JP2005112766A - スルフィン酸エステル化合物の製造方法 - Google Patents

スルフィン酸エステル化合物の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】悪臭物質であるジスルフィド化合物を用いることなく、スルフィン酸エステル化合物を製造する方法を提供すること。
【解決手段】式(1)
Figure 2005112766

(式中、Arは低級アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基またはアシル基で置換されていてもよい芳香族基を表わし、R1は低級アルキル基を表わす。nは1〜4の整数を表わす。)
で示されるカーバメート化合物と式(2)
Figure 2005112766

(式中、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。)
で示されるN−ハロスクシンイミドと式(3)
Figure 2005112766

(式中、R2は一級もしくは二級アルキル基を表わす。)
で示されるアルコール化合物とを反応させることを特徴とする式(4)
Figure 2005112766

(式中、ArおよびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示されるスルフィン酸エステル化合物の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、スルフィン酸エステル化合物の製造方法に関する。
スルフィン酸エステル化合物は、例えば医薬、農薬等の生理活性物質を初めとする種々のファインケミカルの重要な中間体である(例えば特許文献1参照。)。スルフィン酸エステル化合物の製造方法としては、対応するジスルフィド化合物とアルコールとN−ブロモスクシンイミドを反応させる方法(例えば非特許文献1参照。)が知られているが、原料であるジスルフィド化合物は悪臭物質であり、改善が望まれていた。
特開2000−7648号公報 Synthesis,253(1988)
このような状況のもと、本発明者は、悪臭物質であるジスルフィド化合物を用いることなく、スルフィン酸エステル化合物を製造する方法を製造する方法を開発すべく鋭意検討したところ、フェノール化合物から容易に得られるカーバメート化合物とN−ブロモスクシンイミド等のN−ハロスクシンイミドとアルコールとを反応させることにより、目的とするスルフィン酸エステルが容易に得られることを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は、式(1)
Figure 2005112766
(式中、Arは低級アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基またはアシル基で置換されていてもよい芳香族基を表わし、R1は低級アルキル基を表わす。nは1〜4の整数を表わす。)
で示されるカーバメート化合物と式(2)
Figure 2005112766
(式中、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。)
で示されるN−ハロスクシンイミドと式(3)
Figure 2005112766
(式中、R2は一級もしくは二級アルキル基を表わす。)
で示されるアルコール化合物とを反応させることを特徴とする式(4)
Figure 2005112766
(式中、ArおよびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示されるスルフィン酸エステル化合物の製造方法を提供するものである。
本発明によれば、悪臭物質であるジスルフィド化合物を用いることなく、フェノール化合物から容易に誘導されるカーバメート化合物とN−ハロスクシンイミドとアルコールを反応させることにより、収率よくスルフィン酸エステル化合物を得ることができるため、工業的に有利である。
式(1)
Figure 2005112766
で示されるカーバメート化合物(以下、カーバメート化合物(1)と略記する。)の式中、Arは低級アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基またはアシル基で置換されていてもよい芳香族基を表わし、R1は低級アルキル基を表わし、nは1〜4の整数を表わす。
低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
アリール基としては、例えばフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、例えば前記低級アルキル基と前記アリール基とから構成される、例えばベンジル基等が挙げられる。アシル基としては、例えばアセチル基、プロピオニル基等の前記低級アルキル基とカルボニル基とから構成されるもの、例えばベンゾイル基等の前記アリール基とカルボニル基とから構成されるものが挙げられる。
芳香族基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基等が挙げられる。
かかる低級アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基またはアシル基で置換されていてもよい芳香族基としては、例えばフェニル基、2−メチルフェニル基、2−フェニルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−クロロフェニル基、3−メチルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、2−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2−tert−ブチル−6−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、3−ニトロフェニル基、3−シアノフェニル基、2−カルボキシフェニル基、2−アセチルフェニル基、2−ベンジルフェニル基等が挙げられる。
かかるカーバメート化合物(1)としては、例えばS−フェニル−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−フェニル−N,N−ジエチルチオカーバメート、S−(2−メチルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−フェニルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(4−メチルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−クロロフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(3−メチルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−イソプロピルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−tert−ブチルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2,6−ジメチルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−tert−ブチル−6−メチルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(1−ナフチル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(3−ニトロフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(3−シアノフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−カルボキシフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−アセチルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、S−(2−ベンジルフェニル)−N,N−ジメチルチオカーバメート、1,1’−ビナフタレン−2,2’−ジイル S,S−ビス(N,N−ジメチルチオカーバメート)、1,5−ナフタレンジイル S,S−ビス(N,N−ジメチルチオカーバメート)、1,2,4−ナフタレントリイル S,S,S−トリス(N,N−ジメチルチオカーバメート)、1,1’−ビナフタレン−2,2’,3,3’−テトライル S,S,S,S−テトラキス(N,N−ジメチルチオカーバメート)等が挙げられる。
かかるカーバメート化合物(1)は、例えば特開昭60−84260号公報等に記載の方法に準じて、式(5)
Figure 2005112766
(式中、Arおよびnは上記と同一の意味を表わす。)
で示される芳香族化合物と式(6)
Figure 2005112766
(式中、R1は上記と同一の意味を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。)
で示される化合物を反応させ、得られる式(7)
Figure 2005112766
(式中、Ar、R1およびnは上記と同一の意味を表わす。)
で示される化合物を熱転移せしめることにより製造することができる。
式(2)
Figure 2005112766
で示されるN−ハロスクシンイミド(以下、N−ハロスクシンイミド(2)と略記する。)の式中、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。かかるN−ハロスクシンイミド(2)としては、N−ブロモスクシンイミド、N−クロロスクシンイミドが挙げられ、通常市販されているものが用いられる。
N−ハロスクシンイミド(2)の使用量は、カーバメート化合物(1)中のチオカーバメート基に対して、通常1〜5モル倍以上であり、好ましくは2.5〜4モル倍である。
式(3)
Figure 2005112766
で示されるアルコール化合物(以下、アルコール化合物(3)と略記する。)の式中、R2は一級もしくは二級アルキル基を表わす。一級もしくは二級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等の炭素数1〜4の一級もしくは二級の低級アルキル基が挙げられる。
かかるアルコール化合物(3)としては、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等が挙げられ、その使用量は、カーバメート化合物(1)中のチオカーバメート基に対して、通常1モル倍以上であり、その上限は特に制限されず、例えば溶媒を兼ねて大過剰量用いてもよい。
カーバメート化合物(1)とN−ハロスクシンイミド(2)とアルコール化合物(3)の反応は、通常カーバメート化合物(1)、N−ハロスクシンイミド(2)およびアルコール化合物(3)を、そのままもしくは溶媒中で混合することにより実施される。溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、例えばトルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えばアセトニトリル等のニトリル系溶媒、例えば酢酸エチル等のエステル系溶媒等の単独もしくは混合溶媒が挙げられる。かかる溶媒の使用量は特に制限されない。
反応温度は、通常−50〜100℃である。
反応終了後、例えば反応液を濃縮処理することにより、式(4)
Figure 2005112766
(式中、Ar、R2およびnは上記と同一の意味を表わす。)
で示されるスルフィン酸エステル化合物(以下、スルフィン酸エステル化合物(4)と略記する。)を取り出すことができる。また、反応液をそのままもしくは濃縮処理した後、水および必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加えて抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、スルフィン酸エステル化合物(4)を取り出すこともできる。取り出したスルフィン酸エステル化合物(4)は、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィ、蒸留等の通常の精製手段によりさらに精製してもよい。
かくして得られるスルフィン酸エステル化合物(4)としては、例えばベンゼンスルフィン酸メチル、ベンゼンスルフィン酸エチル、2−メチルベンゼンスルフィン酸メチル、2−メチルベンゼンスルフィン酸エチル、2−フェニルベンゼンスルフィン酸メチル、2−フェニルベンゼンスルフィン酸エチル、4−メチルベンゼンスルフィン酸メチル、4−メチルベンゼンスルフィン酸エチル、2−クロロベンゼンスルフィン酸メチル、2−クロロベンゼンスルフィン酸エチル、2−イソプロピルベンゼンスルフィン酸メチル、2−イソプロピルベンゼンスルフィン酸エチル、2−tert−ブチルベンゼンスルフィン酸メチル、2−tert−ブチルベンゼンスルフィン酸エチル、2,6−ジメチルベンゼンスルフィン酸メチル、2,6−ジメチルベンゼンスルフィン酸エチル、2−tert−ブチル−6−メチルベンゼンスルフィン酸メチル、2−tert−ブチル−6−メチルベンゼンスルフィン酸エチル、ナフタレン−1−スルフィン酸メチル、ナフタレン−1−スルフィン酸エチル、ナフタレン−2−スルフィン酸メチル、ナフタレン−2−スルフィン酸エチル、3−ニトロベンゼンスルフィン酸メチル、3−ニトロベンゼンスルフィン酸エチル、3−シアノベンゼンスルフィン酸メチル、3−シアノベンゼンスルフィン酸エチル、2−カルボキシベンゼンスルフィン酸メチル、2−カルボキシベンゼンスルフィン酸エチル、2−アセチルベンゼンスルフィン酸メチル、2−アセチルベンゼンスルフィン酸エチル、2−ベンジルベンゼンスルフィン酸メチル、2−ベンジルベンゼンスルフィン酸エチル、1,1’−ビナフタレン−2,2’−ジスルフィン酸ジメチル、1,5−ナフタレンジスルフィン酸ジメチル、1,2,4−ナフタレントリスルフィン酸トリメチル、1,1−ビナフタレン−2,2’,3,3’−テトラスルフィン酸テトラメチル等が挙げられる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1
S−フェニルジメチルチオカーバメート1gをメタノール20mLに溶解させ、N−ブロモスクシンイミド3gを、内温0℃で加えた。1時間攪拌、反応させた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、トルエンを加えて抽出処理した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧条件下で濃縮処理し、濃縮残渣をカラムクロマトグラフィ(シリカゲル、ヘキサン/アセトン=3/1)で精製処理し、ベンゼンスルフィン酸メチル0.82gを得た。収率:95%。
1H−NMR(400MHz,CDCl3,δ/ppm)
3.47(s,3H),7.55(m,3H),7.68(m,2H)
実施例2
(S)−1,1’−ビナフタレン−2,2’−ジイル S,S−ビス(N,N−ジメチルチオカーバメート)10gをメタノール20mLに溶解させ、N−ブロモスクシンイミド23gを室温で加えた。同温度で1時間攪拌、反応させた後、飽和炭酸カリウム水溶液およびクロロホルムを加えて、抽出処理した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、硫酸ナトリウムを濾別し、減圧条件下で濃縮処理した。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィ(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製処理し、1,1’−ビナフタレン−2,2’−ジスルフィン酸ジメチルの異性体混合物5.5gを得た。収率:62%。
1H−NMR(270MHz,CDCl3,δ/ppm)
異性体1;3.12(s,3H),3.51(s,3H),7.07−8.25(m,12H)
異性体2;2.96(s,6H),7.07−8.25(m,12H)
異性体3;3.55(s,6H),7.07−8.25(m,12H)
異性体1:異性体2:異性体3=2.4:1:0.6(NMR積分値比)

Claims (1)

  1. 式(1)
    Figure 2005112766
    (式中、Arは低級アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基またはアシル基で置換されていてもよい芳香族基を表わし、R1は低級アルキル基を表わす。nは1〜4の整数を表わす。)
    で示されるカーバメート化合物と式(2)
    Figure 2005112766
    (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。)
    で示されるN−ハロスクシンイミドと式(3)
    Figure 2005112766
    (式中、R2は一級もしくは二級アルキル基を表わす。)
    で示されるアルコール化合物とを反応させることを特徴とする式(4)
    Figure 2005112766
    (式中、ArおよびR2は上記と同一の意味を表わす。)
    で示されるスルフィン酸エステル化合物の製造方法。
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