線WLを管理するロウデコーダ群RDを選択
するブロック選択用プリデコーダ11と、ブロック選択
用プリデコーダ11によって選択されたロウデコーダ群
RDが管理する複数のワード線WLから、書込み又は消
去を一括に行うべきメモリセルに対応するワード線WL
を選択するブロック内選択用プリデコーダ12とを備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラッシュ型EE
PROM等の不揮発性半導体記憶装置に関し、特に、不
揮発性半導体記憶装置におけるワード線の群選択機能に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来のフラッシュ型EEPROMは、複
数のワード線と複数のビット線との各交差部分に、複数
の不揮発性メモリセルが行列状に配設されてメモリセル
アレイを構成している。このようなEEPROMでは、
行方向に延在する各ワード線を介して各メモリセルアレ
イに接続されるロウデコーダと、ワード線と直交するソ
ース線及びビット線を介して各メモリセルアレイに接続
される書込み回路とを備える。
【0003】EEPROMには、メモリセルアレイが、
第1及び第2のセレクトトランジスタと、メモリセルを
構成するセルトランジスタとを備え、第1及び第2のセ
レクトトランジスタの各ゲートにワード線が夫々接続さ
れる構成を有するものがある。第1のセレクトトランジ
スタは、電流路の一端がソース線に接続され、他端がセ
ルトランジスタのコントロールゲートに接続される。第
2のセレクトトランジスタは、電流路の一端がビット線
に接続され、他端がセルトランジスタの電流路の一端に
接続される。ロウデコーダは、供給されるアドレス信号
に従ってワード線を選択し、書込み回路は、所定の信号
に従ってソース線及びビット線を選択する。
【0004】上記従来のEEPROMでは、書込みモー
ドが選択されたとき、選択されたメモリセルのセレクト
トランジスタのゲートがワード線を介してハイ(HIGH)
にバイアスされてオンとなる。この際に、書込み回路
が、ソース線を介して第1のセレクトトランジスタの電
流路の一端を例えば0Vにバイアスするので、セルトラ
ンジスタのコントロールゲートが0Vにバイアスされ
る。同時に、書込み回路がビット線を介して第2のセレ
クトトランジスタの電流路の一端をHIGHにバイアスする
ので、セルトランジスタのドレインがやや低いHIGHにバ
イアスされ、フローティングゲートから電荷が引き抜か
れて書込みが行われる。
【0005】消去モードが選択されたとき、選択された
メモリセルにおける第1及び第2のセレクトトランジス
タは、双方のゲートがワード線を介してHIGHにバイアス
されてオンとなる。この際に、書込み回路がソース線を
介して第1のセレクトトランジスタの電流路の一端をHI
GHにバイアスするので、セルトランジスタのコントロー
ルゲートがやや低いHIGHにバイアスされる。このとき、
書込み回路がビット線を介して第2のセレクトトランジ
スタの電流路の一端を例えば0Vにバイアスするので、
第2のセレクトトランジスタを介してセルトランジスタ
の電流路の一端が0Vにバイアスされる。これにより、
第1のセルトランジスタのフローティングゲートに電荷
が注入されて一括消去が行われる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のEEPRO
Mでは、フローティングゲートに対する電荷の引抜き又
は注入によって書込み又は消去を行うことに起因し、書
込みや消去に要する時間は、読出しに要する時間に比し
て長く、また、DRAM(Dynamic RAM)やSRAM(Stat
ic RAM)の読出しに比しても長い。例えば、1ワードの
書込み又は消去に要する時間は、DRAMやSRAMで
は数nsec程度で足りるが、EEPROMでは数μsec程
度かかる。また、一括消去は、1sec程度で処理するこ
とが可能であるが、一括書込みは、特別な構成を備えな
い限り、処理が困難である。
【0007】EEPROMでは、出荷にあたって、全て
のビット(例えば1Mビット)におけるメモリセルが正
常に動作するか否かを検査するが、この検査には、数十
秒程度の時間が必要になるため、製品のコストアップに
繋がる。従って、特別な構成を備えることなく、一括書
込みや一括消去、或いは、出荷時の検査に要する時間を
短縮できる機能を備えるEEPROMの実現が切望され
る。
【0008】ところで、EEPROMでは、書込み又は
消去を一括に行う場合には、高電圧を印加する必要があ
る。このため、使用されるトランジスタの耐圧を高く
し、或いは、昇圧回路の電流駆動能力を大きくする等の
必要が生じ、昇圧回路や制御回路を構成する各トランジ
スタのサイズが大型化し、チップ面積の増大を招く。そ
こで、昇圧回路の電流駆動能力を小さくしてチップ面積
を小さくしようとすると、書込みや消去に要する時間が
長くなる。上記の問題は、近年記憶容量が増大する傾向
にあるためますます顕著になってきている。
【0009】特開平6-96592号公報には、しきい電圧を
上げた後に消去を行う構成の不揮発性半導体記憶装置が
記載されている。この公報に記載の不揮発性半導体記憶
装置では、全メモリセル(全ビット)の消去時に、一括
消去に先立って一括書込みを行ことにより、記憶状態に
よっては過消去の状態が生じる不具合を回避する。この
実現のため、一括書込み時の動作を制御する第1の一括
書込み回路と、一括書込み時の高電圧を供給する高電圧
・大電流発生回路としての第2の一括書込み回路とを個
別に備え、ブロック単位で一括書込みを実行する。
【0010】上記公報では、FNトンネリング方式の書
込み方式を採用し、書込み電圧が高電圧側でも18Vに
なるように設定して、書込み電流を低減する。このよう
な不揮発性半導体記憶装置では、ブロック選択トランジ
スタが、各ワード線毎に必要になるので、チップ面積が
増大する。また、ブロック選択トランジスタのゲートに
印加される電圧には、書込み電圧にブロック選択トラン
ジスタのしきい電圧分を加えた以上の高電圧が必要であ
る。この高電圧を供給する第1の一括書込み回路は、分
割されたブロック数分が必要になるため、チップ面積の
増大に繋がる。
【0011】特開平5-325576号公報には、メモリセルを
複数のブロック毎にまとめて消去する構成の不揮発性半
導体記憶装置が記載されている。この不揮発性半導体記
憶装置では、複数ブロックの一括消去によって消去時間
を短縮するために、ロウメインデコーダの出力段に配設
した消去情報保持手段としてのラッチ回路と、このラッ
チ回路の出力を受けるブロック消去手段としてのロウサ
ブデコーダとを備え、ラッチ回路に設定された情報に従
って、複数のブロックを一括に消去する。しかし、この
ような構造では、ラッチ回路のリセット動作がその都度
必要であると共に、ブロックアドレス・ラッチ動作と消
去動作とがシーケンシャルに設定されなければならず、
一括消去すべきメモリセルのブロック設定に長時間を要
する。
【0012】本発明は、上記に鑑み、特別な構成を増加
することなく、一括書込みや一括消去に要する時間が短
縮でき、チップ面積を小さくすることが可能な不揮発性
半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の不揮発性半導体記憶装置は、複数の不揮発
性メモリセルが複数のワード線及びビット線に対応して
配設され、前記複数のワード線を所定数毎に管理する複
数のロウデコーダ群を有するロウデコーダを備えた不揮
発性半導体記憶装置において、前記メモリセルに対する
書込み又は消去を一括に行うためのモード信号を出力す
るモード信号出力手段と、前記モード信号の出力にタイ
ミングを合わせて、書込み又は消去を一括に行うべきメ
モリセルのワード線に対応するロウデコーダ群を選択す
る群選択信号を出力する群選択信号出力手段と、前記群
選択信号に従って、該群選択信号に対応するワード線を
管理するロウデコーダ群を選択する第1の選択手段と、
前記第1選択手段によって選択されたロウデコーダ群が
管理する複数のワード線から、書込み又は消去を一括に
行うべきメモリセルに対応するワード線を選択する第2
の選択手段とを備えることを特徴とする。
【0014】本発明の不揮発性半導体記憶装置では、ア
ドレスデコーダに第1の選択手段を設けたので、電源電
圧で動作する論理素子で回路を構成することが可能にな
り、例えば、ソース・ドレイン間の耐圧が低くチャネル
長が短いトランジスタを使用して、チップ面積を小型化
することが可能になる。また、書込み又は消去を一括に
行うべきブロックを予め保持することが不要で、アドレ
スを変化させるだけで、処理すべきブロックの選択を実
行することができる。これにより、特別な構成を備える
ことなく、複数ブロックの一括書込み又は一括消去に要
する時間を短縮することができる。更に、一括書込み又
は一括消去の対象となるブロック数の設定は、モードの
設定時に1回のみ行えばよく、従って、不要なプログラ
ムシーケンスを削減し、所要時間を短縮することができ
る。
【0015】ここで、第1及び第2の選択手段に上位ア
ドレス信号及び下位アドレス信号を所定のタイミングで
夫々出力するアドレス出力手段を更に備えることが好ま
しい。これにより、所望のアドレスの設定処理を容易に
行うことが可能になる。
【0016】更に好ましくは、第1の選択手段が、群選
択信号に従って、上位アドレス信号で指定されるロウデ
コーダ群に出力する上位アドレスデコード出力における
下位ビットをマスクするマスク手段を備える。これによ
り、装置構成の簡素化が可能になる。
【0017】また、第1の選択手段が、モード信号及び
群選択信号の論理積を出力する複数の第1ANDゲート
と、入力された上位アドレス信号の反転出力又は非反転
出力を一方の入力、第1ANDゲートの出力を他方の入
力とする複数のORゲートと、複数のORゲートの各出
力の内の対応する出力相互の論理積を上位アドレスデコ
ード出力として夫々出力する複数の第2ANDゲートと
を備えることが好ましい。これにより、第1の選択手段
を簡単な回路構成で実現することができる。
【0018】第2の選択手段が、モード信号に従って、
下位アドレス信号で指定されるロウデコーダ群に出力す
る下位アドレスデコード出力をマスクするマスク手段を
備えることが好ましい。これにより、装置構成の簡素化
が可能になる。
【0019】更に好ましくは、マスク手段が、下位アド
レスデコード出力を全てマスクする第1の設定と、特定
の出力をマスクする第2の設定とを切り替える手段を備
える。これにより、例えば、1つ飛びのワード線単位で
書込みを行うことが可能になるので、隣接メモリセルへ
の誤書込み(ディスターブ)に関する試験を高速に行う
ことが可能になる。
【0020】好適には、第2の選択手段が、入力された
下位アドレス信号の反転出力又は非反転出力を一方の入
力、モード信号を他方の入力とする複数のORゲート
と、複数のORゲートの各出力の内の対応する出力相互
の論理積を夫々出力する複数のANDゲートと、AND
ゲートの出力に従って、デコード電圧を切り換えつつ下
位アドレスデコード出力として出力するデコード電圧切
換え回路とを備える。この場合に、第2の選択手段を簡
単な回路構成で実現することができる。
【0021】或いは、上記に代えて、第2の選択手段
が、入力されたチェッカーモード信号の反転信号及びモ
ード信号の論理積を出力する第1ANDゲートと、入力
された下位アドレス信号の反転出力又は非反転出力を一
方の入力、第1ANDゲートの出力を他方の入力とする
複数のORゲートと、複数のORゲートの各出力の内の
対応する出力相互の論理積を夫々出力する複数の第2A
NDゲートと、第2ANDゲートの各出力に従って、デ
コード電圧を切り換えつつ下位アドレスデコード出力と
して出力するデコード電圧切換え回路とを備えることも
好ましい態様である。これにより、第2の選択手段が簡
単な回路構成から実現可能になる。
【0022】更に、上記に代えて、第2の選択手段が、
入力された下位アドレス信号の反転出力及び非反転出力
の内の対応する出力相互の論理積を夫々出力する複数の
ANDゲートと、ANDゲートの出力を一方の入力、モ
ード信号を他方の入力とする複数のORゲートと、OR
ゲートの出力に従って、デコード電圧を切り換えつつ下
位アドレスデコード出力として出力するデコード電圧切
換え回路とを備えることも好ましい態様である。これに
より、第2の選択手段が簡単な回路構成から実現可能に
なる。
【0023】
【発明の実施の形態】図面を参照して本発明を更に詳細
に説明する。図1は、本発明の一実施形態例に係る不揮
発性半導体記憶装置のロウデコーダにおける要部を示す
ブロック図である。本実施形態例の不揮発性半導体記憶
装置は、32個のメモリブロックに分割され、各メモリ
ブロックは32本のワード線を有しているとして説明す
る。ロウデコーダは、モード信号出力回路23と、群選
択信号出力回路19と、アドレス出力回路18と、ブロ
ック選択用プリデコーダ11と、ブロック内選択用プリ
デコーダ12と、ブロック選択用プリデコーダ11及び
ブロック内選択用プリデコーダ12に接続される複数の
ロウデコーダ群RD0〜RD31とを備えている。
【0024】モード信号出力回路23は、メモリセルに
対する書込み又は消去を一括に行うためのチップ全体選
択信号(モード信号)CPを出力する機能を有する。
【0025】群選択信号出力回路19は、k本の選択信
号線15を介してブロック選択用プリデコーダ11に接
続されており、チップ全体選択信号CPの出力にタイミ
ングを合わせて、ブロック選択用プリデコーダ11に対
してワード線群選択信号(群選択信号)を出力する。こ
のワード線群選択信号は、書込み又は消去を一括に行う
べきメモリセルのワード線WLに対応するロウデコーダ
群の選択数を指定する信号である。なお、本実施形態例
では、上位アドレス信号線のm本と下位アドレス信号線
のj本との和がnになる。
【0026】アドレス信号出力回路18は、m本の上位
アドレス信号線14を介してブロック選択用プリデコー
ダ(第1の選択手段)11に接続され、j本の下位アド
レス信号線16を介してブロック内選択用プリデコーダ
(第2の選択手段)12に接続される。アドレス信号出
力回路18は、ブロック選択用プリデコーダ11に対し
て上位アドレス信号を、ブロック内選択用プリデコーダ
12に対して下位アドレス信号を夫々所定のタイミング
で出力する。
【0027】ブロック選択用プリデコーダ11は、ワー
ド線群選択信号に従って、この群選択信号に対応するワ
ード線WLを管理するロウデコーダ群RDを選択するも
ので、32本の上位アドレスデコード出力線13を介し
て、対応するロウデコーダ群RD031に接続されると
共に、モード信号出力回路23から出力されるチップ全
体選択信号CPが入力される。チップ全体選択信号CP
は、出力されるビット値の違いによりブロック選択モー
ドを許可するか否かを選択する。ブロック選択用プリデ
コーダ11は、チップ全体選択信号CPが第1ビット値
のとき、上位アドレス信号で指定されたロウデコーダ群
を始めとしてそれに後続するロウデコーダ群び対応する
上位アドレスデコード出力線13を活性化(選択)す
る。ブロック選択用プリデコーダ11は更に、ワード線
群選択信号に従って、ロウデコーダ群RDに出力する上
位アドレスデコード出力における下位ビットをマスクす
る機能(マスク手段)を備える。
【0028】ブロック内選択用プリデコーダ12は、ブ
ロック選択用プリデコーダ11によって選択されたロウ
デコーダ群RDが管理する複数のワード線WLから、書
込み又は消去を一括に行うべきメモリセルに対応するワ
ード線WLを選択するもので、下位アドレスデコード出
力線17を介して、対応するロウデコーダ群RDに接続
されると共に、モード信号出力回路23からチップ全体
選択信号CPが入力される。つまり、ブロック内選択用
プリデコーダ12は、チップ全体選択信号(モード信
号)CPが第2のビット値のとき、ブロック選択用プリ
デコーダ11によって選択されたロウデコーダ群RDに
対応する所定数の下位アドレスデコード出力線17を一
括して活性化する。ブロック内選択用プリデコーダ12
は更に、チップ全体選択信号CPに従って、下位アドレ
ス信号で指定されるロウデコーダ群RDに出力する下位
アドレスデコード出力をマスクする機能(マスク手段)
を備える。このマスク機能は、下位アドレスデコード出
力を全てマスクする第1の設定と、特定の出力をマスク
する第2の設定とを切り替える。
【0029】ロウデコーダ群RD0は、ブロック選択用
プリデコーダ11から上位アドレスデコード出力XS
(0)を入力し、ブロック内選択用プリデコーダ12か
ら下位アドレスデコード出力XSPP(0)〜XSPP
(31)を入力して、対応するワード線WL(0)〜W
L(31)に活性化信号を出力する。ロウデコーダ群R
1は、上位アドレスデコード出力XS(1)を入力
し、下位アドレスデコード出力XSPP(0)〜XSP
P(31)を入力して、対応するワード線WL(32)
〜WL(63)に活性化信号を出力する。ロウデコーダ
群RD31は、上位アドレスデコード出力XS(31)を
入力し、下位アドレスデコード出力XSPP(0)〜X
SPP(31)を入力して、対応するワード線WL(2
n−32)〜WL(2n−1)に活性化信号を出力する。
【0030】図2は、図1におけるロウデコーダ群をよ
り詳細に示すブロック図である。ロウデコーダ群RD0
31は、相互に同様の構成を備えているので、ここでは
ロウデコーダ群RD0について説明する。ロウデコーダ
群RD0は、ロウメインデコーダRMD0〜RMD31と、
信号線21及び22を介して各ロウメインデコーダRM
0〜RMD31に夫々接続されるロウサブデコーダ20
とを備える。
【0031】ロウサブデコーダ20は、ブロック選択用
プリデコーダ11から上位アドレスデコード出力XS
(0)が入力されると、信号線21を介してサブデコー
ダ信号の非反転値XBを、信号線22を介してサブデコ
ーダ信号の反転値(以下、/XBと記載する)を、対応
するロウメインデコーダRMD0〜RMD31に夫々出力
する。各ロウメインデコーダRMD0〜RMD31には、
夫々、下位アドレスデコード出力XSPP(0〜31)
の内の対応する出力が入力される。これにより、各ロウ
メインデコーダRMD0〜RMD31は、夫々、対応する
ワード線WL(0)〜WL(31)に活性化信号を出力
する。
【0032】図3は、ブロック選択用プリデコーダ11
の一構成例を示す等価回路図である。以下の説明では、
不揮発性半導体記憶装置は4つのメモリブロックに分割
され、各メモリブロックは4つのワード線を有している
として説明する。図3において、上位アドレス信号線の
数mは2本であり、アドレス信号としてA(3)とA
(2)が入力される。ブロック選択用プリデコーダ11
は、インバータ35、36と、ANDゲート37、38
と、ORゲート25〜28と、ANDゲート30〜33
とを備える。ANDゲート30〜33は、2入力のAN
D回路であり、入力信号線上における白丸が付いている
交点の信号が入力される。
【0033】インバータ35は、アドレス信号出力回路
18からアドレス信号入力端子24aに入力された上位
アドレス信号A(2)を反転してORゲート25の一方
の端子に与える。インバータ36は、アドレス信号出力
回路18からアドレス信号入力端子24bに入力された
上位アドレス信号A(3)を反転してORゲート27の
一方の端子に与える。ORゲート26、28双方の一方
の端子には、上位アドレス信号A(2)及びA(3)の
非反転値が夫々与えられる。
【0034】ANDゲート37は、モード信号出力回路
23からのチップ全体選択信号CPと、群選択信号出力
回路19からのワード線群選択信号B2とを夫々入力
し、その出力である論理積をORゲート25、26双方
の他方の端子に夫々与える。ANDゲート38は、チッ
プ全体選択信号CPとワード線群選択信号B4とを夫々
入力し、その出力である論理積をORゲート27、28
双方の他方の端子に夫々与える。ここで、ワード線群選
択信号B2は、2つのブロックを選択するとき“H”に
なり、ワード線群選択信号B4は、4つのブロックを選
択するとき“H”になる。
【0035】ANDゲート30は、ORゲート26及び
28双方から出力された論理和を夫々入力し、その論理
積を上位アドレスデコード出力XS(3)として出力す
る。ANDゲート31は、ORゲート25及び28双方
から出力された論理和を夫々入力し、その論理積を上位
アドレスデコード出力XS(2)として出力する。AN
Dゲート32は、ORゲート26及び27双方から出力
された論理和を夫々入力し、その論理積を上位アドレス
デコード出力XS(1)として出力する。ANDゲート
33は、ORゲート25及び27双方から出力された論
理和を夫々入力し、その論理積を上位アドレスデコード
出力XS(0)として出力する。
【0036】ここで、ブロック選択しない場合のブロッ
ク選択用プリデコーダ11の動作を、表1の真理値表を
参照して説明する。この真理値表は、チップ全体選択信
号CPがLOW(L)の場合における各出力を示す。上位
アドレス信号A(2)及びA(3)の双方がLOWのとき
には、ORゲート25〜28の各出力は、順にHIGH
(H)、LOW、HIGH、LOWになり、被選択出力である上位
アドレスデコード出力XS(0)がHIGHになり、上位ア
ドレスデコード出力XS(1)〜XS(3)はLOWであ
る。上位アドレス信号A(2)がHIGH且つ上位アドレス
信号A(3)がLOWのときには、ORゲート25〜28
の各出力は、順にLOW、HIGH、HIGH、LOWになり、被選択
出力である上位アドレスデコード出力XS(1)がHIGH
になり、上位アドレスデコード出力XS(0)、XS
(2)、XS(3)はLOWである。上位アドレス信号A
(2)がLOW且つ上位アドレス信号A(3)がHIGHのと
きには、ORゲート25〜28の各出力は、順にHIGH、
LOW、LOW、HIGHになり、被選択出力である上位アドレス
デコード出力XS(2)がHIGHになる。上位アドレス信
号A(2)及びA(3)の双方がHIGHのときには、OR
ゲート25〜28の各出力は、順にLOW、HIGH、LOW、HI
GHになり、被選択出力である上位アドレスデコード出力
XS(3)がHIGHになる。このように、上位アドレス信
号A(3)、A(2)に対応して、1つのデコード出力
XS(i)が選択される。
【0037】
【表1】
【0038】次に、2つのブロックを同時に選択する場
合を説明する。表2の真理値表は、チップ全体選択信号
CPがHIGH、且つ、ワード線群選択信号B2がHIGHの場
合における各出力を示す。上位アドレス信号A(2)及
びA(3)の双方がLOWのときには、ORゲート25〜
28の各出力は、順にHIGH、HIGH、HIGH、LOWになり、
被選択出力である上位アドレスデコード出力XS
(0)、XS(1)がHIGHになり、上位アドレスデコー
ド出力XS(2)、XS(3)がLOWになる。上位アド
レス信号A(2)がHIGH且つ上位アドレス信号A(3)
がLOWのときには、ORゲート25〜28の各出力は、
順にHIGH、HIGH、HIGH、LOWになり、被選択出力である
上位アドレスデコード出力XS(0)、XS(1)がHI
GHになり、上位アドレスデコード出力XS(2)、XS
(3)はLOWになる。
【0039】上位アドレス信号A(2)がLOW且つ上位
アドレス信号A(3)がHIGHのときには、ORゲート2
5〜28の各出力は、順にHIGH、HIGH、LOW、HIGHにな
り、被選択出力である上位アドレスデコード出力XS
(2)、XS(3)がHIGHになり、上位アドレスデコー
ド出力XS(0)、XS(1)はLOWになる。上位アド
レス信号A(2)及びA(3)の双方がHIGHのときに
は、ORゲート25〜28の各出力は、順にHIGH、HIG
H、LOW、HIGHになり、被選択出力である上位アドレスデ
コード出力XS(2)、XS(3)がLOWになり、上位
アドレスデコード出力XS(0)、XS(1)がHIGHに
なる。このように、ワード線群選択信号B2をHIGHとし
たとき、2つのブロックが同時に選択される。
【0040】チップ全体選択信号CPがHIGHで、ワード
線群選択信号B2がHIGHであると、ORゲート25、2
6の出力は、上位アドレス信号A(2)の値によらず常
にHIGHになる。即ち、上位アドレス信号A(2)がワー
ド線群選択信号B2によってマスクされ、デコード回路
の出力は上位アドレス信号A(3)の値によって決ま
る。
【0041】
【表2】
【0042】次に、4つのブロックを同時に選択する場
合の動作を説明する。表3の真理値表は、チップ全体選
択信号CPがHIGH、ワード線群選択信号B2がHIGH、且
つ、ワード線群選択信号B4がHIGHの場合における各出
力を示す。表3においては、上位アドレス信号A
(3)、A(2)が如何なる状態であっても、上位アド
レスデコード出力XS(0)〜XS(3)の全てが選択
される。
【0043】上位アドレス信号A(2)、A(3)の双
方がLOWのときには、ORゲート25〜28の各出力は
全てHIGHになり、被選択出力である上位アドレスデコー
ド出力XS(0)〜XS(3)がHIGHになる。上位アド
レス信号A(2)がHIGH且つ上位アドレス信号A(3)
がLOWのときには、ORゲート25〜28の各出力は全
てHIGHになり、被選択出力である上位アドレスデコード
出力XS(0)〜XS(3)がHIGHになる。上位アドレ
ス信号A(2)がLOW且つ上位アドレス信号A(3)がH
IGHのときには、ORゲート25〜28の各出力は全てH
IGHになり、被選択出力である上位アドレスデコード出
力XS(0)〜XS(3)がHIGHになる。上位アドレス
信号A(2)及びA(3)の双方がHIGHのときには、O
Rゲート25〜28の各出力は全てHIGHになり、被選択
出力である上位アドレスデコード出力XS(0)〜XS
(3)がHIGHになる。
【0044】チップ全体選択信号CPがHIGHで、ワード
線群選択信号B4がHIGHであると、ORゲート25〜2
8の出力は、上位アドレス信号A(2)、A(3)の値
によらず常にHIGHになる。即ち、上位アドレス信号A
(2)、A(3)がワード線群選択信号B4によってマ
スクされ、デコード回路の出力は全てHIGHになる。
【0045】
【表3】
【0046】図4は、ブロック内選択用プリデコーダ1
2の構成を詳細に示す等価回路図である。不揮発性半導
体記憶装置の各メモリブロックは、4つのワード線を有
しているとして説明する。図4では、上位アドレス信号
線の数mは2本であり、下位アドレス信号としてA
(1)とA(0)が入力される。ブロック内選択用プリ
デコーダ12は、インバータ49、50と、ORゲート
40〜43と、ANDゲート45〜48と、デコード電
圧切換え回路51〜54とを備える。
【0047】インバータ49は、アドレス信号出力回路
18からアドレス信号入力端子55aを介して入力され
た下位アドレス信号A(0)を反転してORゲート40
の一方の端子に与える。インバータ50は、アドレス信
号出力回路18からアドレス信号入力端子55bを介し
て入力された下位アドレス信号A(1)をORゲート4
2の一方の端子に与える。ORゲート41、43双方の
一方の端子には、下位アドレス信号A(0)及びA
(1)の非反転値が夫々与えられる。ORゲート40〜
43の他方の端子には、モード信号出力回路23からの
チップ全体選択信号CPが夫々与えられる。
【0048】ANDゲート45は、ORゲート41及び
43双方から出力される論理和を夫々入力し、その論理
積をデコード電圧切換え回路51に出力する。ANDゲ
ート46は、ORゲート40及び43双方から出力され
る論理和を夫々入力し、その論理積をデコード電圧切換
え回路52に出力する。ANDゲート47は、ORゲー
ト41及び42双方から出力される論理和を夫々入力
し、その論理積をデコード電圧切換え回路53に出力す
る。ANDゲート48は、ORゲート40及び42双方
から出力される論理和を夫々入力し、その論理積をデコ
ード電圧切換え回路54に出力する。
【0049】チップ全体選択信号CPがLOWのとき、ブ
ロック内選択用プリデコーダ12は通常のアドレスデコ
ード動作を行う。即ち、下位アドレス信号A(1)、A
(0)で特定される1つの下位アドレスデコード出力X
SPP(i)がHIGHになり、他の3本の信号線がLOWに
なる。チップ全体選択信号CPがHIGHのとき、ブロック
内選択用プリデコーダ12は通常のアドレスデコード動
作を行う。即ち、下位アドレス信号A(1)、A(0)
の値によらず、下位アドレスデコード出力XSPP
(0)〜XSPP(3)は全てHIGHになる。このため、
チップ全体選択信号CPをHIGHにすることで、1つのブ
ロック内のワード線を全て選択することができる。
【0050】図5は、デコード電圧切換え回路を示す等
価回路図である。デコード電圧切換え回路51〜54
は、相互に同様の構成を有するので、ここではデコード
電圧切換え回路51に関して説明する。
【0051】デコード電圧切換え回路51は、端子64
に入力される0V〜VDDの信号を、読出し/書込み/
消去の各動作モードに応じて、−9V〜+12Vの電圧
に変換する回路である。デコード電圧切換え回路51
は、高耐圧のPチャネル型MOSトランジスタ(以下、
PMOSトランジスタと略称する)P10〜P13と、高耐
圧のNチャネル型MOSトランジスタ(以下、NMOSトラ
ンジスタと略称する)N10〜N13とを備える。PMOS
トランジスタP10及びNMOSトランジスタN10双方の
ドレインが相互に接続されて、後段のPMOSトランジスタ
P12のゲートへの出力を成している。PMOSトランジス
タP10は、バックゲートがソースに接続され、NMOSト
ランジスタN10は、バックゲートがソースに接続され
る。PMOSトランジスタP11及びNMOSトランジスタN1
1双方のドレインが相互に接続されて、後段のPMOSトラ
ンジスタP13のゲートへの出力に成している。PMOSト
ランジスタP11は、バックゲートがソースに接続さ
れ、NMOSトランジスタN11は、バックゲートがソース
に接続される。
【0052】PMOSトランジスタP10のゲートが、PMOS
トランジスタP11及びNMOSトランジスタN11の接続
点に共通接続され、PMOSトランジスタP11のゲート
が、PMOSトランジスタP10及びNMOSトランジスタN1
0の接続点に共通接続される。PMOSトランジスタP10
及びP11のソースが、信号線VPWに夫々接続され、
NMOSトランジスタN10及びN11のソースが、夫々接
地される。入力端子64から入力されるANDゲート4
5(図4)の出力は、インバータ58で反転されてNMOS
トランジスタN10のゲートに与えられ、NMOSトランジ
スタN11のゲートには非反転で与えられる。
【0053】また、PMOSトランジスタP12及びNMOSト
ランジスタN12双方のドレインが相互に接続されて、
NMOSトランジスタN13のゲートへの出力を成してい
る。PMOSトランジスタP13及びNMOSトランジスタN1
3双方のドレインが相互に接続されて、NMOSトランジス
タN12のゲートへの出力を成すと共に、下位アドレス
デコード出力XSPP(3)の出力を成している。PMOS
トランジスタP12は、ソースが高耐圧Pchウエル電位
VPWに接続され、バックゲートがソースに接続され
る。NMOSトランジスタN12は、ソースが高耐圧Nchウ
エル電位VNWに接続され、バックゲートがソースに接
続される。PMOSトランジスタP13は、ソースが高耐圧
Pchウエル電位VPWに接続され、バックゲートがソー
スに接続される。NMOSトランジスタN13は、ソースが
高耐圧Nchウエル電位VNWに接続され、バックゲート
がソースに接続される。
【0054】図6は、書込みモード、消去モード及び読
出しモードにおける電圧配置を示す表である。この表を
参照して、上記デコード電圧切換え回路51の動作を説
明する。
【0055】デコード電圧切換え回路51では、例え
ば、書込みモードでPMOSトランジスタP10〜P13の
各ソースに高耐圧Pchウエル電位VPWとしてVDD
(例えば3V)が供給され、且つ、NMOSトランジスタN
12及びN13の各ソースに高耐圧Nchウエル電位VN
Wとして−9Vが供給される。この状態で、ANDゲー
ト45から非選択信号としてLOWが入力されると、NMOS
トランジスタN10のゲートにHIGHが印加され、且つ、
NMOSトランジスタN11のゲートにLOW信号が印加され
る。これにより、PMOSトランジスタP10がそのゲート
にLOW信号が印加されてオンとなり、同時に、NMOSトラ
ンジスタN10がそのゲートにHIGH信号が印加されてオ
ンとなるので、電流路にVDDが供給され、このVDD
が後段のPMOSトランジスタP12のゲートに印加され
る。このとき、PMOSトランジスタP13のゲートにはLO
Wが印加される。従って、PMOSトランジスタP12がオ
フ、PMOSトランジスタP13がオンとなり、高耐圧Pch
ウエル電位VPWとしてのVDDが下位アドレスデコー
ド出力XSPPとして出力される。
【0056】一方、ANDゲート45から選択信号とし
てHIGHが入力されると、NMOSトランジスタN11のゲー
トにHIGH信号が印加され、且つ、NMOSトランジスタN1
0のゲートにLOW信号が印加される。これにより、PMOS
トランジスタP11がそのゲートにLOW信号が印加され
てオンとなり、同時に、NMOSトランジスタN11がその
ゲートにHIGH信号が印加されてオンとなるので、電流路
にVDDが供給され、このVDDが後段のPMOSトランジ
スタP13のゲートに印加される。このとき、PMOSトラ
ンジスタP12のゲートにはLOWが印加される。従っ
て、PMOSトランジスタP13がオフ、PMOSトランジスタ
P12がオンとなるため、高耐圧Pchウエル電位VPW
としてのVDDがゲートに印加されてNMOSトランジスタ
N13がオンとなり、高耐圧Nchウエル電位VNWとし
ての−9Vが下位アドレスデコード出力XSPPとして
出力される。
【0057】図6の表における電圧は、選択/非選択と
して記載されており、消去モードでは、ワード線WLへ
の活性化信号は選択時に12V、非選択時に0になり、
下位アドレスデコード出力XSPPは選択時に12Vに
なり、アドレス信号の非反転値は選択時に12V、非選
択時に0Vになる。また、アドレス信号の反転値は選択
時に0V、非選択時に12Vになり、高耐圧Pchウエル
電位VPWは選択時に12Vになり、高耐圧Nchウエル
電位VNWは選択時に0Vになり、上位アドレスデコー
ド出力XSは選択時にVDDになり、非選択時に0Vに
なる。一方、読出しモードでは、ワード線WLへの活性
化信号は選択時にVDD、非選択時に0になり、下位ア
ドレスデコード出力XSPPは選択時にVDD、非選択
時に0Vになり、アドレス信号の非反転値は選択時にV
DD、非選択時に0Vになる。また、アドレス信号の反
転値は選択時に0V、非選択時にVDDになり、高耐圧
Pchウエル電位VPWは選択時にVDDになり、高耐圧N
chウエル電位VNWは選択時に0Vになり、上位アドレ
スデコード出力XSは選択時にVDDになり、非選択時
に0Vになる。
【0058】図7は、図2で説明したロウメインデコー
ダを示す等価回路図である。ロウメインデコーダRMD
0〜RMD31は、相互に同様の構成を有するので、ここ
ではロウメインデコーダRMD0に関して説明する。
【0059】ロウメインデコーダRMD0は、高耐圧のP
MOSトランジスタP1と、高耐圧のNMOSトランジスタN
1及びN2とを備える。PMOSトランジスタP1及びNMOS
トランジスタN2双方のドレインが、NMOSトランジスタ
N1のソースと共通接続されて、ワード線WL(0)へ
の出力を成している。PMOSトランジスタP1のソース
が、下位アドレスデコード出力XSPP(0)に接続さ
れ、NMOSトランジスタN2のソースが接地されている。
トランジスタP1及びN2双方のゲートには、サブデコ
ーダ出力の反転値である/XBが入力される。
【0060】PMOSトランジスタP1のバックゲートには
高耐圧Pchウエル電位VPWが、NMOSトランジスタN2
のバックゲートには高耐圧Nchウエル電位VNWが夫々
接続される。NMOSトランジスタN1は、ドレインが下位
アドレスデコード出力XSPP(0)に接続され、ゲー
トがサブデコーダ出力の非反転値XBに接続され、バッ
クゲートが高耐圧Nchウエル電位VNWに接続される。
【0061】ここで、前述の図6の表を参照して、ロウ
メインデコーダRMD0の動作を説明する。例えば、書
込みモードでは、PMOSトランジスタP1のソース及びNM
OSトランジスタN1のドレインに下位アドレスデコード
出力XSPP(0)が夫々供給され、PMOSトランジスタ
P1のバックゲートに高耐圧Pchウエル電位VPWとし
てVDDが供給される。更に、NMOSトランジスタN1の
バックゲートに高耐圧Nchウエル電位VNWとして−9
Vが供給される。この状態で、選択信号VDDがサブデ
コーダ出力の反転値/XBとしてPMOSトランジスタP1
のゲートに印加され、且つ、選択信号−9Vが非反転値
XBとしてNMOSトランジスタN1のゲートに印加される
と、NMOSトランジスタN1がオンとなり、且つ、PMOSト
ランジスタP1がオン、NMOSトランジスタN2がオフと
なる。これにより、選択信号として−9Vがワード線W
Lに出力される。
【0062】図8は、図2で説明したロウサブデコーダ
を示す等価回路図である。ロウサブデコーダ20は、高
耐圧のPMOSトランジスタP5〜P8と、高耐圧のNMOSト
ランジスタN5〜N8とを備える。PMOSトランジスタP
5及びNMOSトランジスタN5双方のドレインが相互に接
続されて、後段のPMOSトランジスタP7のゲートへの出
力を成している。PMOSトランジスタP5は、バックゲー
トがソースに接続され、NMOSトランジスタN5は、バッ
クゲートがソースに接続される。PMOSトランジスタP6
及びNMOSトランジスタN6双方のドレインが相互に接続
されて、後段のPMOSトランジスタP8のゲートへの出力
を成している。PMOSトランジスタP6は、バックゲート
がソースに接続され、NMOSトランジスタN6は、バック
ゲートがソースに接続される。
【0063】PMOSトランジスタP5のゲートが、PMOSト
ランジスタP6及びNMOSトランジスタN6の接続点に共
通接続され、PMOSトランジスタP6のゲートが、PMOSト
ランジスタP5及びNMOSトランジスタN5の接続点に共
通接続される。PMOSトランジスタP5及びP6のソース
が信号線VPWに夫々接続され、NMOSトランジスタN5
及びN6のソースが夫々接地される。ブロック選択用プ
リデコーダ11からの上位アドレスデコード出力XS
(0)は、インバータ55で反転されてNMOSトランジス
タN5のゲートに入力され、また、NMOSトランジスタN
6のゲートには、インバータ55による反転信号がイン
バータ56で更に反転されて入力される。
【0064】PMOSトランジスタP7及びNMOSトランジス
タN7双方のドレインが接続されて、反転値/XBの出
力を成している。PMOSトランジスタP8及びNMOSトラン
ジスタN8双方のドレインが接続されて、非反転値XB
の出力を成している。PMOSトランジスタP7は、ソース
が高耐圧Pchウエル電位VPWに接続され、バックゲー
トがソースに接続される。NMOSトランジスタN7は、ソ
ースが高耐圧Nchウエル電位VNWに接続され、バック
ゲートがソースに接続される。PMOSトランジスタP8
は、ソースが高耐圧Pchウエル電位VPWに接続され、
バックゲートがソースに接続される。NMOSトランジスタ
N8は、ソースが高耐圧Nchウエル電位VNWに接続さ
れ、バックゲートがソースに接続される。
【0065】ここで、図6の表を参照して、ロウサブデ
コーダ20の動作を説明する。ロウサブデコーダ20で
は、例えば書込みモードにおいて、PMOSトランジスタP
5〜P8の各ソースに高耐圧Pchウエル電位VPWとし
てVDDが供給され、且つ、NMOSトランジスタN7及び
N8の各ソースに高耐圧Nchウエル電位VNWとして−
9Vが供給される。この状態で、上位アドレスデコード
出力XS(31)として非選択信号のLOW(0V)が入
力されると、NMOSトランジスタN5のゲートにHIGHが印
加され、且つ、NMOSトランジスタN6のゲートにLOW信
号が印加される。これにより、PMOSトランジスタP5が
そのゲートにLOW信号が印加されてオンとなり、同時
に、NMOSトランジスタN5がそのゲートにHIGH信号が印
加されてオンとなるので、電流路にVDDが供給され、
このVDDが後段のPMOSトランジスタP7のゲートに印
加される。このとき、PMOSトランジスタP8のゲートに
はLOWが印加される。従って、PMOSトランジスタP7が
オフ、PMOSトランジスタP8がオンとなるため、高耐圧
Pchウエル電位VPWとしてのVDDが信号XBとして
出力される。このとき、サブデコーダ出力の反転値であ
る/XBとして−9Vが出力される。
【0066】一方、上位アドレスデコード出力XS(3
1)として選択信号のHIGH(VDD)が入力されると、
NMOSトランジスタN6のゲートにHIGH信号が印加され、
且つ、NMOSトランジスタN5のゲートにLOW信号が印加
される。これにより、PMOSトランジスタP6がそのゲー
トにLOW信号が印加されてオンとなり、同時に、NMOSト
ランジスタN6がそのゲートにHIGH信号が印加されてオ
ンとなるので、電流路にVDDが供給され、このVDD
が後段のPMOSトランジスタP8のゲートに印加される。
このとき、PMOSトランジスタP7のゲートにはLOWが印
加される。従って、PMOSトランジスタP8がオフ、PMOS
トランジスタP7がオンとなるため、高耐圧Pchウエル
電位VPWとしてのVDDがゲートに印加されてNMOSト
ランジスタN8がオンとなり、高耐圧Nchウエル電位V
NWとしての−9Vがサブデコーダ出力の非反転値XB
に出力される。このとき、反転値/XBとしてはVDD
が出力される。
【0067】ここで、上記構成を有する不揮発性半導体
記憶装置の動作を説明する。図9は、チップ全体選択信
号CPがHIGHの場合のブロック選択時における各端子の
状態を示す表である。この表では、ワード線群選択信号
をB2、B4、B8、B16及びB32として示し、ま
た、上位アドレス信号をA(5)〜A(9)まで示して
いる。表におけるLは0V、HはVDD、Aはアクティ
ブ、Nノンアクティブを示す。
【0068】すなわち、書込み又は消去時に、ブロック
選択用プリデコーダ11は、チップ全体選択信号CPと
してLOWが入力される場合には、群選択信号出力回路1
9からワード線群選択信号B2〜B32が入力されても
動作しない。この状態で、ブロック選択用プリデコーダ
11にアドレス信号出力回路18から上位アドレス信号
が入力されると、上位アドレスデコード出力XS(0)
〜XS(31)の内のいずれか1つが選択状態になる。
更に、ブロック内選択用プリデコーダ12にアドレス信
号出力回路18から下位アドレス信号が入力されると、
下位アドレスデコード出力XSPP(0)〜XSPP
(31)の内のいずれか1つが選択状態になる。このと
き、上位アドレスデコード出力XSと下位アドレスデコ
ード出力XSPPとによって同時に選択されたワード線
WLのみが選択状態になる。
【0069】一方、チップ全体選択信号CPとしてHIGH
が入力される場合に、例えば、ワード線群選択信号B2
のみにHIGHが入力されると、アドレス信号A(5)がノ
ンアクティブ状態になり且つ他のアドレス信号A(6)
〜A(9)がアクティブ状態になる。これにより、アド
レス信号A(5)が入力されるORゲートが常に被選択
状態になり、これに連続するいずれか2つのORゲート
が他のアドレス信号A(6)〜A(9)によって選択さ
れる。
【0070】或いは、上記に代えて、チップ全体選択信
号CPとしてHIGHが入力される場合に、例えば、ワード
線群選択信号B2及びB4にHIGHが入力されると、アド
レス信号A(5)及びA(6)がノンアクティブ状態に
なり且つ他のアドレス信号A(7)〜A(9)がアクテ
ィブ状態になる。これにより、アドレス信号A(5)及
びA(6)が入力されるORゲートが常に被選択状態に
なり、これらに連続するいずれか4つのORゲートが他
のアドレス信号A(7)〜A(9)によって選択され
る。
【0071】一方、読出し時では、ブロック選択用プリ
デコーダ11にチップ全体選択信号CPとしてLOWが入
力される。この状態で、ブロック選択用プリデコーダ1
1に上位アドレス信号が入力されると、上位アドレスデ
コード出力XS(0)〜XS(31)の内のいずれか1
つが選択状態になる。更に、ブロック内選択用プリデコ
ーダ12に下位アドレス信号が入力されると、下位アド
レスデコード出力XSPP(0)〜XSPP(31)の
内のいずれか1つが選択状態になる。このとき、上位ア
ドレスデコード出力XSと下位アドレスデコード出力X
SPPとによって同時に選択されたワード線WLのみが
選択状態になる。
【0072】図10は、図4で説明したブロック内選択
用プリデコーダ12の構成を一部変更した第2実施形態
例を示す等価回路図である。ブロック内選択用プリデコ
ーダ60は、ブロック内選択用プリデコーダ12と同様
に、インバータ49、50と、ORゲート40〜43
と、ANDゲート45〜48と、デコード電圧切換え回
路51〜54とを備える。
【0073】ブロック内選択用プリデコーダ12では、
ORゲート40は、インバータ49で反転された下位ア
ドレス信号A(0)を一方の入力とし、ORゲート41
は、非反転の下位アドレス信号A(0)を一方の入力と
する。また、ORゲート42は、インバータ50で反転
された下位アドレス信号A(1)を一方の入力とし、O
Rゲート43は、非反転の下位アドレス信号A(1)を
一方の入力とする。ORゲート40及び41は夫々、チ
ップ全体選択信号CPと、インバータ62で反転された
チェッカーモード信号CKとをANDゲート61で論理
演算した論理積を他方の入力とする。ORゲート42及
び43は夫々、チップ全体選択信号CPを他方の入力と
する。
【0074】本実施形態例におけるブロック内選択用プ
リデコーダ60の動作を、以下に示す真理値表を参照し
て説明する。このブロック内選択用プリデコーダ60を
用いると、通常選択モード、チェッカー選択モード、及
び全一括選択モードが実現できる。全一括選択モードで
は、後述の選択信号ODDの出力により奇数番目のワー
ド線を一括選択し、後述の選択信号EVENの出力によ
り偶数番目のワード線を一括選択することができる。
【0075】真理値表4は、通常選択モードで、チップ
全体選択信号CP及びチェッカーモード信号CK双方が
LOWの場合、又は、チップ全体選択信号CPがLOW且つチ
ェッカーモード信号CKがHIGHの場合における各出力を
示す。
【0076】下位アドレス信号A(0)及びA(1)の
双方がLOWのときには、ORゲート40〜43の各出力
は、順にHIGH、LOW、HIGH、LOWになり、被選択出力であ
る下位アドレスデコード出力XSPP(0)がHIGHにな
り、他はLOWになる。下位アドレス信号A(0)がHIGH
且つ下位アドレス信号A(1)がLOWのときには、OR
ゲート40〜43の各出力は、順にLOW、HIGH、HIGH、L
OWになり、被選択出力である下位アドレスデコード出力
XSPP(2)がHIGHになり、他はLOWになる。下位ア
ドレス信号A(0)がLOW且つ下位アドレス信号A
(1)がHIGHのときには、ORゲート40〜43の各出
力は、順にHIGH、LOW、LOW、HIGHになり、被選択出力で
ある下位アドレスデコード出力XSPP(2)がHIGHに
なり、他はLOWになる。下位アドレス信号A(0)及び
A(1)の双方がHIGHのときには、ORゲート40〜4
3の各出力は、順にLOW、HIGH、LOW、HIGHになり、被選
択出力である下位アドレスデコード出力XSPP(3)
がHIGHになり、他はLOWになる。
【0077】すなわち、通常選択モードでは、チップ全
体選択信号CPとしてLOW、チェッカーモード信号CK
としてLOWが夫々入力された場合、或いは、チップ全体
選択信号CPとしてLOW、チェッカーモード信号CKと
してHIGHが夫々入力された場合に、下位アドレス信号の
入力状態によって、下位アドレスデコード出力XSPP
(0)〜XSPP(3)の内のいずれか1本が選択状態
になる。
【0078】
【表4】
【0079】表5の真理値表は、チェッカー選択モード
で、チップ全体選択信号CP及びチェッカーモード信号
CK双方がHIGHの場合における各出力を示す。下位アド
レス信号A(0)及びA(1)の双方がLOWのときに
は、ORゲート40〜43の各出力は、順にHIGH、LO
W、HIGH、HIGHになり、奇数番目のワード線WL全ての
選択信号ODDが被選択出力として出力される。下位ア
ドレス信号A(0)がHIGH且つ下位アドレス信号A
(1)がLOWのときには、ORゲート40〜43の各出
力は、順にLOW、HIGH、HIGH、HIGHになり、偶数番目の
ワード線WL全ての選択信号EVENが被選択出力とし
て出力される。下位アドレス信号A(0)がLOW且つ下
位アドレス信号A(1)がHIGHのときには、ORゲート
40〜43の各出力は、順にHIGH、LOW、HIGH、HIGHに
なり、選択信号ODDが被選択出力として出力される。
下位アドレス信号A(0)及びA(1)の双方がHIGHの
ときには、ORゲート40〜43の各出力は、順にLO
W、HIGH、HIGH、HIGHになり、選択信号EVENが被選
択出力として出力される。
【0080】すなわち、チェッカー選択モードでは、チ
ップ全体選択信号CPとしてHIGH、チェッカーモード信
号CKとしてHIGHが夫々入力された場合に、ノンアクテ
ィブ状態になったアドレス信号が入力されるORゲート
は全て選択状態になる。この状態で、例えば、下位アド
レス信号A(0)としてLOWが入力されると、奇数番目
のワード線WLが一括して選択され、下位アドレス信号
A(0)としてHIGHが入力されると、偶数番目のワード
線WLが一括して選択される。更に、モード信号出力回
路23からブロック選択用プリデコーダ11にチップ全
体選択信号CPとしてHIGHを入力すると、複数のロウデ
コーダ群における奇数又は偶数番目のワード線WLを一
括して選択することが可能になる。
【0081】
【表5】
【0082】表6の真理値表は、全一括選択モードで、
チップ全体選択信号CPがHIGH且つチェッカーモード信
号CKがLOWの場合における各出力を示す。下位アドレ
ス信号A(0)及びA(1)の双方がLOWのときには、
ORゲート40〜43の各出力が全てHIGHになり、被選
択出力である下位アドレスデコード出力XSPP(0)
〜XSPP(3)がHIGHになる。下位アドレス信号A
(0)がHIGH且つ下位アドレス信号A(1)がLOWのと
きには、ORゲート40〜43の各出力が全てHIGHにな
り、被選択出力である下位アドレスデコード出力XSP
P(0)〜XSPP(3)がHIGHになる。下位アドレス
信号A(0)がLOW且つ下位アドレス信号A(1)がHIG
Hのときには、ORゲート40〜43の各出力が全てHIG
Hになり、被選択出力である下位アドレスデコード出力
XSPP(0)〜XSPP(3)がHIGHになる。下位ア
ドレス信号A(0)及びA(1)の双方がHIGHのときに
は、ORゲート40〜43の各出力が全てHIGHになり、
被選択出力である下位アドレスデコード出力XSPP
(0)〜XSPP(3)がHIGHになる。このように、被
選択出力である下位アドレスデコード出力は、アドレス
によらず全てHIGHになる。
【0083】
【表6】
【0084】図11は、図4のブロック内選択用プリデ
コーダ12の構成を一部変更した第3実施形態例を示す
等価回路図である。ブロック内選択用プリデコーダ63
は、後述のワード線一括選択機能を備えており、ブロッ
ク内選択用プリデコーダ12と同様に、インバータ4
9、50と、ORゲート40〜43と、ANDゲート4
5〜48と、デコード電圧切換え回路51〜54とを備
える。
【0085】ブロック内選択用プリデコーダ63では、
ORゲート40〜43が、ANDゲート45〜48とデ
コード電圧切換え回路51〜54との間に配設される。
この構成により、ANDゲート45は、下位アドレス信
号A(0)とA(1)との論理積をORゲート40の一
方の端子に与え、ANDゲート46は、インバータ49
で反転された下位アドレス信号A(0)と、下位アドレ
ス信号A(1)との論理積をORゲート41の一方の端
子に与える。ANDゲート47は、下位アドレス信号A
(0)と、インバータ50で反転された下位アドレス信
号A(1)との論理積をORゲート42の一方の端子に
与え、ANDゲート48は、インバータ49で反転され
た下位アドレス信号A(0)と、インバータ50で反転
されたA(1)との論理積をORゲート43の一方の端
子に与える。各ORゲート40〜43の他方の端子に
は、チップ全体選択信号CPが夫々与えられる。
【0086】本実施形態例におけるブロック内選択用プ
リデコーダ63の動作を、以下に示す真理値表を参照し
て説明する。まず、通常動作時における動作を説明す
る。真理値表7は、チップ全体選択信号CPがLOWの場
合における各出力を示す。
【0087】下位アドレス信号A(0)、A(1)の双
方がLOWのときには、インバータ49、50の出力がHIG
Hになり、ANDゲート48がHIGHを出力し、デコード
電圧切換え回路54が、被選択出力である下位アドレス
デコード出力XSPP(0)をHIGHにする。このとき、
他の下位アドレスデコード出力XSPPはLOWになる。
下位アドレス信号A(0)がHIGH且つ下位アドレス信号
A(1)がLOWのときには、インバータ49の出力がLO
W、インバータ50の出力がHIGHになり、ANDゲート
47がHIGHを出力し、デコード電圧切換え回路53が、
被選択出力である下位アドレスデコード出力XSPP
(1)をHIGHにする。このとき、他の下位アドレスデコ
ード出力XSPPはLOWになる。
【0088】下位アドレス信号A(0)がLOW且つ下位
アドレス信号A(1)がHIGHのときには、インバータ4
9の出力がHIGH、インバータ50の出力がLOWになり、
ANDゲート46がHIGHを出力し、デコード電圧切換え
回路52が、被選択出力である下位アドレスデコード出
力XSPP(2)をHIGHにする。このとき、他の下位ア
ドレスデコード出力XSPPはLOWになる。下位アドレ
ス信号A(0)、A(1)双方がHIGHのときには、イン
バータ49、50の出力がLOWになり、ANDゲート4
5がHIGHを出力し、デコード電圧切換え回路51が、被
選択出力である下位アドレスデコード出力XSPP
(3)をHIGHにする。このとき、他の下位アドレスデコ
ード出力XSPPはLOWになる。
【0089】
【表7】
【0090】チップ全体選択信号CPがHIGHのときに
は、下位アドレス信号A(0)、A(1)に拘わらず、
下位アドレスデコード出力XSPP(0)〜XSPP
(3)は全てHIGHになり、全てのワード線を一括して選
択することができる。以上のように、本実施形態例にお
けるブロック内選択用プリデコーダ63によると、チッ
プ全体選択信号CPとしてLOWが入力された状態では、
下位アドレス信号の入力状態によって、下位アドレスデ
コード出力XSPPのいずれか1本が選択状態になる。
更に、チップ全体選択信号CPとしてHIGHが入力された
ときには、下位アドレス信号の入力状態により、AND
ゲートの出力までは下位アドレスデコード出力XSPP
のいずれか1本が選択状態になっているが、その先に位
置する各ORゲートにチップ全体選択信号CPが入力さ
れるので、各ORゲートの出力は強制的に全てHIGHにな
り、下位アドレスデコード出力XSPPは全て選択状態
になる。
【0091】本発明の不揮発性半導体記憶装置による
と、アドレスデコーダにブロック選択用プリデコーダ1
1を設けたので、電源電圧で動作する論理素子で回路を
構成することができ、ソース・ドレイン間の耐圧が低く
チャネル長が短いトランジスタを用いて、チップ面積を
小さくすることができる。また、書込み又は消去を一括
に行うべきブロックを予め保持する必要がなく、アドレ
スを変化させるだけで、処理すべきブロックの選択を実
行できる。従って、特別な外部入力端子等を備えること
なく、複数ブロックの一括書込み又は一括消去に要する
時間を短縮できる。一括書込み又は一括消去の対象とな
るブロック数の設定は、モードの設定時に1回のみ行え
ばよく、不要なプログラムシーケンスを削減し、所要時
間を短縮することができる。
【0092】以上、本発明をその好適な実施形態例に基
づいて説明したが、本発明の不揮発性半導体記憶装置
は、上記実施形態例にのみ限定されるものではなく、上
記実施形態例から種々の修正及び変更を施した不揮発性
半導体記憶装置も、本発明の範囲に含まれる。
【0093】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の不揮発性
半導体記憶装置によると、特別な構成を増加することな
く、一括書込みや一括消去に要する時間を短縮すること
ができると共に、チップ面積を小さくすることが可能に
なる。また、一括書込みや一括消去時にメモリセルへ電
源を供給する能力に合わせてメモリセルを選択すること
ができ、供給能力が低い電源回路でも対応することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態例に係るEEPROMのロ
ウデコーダにおける要部を示すブロック図である。
【図2】図1におけるロウデコーダ群をより詳細に示す
ブロック図である。
【図3】ブロック選択用プリデコーダの構成を詳細に示
す等価回路図である。
【図4】ブロック内選択用プリデコーダの構成を詳細に
示す等価回路図である
【図5】デコード電圧切換え回路を示す等価回路図であ
る。
【図6】各モードにおける電圧配置を示す表である。
【図7】図2のロウメインデコーダを示す等価回路図で
ある。
【図8】図2のロウサブデコーダを示す等価回路図であ
る。
【図9】ブロック選択時における各端子の状態を示す表
である。
【図10】ブロック内選択用プリデコーダの構成を一部
変更した第2実施形態例を示す等価回路図である。
【図11】ブロック内選択用プリデコーダの構成を一部
変更した第3実施形態例を示す等価回路図である。
【符号の説明】
11 ブロック選択用プリデコーダ 12、60、63 ブロック内選択用プリデコーダ 18 アドレス信号出力回路 19 群選択信号出力回路 23 モード信号出力回路 25〜28、40〜43 ORゲート 30〜33、61 ANDゲート 35、36、49、50、62 インバータ 37、38、45〜48 ANDゲート 51〜54 デコード電圧切換え回路 RD031 ロウデコーダ群 WL ワード線
フロントページの続き (72)発明者 天内 正和 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 加藤 一明 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の不揮発性メモリセルが複数のワー
    ド線及びビット線に対応して配設され、前記複数のワー
    ド線を所定数毎に管理する複数のロウデコーダ群を有す
    るロウデコーダを備えた不揮発性半導体記憶装置におい
    て、 前記メモリセルに対する書込み又は消去を一括に行うた
    めのモード信号を出力するモード信号出力手段と、 前記モード信号の出力にタイミングを合わせて、書込み
    又は消去を一括に行うべきメモリセルのワード線に対応
    するロウデコーダ群を選択する群選択信号を出力する群
    選択信号出力手段と、 前記群選択信号に従って、該群選択信号に対応するワー
    ド線を管理するロウデコーダ群を選択する第1の選択手
    段と、 前記第1選択手段によって選択されたロウデコーダ群が
    管理する複数のワード線から、書込み又は消去を一括に
    行うべきメモリセルに対応するワード線を選択する第2
    の選択手段とを備えることを特徴とする不揮発性半導体
    記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記第1及び第2の選択手段に上位アド
    レス信号及び下位アドレス信号を所定のタイミングで夫
    々出力するアドレス出力手段を更に備えることを特徴と
    する請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の選択手段が、前記群選択信号
    に従って、前記上位アドレス信号で指定される前記ロウ
    デコーダ群に出力する上位アドレスデコード出力におけ
    る下位ビットをマスクするマスク手段を備えることを特
    徴とする請求項2に記載の不揮発性半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記第1の選択手段が、前記モード信号
    及び群選択信号の論理積を出力する複数の第1ANDゲ
    ートと、入力された上位アドレス信号の反転出力又は非
    反転出力を一方の入力、前記第1ANDゲートの出力を
    他方の入力とする複数のORゲートと、前記複数のOR
    ゲートの各出力の内の対応する出力相互の論理積を前記
    上位アドレスデコード出力として夫々出力する複数の第
    2ANDゲートとを備えることを特徴とする請求項3に
    記載の不揮発性半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記第2の選択手段が、前記モード信号
    に従って、前記下位アドレス信号で指定される前記ロウ
    デコーダ群に出力する下位アドレスデコード出力をマス
    クするマスク手段を備えることを特徴とする請求項2に
    記載の不揮発性半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記マスク手段が、前記下位アドレスデ
    コード出力を全てマスクする第1の設定と、特定の出力
    をマスクする第2の設定とを切り替える手段を備えるこ
    とを特徴とする請求項5に記載の不揮発性半導体記憶装
    置。
  7. 【請求項7】 前記第2の選択手段が、入力された下位
    アドレス信号の反転出力又は非反転出力を一方の入力、
    前記モード信号を他方の入力とする複数のORゲート
    と、前記複数のORゲートの各出力の内の対応する出力
    相互の論理積を夫々出力する複数のANDゲートと、該
    ANDゲートの出力に従って、デコード電圧を切り換え
    つつ前記下位アドレスデコード出力として出力するデコ
    ード電圧切換え回路とを備えることを特徴とする請求項
    5又は6に記載の不揮発性半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 前記第2の選択手段が、入力されたチェ
    ッカーモード信号の反転信号及び前記モード信号の論理
    積を出力する第1ANDゲートと、入力された下位アド
    レス信号の反転出力又は非反転出力を一方の入力、前記
    第1ANDゲートの出力を他方の入力とする複数のOR
    ゲートと、前記複数のORゲートの各出力の内の対応す
    る出力相互の論理積を夫々出力する複数の第2ANDゲ
    ートと、該第2ANDゲートの各出力に従って、デコー
    ド電圧を切り換えつつ前記下位アドレスデコード出力と
    して出力するデコード電圧切換え回路とを備えることを
    特徴とする請求項5又は6に記載の不揮発性半導体記憶
    装置。
  9. 【請求項9】 前記第2の選択手段が、入力された下位
    アドレス信号の反転出力及び非反転出力の内の対応する
    出力相互の論理積を夫々出力する複数のANDゲート
    と、該ANDゲートの出力を一方の入力、前記モード信
    号を他方の入力とする複数のORゲートと、該ORゲー
    トの出力に従って、デコード電圧を切り換えつつ前記下
    位アドレスデコード出力として出力するデコード電圧切
    換え回路とを備えることを特徴とする請求項5又は6に
    記載の不揮発性半導体記憶装置。
JP6517698A 1998-03-16 1998-03-16 不揮発性半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP3227698B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6517698A JP3227698B2 (ja) 1998-03-16 1998-03-16 不揮発性半導体記憶装置
DE19911101A DE19911101C2 (de) 1998-03-16 1999-03-12 Nicht-flüchtige Halbleiterspeichervorrichtung
US09/267,665 US6111792A (en) 1998-03-16 1999-03-15 Non-volatile semiconductor memory device for selective cell flash erasing/programming
CN99103333A CN1229996A (zh) 1998-03-16 1999-03-16 非易失半导体存储器件
KR1019990008731A KR100329881B1 (ko) 1998-03-16 1999-03-16 비휘발성 반도체 메모리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6517698A JP3227698B2 (ja) 1998-03-16 1998-03-16 不揮発性半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11265592A true JPH11265592A (ja) 1999-09-28
JP3227698B2 JP3227698B2 (ja) 2001-11-12

Family

ID=13279344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6517698A Expired - Fee Related JP3227698B2 (ja) 1998-03-16 1998-03-16 不揮発性半導体記憶装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6111792A (ja)
JP (1) JP3227698B2 (ja)
KR (1) KR100329881B1 (ja)
CN (1) CN1229996A (ja)
DE (1) DE19911101C2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004508652A (ja) * 2000-08-31 2004-03-18 アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド フラッシュメモリにおけるワード線デコーディングアーキテクチャ
JP2006073168A (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Hynix Semiconductor Inc フラッシュメモリ素子及びこれを用いたフラッシュメモリセルの消去方法
JP2019510331A (ja) * 2016-03-04 2019-04-11 クゥアルコム・インコーポレイテッドQualcomm Incorporated メモリセルドライバ上でプログラミング電圧ストレスを低減するためのシステムおよび方法
CN112382226A (zh) * 2020-11-27 2021-02-19 Tcl华星光电技术有限公司 数据驱动芯片以及显示装置

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6324108B1 (en) * 2000-02-29 2001-11-27 Advanced Micro Devices, Inc. Application of external voltage during array VT testing
JP4796238B2 (ja) 2001-04-27 2011-10-19 Okiセミコンダクタ株式会社 ワード線駆動回路
JP4315767B2 (ja) * 2003-09-04 2009-08-19 株式会社ルネサステクノロジ 不揮発性半導体記憶装置
KR100685638B1 (ko) * 2006-03-31 2007-02-22 주식회사 하이닉스반도체 랜덤 프로그램 기능을 가지는 듀얼 플레인 타입 플래시메모리 장치 및 그 프로그램 동작 방법
ITUB20153728A1 (it) * 2015-09-18 2017-03-18 St Microelectronics Srl Decodificatore di riga per un dispositivo di memoria non volatile, avente ridotta occupazione di area
KR102609177B1 (ko) * 2016-07-04 2023-12-06 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 시스템의 동작 방법 및 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5270980A (en) * 1991-10-28 1993-12-14 Eastman Kodak Company Sector erasable flash EEPROM
US5263003A (en) * 1991-11-12 1993-11-16 Allen-Bradley Company, Inc. Flash memory circuit and method of operation
US5526307A (en) * 1992-01-22 1996-06-11 Macronix International Co., Ltd. Flash EPROM integrated circuit architecture
JP2667617B2 (ja) * 1992-03-05 1997-10-27 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JPH0696592A (ja) * 1992-09-11 1994-04-08 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ装置
KR970005644B1 (ko) * 1994-09-03 1997-04-18 삼성전자 주식회사 불휘발성 반도체 메모리장치의 멀티블럭 소거 및 검증장치 및 그 방법

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004508652A (ja) * 2000-08-31 2004-03-18 アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド フラッシュメモリにおけるワード線デコーディングアーキテクチャ
JP2011103175A (ja) * 2000-08-31 2011-05-26 Spansion Llc Cmosデコーディング回路
JP4916084B2 (ja) * 2000-08-31 2012-04-11 スパンション エルエルシー フラッシュメモリにおけるワード線デコーディングアーキテクチャ
JP2006073168A (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Hynix Semiconductor Inc フラッシュメモリ素子及びこれを用いたフラッシュメモリセルの消去方法
JP2019510331A (ja) * 2016-03-04 2019-04-11 クゥアルコム・インコーポレイテッドQualcomm Incorporated メモリセルドライバ上でプログラミング電圧ストレスを低減するためのシステムおよび方法
CN112382226A (zh) * 2020-11-27 2021-02-19 Tcl华星光电技术有限公司 数据驱动芯片以及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE19911101A1 (de) 1999-09-30
KR19990077906A (ko) 1999-10-25
JP3227698B2 (ja) 2001-11-12
KR100329881B1 (ko) 2002-12-16
DE19911101C2 (de) 2002-10-17
US6111792A (en) 2000-08-29
CN1229996A (zh) 1999-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100228453B1 (ko) 레벨 변환 회로
US5671178A (en) Erase verifying circuit for a nonvolatile semiconductor memory with column redundancy
US5959882A (en) Nonvolatile semiconductor memory device and data writing method therefor
US6560144B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US7839714B2 (en) Non-volatile semiconductor storage device and word line drive method
US6621743B2 (en) Word-line driving circuit with reduced current leakage
US20080205164A1 (en) Decoding control with address transition detection in page erase function
KR100387970B1 (ko) 불휘발성반도체기억장치
US4744058A (en) Semiconductor programmable memory device and method of writing a predetermined pattern to same
EP0311137B1 (en) Non-volatile semiconductor memory device
US6906952B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device and data writing method therefor
JP3227698B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
US6496427B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JP3441161B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH05325576A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
US6654294B2 (en) Flash memory device
US5355334A (en) Nonvolatile semiconductor memory device having parallel write and read function
JPH11162199A (ja) 半導体記憶装置
KR100399975B1 (ko) 포지티브 챠지 펌핑 전압 스위칭 회로 및 그를 이용한플래쉬 메모리의 로우 디코더 회로
KR20000027267A (ko) 플래쉬 메모리 장치의 워드라인 디코더
JP2001184897A (ja) ロウアドレスデコードライン回路
CN117672316A (zh) 具有“分压”类型架构的eeprom存储器类型的设备
JPH1040691A (ja) 半導体メモリ装置
JP2001189093A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH10241389A (ja) 不揮発性半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080907

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080907

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090907

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090907

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100907

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100907

Year of fee payment: 9

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100907

Year of fee payment: 9

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110907

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110907

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120907

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120907

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130907

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees