JP2004217551A - スルホニウム化合物 - Google Patents
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Abstract
【効果】この新規化合物は、高純度を必要とするエポキシ硬化開始剤として有用に作用する。
【化1】
Description
【産業上の利用分野】
この発明は、新規なスルホニウム化合物に関する。さらに詳しくは、光および熱硬化組成物の硬化開始剤として有用であり、特にエポキシ樹脂やスチレンなどのカチオン重合性ビニル化合物の重合硬化開始剤としての効果を有する新規なスルホニウム化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】
【特許文献1】公開特許公報平成3年第200761号
【特許文献2】公開特許公報平成8年第157451号
【0003】
特許文献1によれば、 4−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート類が開示されている。そして、エポキシ樹脂などの硬化触媒として使用することができる旨の記載がある。同様に特許文献2では、4−tert−ブトキシフェニルジフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホン酸塩類が公知である。そして、ポジ型レジスト材料に使用する記載がある。しかしながら、4−置換オキシフェニルスルホニウムのトリフルオロメタンスルホン酸塩は公知ではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
現在、提供されているエポキシ樹脂等の重合開始剤のうち、オニウム ヘキサフルオロアンチモナート型の多くは不安定であり、高温または高湿状態に露呈されるとフッ素イオンが分離し、純度が低下することが知られている。また、アンチモン化合物の取扱の困難さも問題になっている。従って、光または熱に対して高活性でかつ分解性のない重合開始剤が求められている。
【0005】
【発明の構成】
本発明は、上記の課題を解決すべく検討された、化2で表わされる新規なスルホニウム化合物に関するものである。この化合物は前記のとおり、4−ヒドロキシあるいは置換オキシフェニルスルホニウムのトリフルオロメタンスルホン酸塩を要件としており、ここに新規性が存在するものである。
【0006】
【化2】
【0007】
(ただし、R1は水素,メトキシカルボニル基,アセチル基,ベンジルオキシカルボニル基を、R2は水素,C1〜C4のアルキル基のいずれかを、R3はC1〜C4のアルキル基,C1〜C4のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基,α−ナフチルメチル基のいずれかを、R4はC1〜C4のアルキル基のいずれかを示す
。Xは、トリフルオロメタンスルホン酸基を示す。)
【0008】
本発明のスルホニウム化合物を具体的に例示すれば、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、2−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−ヒドロキシフェニルメチル−1−ナフチルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、ベンジル−4−メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルメチル−4−メチルベンジルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート等である。
【0009】
【作用】
本化合物は、スルフィド類と塩化ベンジル類などから合成することのできる、相当するスルホニウムクロリド類を出発原料としてトリフルオロメタンスルホン酸のアルカリ金属塩類と所定の無水または含水有機溶媒中で反応させて合成する。水を含む場合は2相となっていてもよい。この場合の有機溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、アセトニトリルである。これ以外の例えばベンゼン、トルエン類では、無機塩を実質上溶解させないため、反応しない。また、DMF、DMSO類では、その溶解性のため、反応そのものは進行するものの、高沸点のために当該反応系からの除去が困難である。
【0010】
また、第2の合成法としては、4−ヒドロキシフェニルスルホニウム化合物のヒドロキシ基を、クロル炭酸メチルや塩化アセチル、よう化アセチルといった酸ハロゲン化物と、第三級アミンの存在下に反応させて、4−置換オキシフェニルスルホニウム化合物を得る方法も提案する。この方法の反応溶媒は、酢酸エチル類およびアセトニトリルである。その他の溶媒では好ましい結果が得られない。例えば、水やメタノールやエタノールといったプロトン性溶媒では酸ハロゲン化物と反応する。ベンゼンに代表される芳香族溶媒では、生成物を溶解させないためその純度を低下させる。DMF,DMSOに代表される極性溶媒では反応はするものの、溶媒の沸点が高いために反応系からの除去中に当該生成物が分解するなど、除去が困難である。
【0011】
また、反応温度は20℃以下が好ましく、生成物の分解を避ける意味から、5℃以下が特に好ましい。脱ハロゲン化水素剤として添加する第三級アミンは、トリエチルアミン,トリメチルアミン,N−メチルモルホリン等が好ましく、これらは、1種もしくは2種以上の混合であってもさしつかえない。
【0012】
本発明の新規化合物は、光および/または熱硬化組成物の硬化開始剤として有用であり、特にエポキシ樹脂やスチレンなどのカチオン重合性ビニル化合物の重合硬化開始剤としての効果を有している。即ち、本来不安定なスルホニウム化合物のアニオン部をトリフルオロメタンスルホン酸基に置き換えることで、結晶性を上げ、これによって良好な安定性が得られているものと考えられる。
【0013】
【実施例】
以下に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。
実施例 1
4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム15.2g(0.088モル)をエタノール300mlに溶解させ、撹拌しながら、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム クロライド 16.0g(0.084モル)の結晶を加え、室温で24時間撹拌する。無機塩を除き、反応液を減圧濃縮し、油状物をヘキサンで処理すると結晶化する。ヘキサンで洗浄して白色結晶の4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート24.6g(収率96.5%)を得る。
融点 56〜59℃
IR (KBr) cm−1 1265,1280,1035,645
【0014】
実施例2
2−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
2−メチルベンジルクロライド11.8g(0.084モル)と4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド10.7g(0.076モル)を水中で反応させて得られた2−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム クロライドの水溶液に酢酸エチルを加え、次いで撹拌しながら、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム10.7
g(0.069モル)の粉末を加える。10℃で2時間反応させ、水相を分液除去する。酢酸エチル層を減圧濃縮し、残渣を再結晶することで、白色結晶の目的物18.8g(収率69.6%)を得た。
融点 130〜133℃
IR (KBr) cm−1 1280,1290、1255,1245,1230,1590,640
【0015】
実施例3
ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
実施例2の2−メチルベンジルクロライドを塩化ベンジルに変更した以外は実施例2に準じて合成した。融点132〜135℃の白色結晶の目的物が収率61.0%で得られた。
【0016】
実施例4
4−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
実施例2の2−メチルベンジルクロライドを4−メチルベンジルクロライドに変更した以外は実施例2に準じて合成した。融点134〜136℃の白色結晶の目的物が収率82.5%で得られた。
【0017】
実施例5
4−ヒドロキシフェニルメチル−1−ナフチルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
実施例2の2−メチルベンジルクロライドを1−ナフチルメチルクロライドに変更した以外は実施例2に準じて合成した。融点92〜96℃の白色結晶の目的物が収率70.3%で得られた。
【0018】
実施例6
4−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
実施例1で合成した4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート22.4g(0.074モル)をアセトニトリル200mlに溶解させ、10℃以下でトリエチルアミン7.8g(0.077モル)を加え、5℃以下でクロルギ酸メチル7.3g(0.077モル)を滴下する。24時間撹拌後、副生するトリエチルアミンの塩酸塩をろ過して除き、アセトニトリル層を減圧濃縮する。残渣を再結晶し、白色結晶の目的物20.6g(収率77.2%)が得られた。
融点 110〜112℃
IR (KBr)cm−1 1270,1225,1030,1760,1770,640
【0019】
実施例7
ベンジル−4−メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
原料を実施例3で合成した ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートに変更した以外は実施例6に準じて合成した。融点93〜95℃の白色結晶の目的物が収率78.9%で得られた。
【0020】
実施例8
4−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
クロルギ酸メチルに変えて塩化アセチルに変更した以外は実施例7に準じて合成した。融点82〜85℃の白色結晶の目的物が収率89.6%で得られた。
【0021】
実施例9
4−アセトキシフェニルメチル−4−メチルベンジルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートの合成
原料を実施例4で合成した 4−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートに変更した以外は実施例8に準じて合成した。融点133〜136℃の白色結晶の目的物が収率86.3%で得られた。
【0022】
参考例
本発明の化合物を重合開始剤として使用した例を記載する。実施例2で得られた化合物0.1gをセロキサイド2021(ダイセル化学工業株式会社製 エポキシ樹脂の商品名)10gを混合してJISK7071(1988)の手法に準じてゲルタイムを測定した。加熱温度120℃で、4分40秒であった。また、実施例3の化合物を使用した120℃の結果は6分40秒であった。
【0023】
【発明の効果】
本発明の新規スルホニウム トリフルオロメタンスルホナートは、高純度を必要とするエポキシ硬化開始剤として有用である。よって所期の目的を達成する。
Claims (2)
- 請求項1に記載の化合物が、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、2−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−ヒドロキシフェニルメチル−1−ナフチルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、ベンジル−4−メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルメチル−4−メチルベンジルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナートのいずれかであるスルホニウム化合物。
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