JPH03123769A - ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法 - Google Patents

ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法

Info

Publication number
JPH03123769A
JPH03123769A JP26174589A JP26174589A JPH03123769A JP H03123769 A JPH03123769 A JP H03123769A JP 26174589 A JP26174589 A JP 26174589A JP 26174589 A JP26174589 A JP 26174589A JP H03123769 A JPH03123769 A JP H03123769A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ether
reaction
bismethylsulfonoxymethyl
metal cation
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26174589A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahito Nishizeki
雅人 西関
Nobuaki Kagawa
宣明 香川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP26174589A priority Critical patent/JPH03123769A/ja
Publication of JPH03123769A publication Critical patent/JPH03123769A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/63Esters of sulfonic acids
    • C07C309/64Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C309/65Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
    • C07C309/66Methanesulfonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/26Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of esters of sulfonic acids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種のメチルエーテル誘導体の合成中間体と
して有用なビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製
造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、種々の化合物、例えばゼラチンの硬膜剤や現像促
進剤、化学増感剤等の合成に用いられるメチルエーテル
誘導体を製造する方法としては、ビスタロロメチルエー
テルを原料とし、アルコール類、メルカプタン類、アミ
ン類、芳香族炭化水素類、フェノール類等の有機化合物
を反応させることによって種々のメチルエーテル誘導体
を製造する方法が一般的であった。
しかしながら、このビスタロロメチルエーテルは、揮発
性である上に強い毒性と催腫瘍性を持っていることから
作業者の健康を害する恐れがあるため、わが国では労働
安全衛生法に基く施行令によって製造等禁止物質に指定
されており、事実上使用することができない。
従って、メチルエーテル誘導体を製造する中間体である
ビスタロロメチルエーテルに代わる不揮発性で、かつ毒
性及び催腫瘍性の低い中間体の提供が強く要望されてい
た。その解決方法としてり、M、BurnessSll
、c、Perkins等によって米国特許4.025,
542号、同4,100,200号、J、Org、Ch
e+s、+42+2910(1977)にビスメチルス
ルホノキシメチルエーテルを用いた方法が開示されてい
る。
上記特許中ではビスメチルスルホノキシメチルエーテル
の製造方法としてメタンスルホン酸アセチルによる、−
数式(I[) CHsCJ(Ctl*O)、C0CH5
(式中、nは3〜6の整数を表す。)で表される化合物
、あるいはトリオキサン、あるいはテトラキサンの選択
的なエーテル結合の開裂反応を用いる方法が開示されて
いる。しかし、この方法には、原料としてトリオキサン
以外は一般式(U)で表される化合又ははテトラキサン
の入手あるいは製造が難しいという問題があった。又、
この方法を追試した結果、この反応の最重要過程である
エーテル結合の開裂反応に、上記文献に記載されている
ほどどの高い選択性は現れず、最終的な反応収率も特許
に記載されているほど高くはなかった。
従って、ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの収率
良い製造方法としては満足のいく方法とは言えないこと
がわかった。
又、ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法
としては、上記方法の他にメタンスルホン酸アセチルと
、製造が容易なビスアセトキシメチルエーテルとのエス
テル交換反応による方法も公知であったが、この方法に
は原料、反応中間体あるいは生成物が反応液中に共存す
るメタンスルホン酸によって分解されてしまうため反応
収率が高くならないという問題があり、これも又、満足
のいく方法とは言えなかった。
〔発明の目的〕
従って、本発明の目的は、ビスタロロメチルエーテルに
代わる、メチルエーテル誘導体を製造するための不揮発
性で、かつ毒性及び催腫瘍性の低い中間体であるビスメ
チルスルホノキシメチルエーテルの収率良い製造方法を
提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明の上記目的は、ビスアセトキシメチルエーテルと
メタンスルホン酸アセチルとを、実質的に無水の雰囲気
中、−数式(、I)で表される塩の共存下、減圧下に反
応させることによって達成された。
U□誓こ 一般式(I) MQX■ (式中、Mはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属
カチオン又は第4アンモニウムカチオンヲ表ス。Xはハ
ロゲンアニオン又は低級脂肪族カルボン酸アニオンを表
す。a及びmはl又は2を表す。) 以下、本発明を更に詳しく説明する。
ビスアセトキシメチルエーテルとメタンスルホン酸アセ
チルとを反応させることによって、ビスメチルスルホノ
キシメチルエーテルを製造する時に問題となるのは、反
応液中に存在するメタンスルホン酸によって原料、反応
中間体あるいは生成物が分解されてしまうことである。
本発明者らは、この問題を解決すべく研究を行った結果
、この反応の反応液中に前記一般式〔I〕M(I X 
taで表される塩を共存させておくことによって上記の
問題が解決されることを見い出した。
この塩の作用機構としては次のように考えることができ
る。すなわち、反応液中に存在しているメタンスルホン
酸と、これらの塩との間で下記の反応式(1)で表され
る反応が起こり、更にそこで生成したHXが反応条件下
に反応液から除去されることで、反応液中に存在してい
るメタンスルホン酸がアルカリ金属塩、アルカリ土類金
属塩あるいは第4アンモニウム塩に変換されるものと考
えられる。それによって反応液中のメタンスルホン酸が
減少し、反応中間体の分解が抑えられるものと考えられ
る。
反応式(1) %式% (式中、M、X、Q及びmは一般式〔I〕におけるもの
と同義である。) 一般式〔1〕で表される塩としては特に制限はなく、結
晶水などの水を含まないものならば何でも用いることが
できる。例えば塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カ
リウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化テト
ラメチルアンモニウム、塩化チトラエチルアンモニウム
、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化テトラブチル
アンモニウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テ
トラメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウ
ム、沃化ナトリウム、沃化カリウム、蟻酸ナトリウム、
蟻酸カリウム、蟻酸テトラメチルアンモニウム、酢酸ナ
トリウム、酢酸カリウム、酢酸テトラメチルアンモニウ
ム、プロピオン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム、
酪酸ナトリウム、酪酸カリウム、イソ酪酸ナトリウム、
イソ酪酸カリウム等が挙げられる。
生成するHXが反応液から脱離し易いことからXとして
はハロゲンアニオンが好ましく、塩化物アニオンがより
好ましい。又、反応終了後に、反応液からの分離がし易
いことから、Mとしてはアルカリ金属カチオン又はアル
カリ土類金属カチオンが好ましく、アルカリ金属カチオ
ンが、より好ましい。更に入手が容易であること、安価
であることから、一般式〔I〕で表される塩としては塩
化ナトリウムあるいは塩化カリウムが特に好ましい。
又、一般式〔I〕で表される塩の形態としては、反応が
結晶表面で起こっていることから、細かい結晶を用いる
ことが好ましい。粒径0.5+ms+以下の細かい結晶
あるいは粉末状の物を用いることが特に好ましい。又、
添加量はメタンスルホン酸アセチル中に含まれるメタン
スルホン酸に対して2倍モル以上用いるのが好ましく、
より好ましくは4倍モル以上用いることである。
この反応では、メタンスルホン酸アセチルとビスアセト
キシメチルエーテルのモル比は理論上2=1であるが、
メタンスルホン酸アセチルはこれより多く用いるのが好
ましい。
メタンスルホン酸アセチル及びビスメチルスルホノキシ
メチルエーテルは、共に水によって分解されるとメタン
スルホン酸を生じるが、これは反応中間体の分解を促進
し反応収率を低下させるので、反応は実質的に無水の雰
囲気中で行わなければならない。
メタンスルホン酸アセチルは既知の方法(例えば、M、
H,Karger等によるJ、Qrg、Chem、 、
36.528(1971)記載の方法)によって収率よ
く製造することができ、通常、メタンスルホン酸と1当
量以上の塩化アセチルとを反応させて製造したものを、
単離精製することなく用いることができる。この際、未
反応のメタンスルホン酸が多量に残っていると、反応中
間体の分解を促進し、反応収率を低下させる原因となる
ためため、未反応のメタンスルホン酸はメタンスルホン
酸アセチルの10モル%以下に抑えておく必要がある。
これ以上のメタンスルホン酸が残っていると本発明の方
法でも収率の低下を防ぐことが困難になる。
ビスアセトキシメチルエーテルも既知の方法(例えば、
J、Tomiska等によるAngev、Chem、 
、74.248(1962)記載の方法)によって収率
よく製造することができる。具体的にはs−トリオキサ
ンと2当量以上の無水酢酸を、強酸触媒下に反応させる
ことによって容易に製造することができる。強酸として
は、一般の無機及び有機の強酸から選ぶことができるが
、好ましくは過塩素酸である。この反応では副生成物と
してジアセトキシメタン(CH,CO。
CIl x 0COCHs )が生成するが、この二つ
の化合物は精密分別蒸留によって収率よく分離すること
ができる。又、これらは分離することなく用いることも
できる。ジアセトキシメタンはメタンスルホン酸アセチ
ルとの反応性が極めて低く、実質的に殆ど反応しないの
で、反応液中に存在しても何の影響も与えない。更にジ
アセトキシメタンは減圧下に1反応を行なう間に速やか
に溜去されてしまうので、反応終了時には反応液中には
殆ど残らず、反応液からビスメチルスルホノキシメチル
エーテルの単離を行なう時や反応液をそのまま次の反応
に用いる時にも全く問題ない。
本発明のビスメチルスルホノキシメチルエーテルを製造
する反応は次の反応式(II)に従って進行する。
反応式(I[) 1 ) CH3CO0CH20CH,0COCH,+ 
CH,SO,0COCH3= CH*C00CHzOC
H,05OzCH,+ CH,C00COCH32) 
CHiCOOCHzOCHt、QSOzCHs + C
HsSO20COCHx= CH,So、OCR,OC
H,OSO,CH,+ CH,C00COCHsこの反
応は可逆反応であり平衡が圧倒的に原糸の方によってい
るため、常圧では殆ど反応は進行しないかのように見え
るが、反応を減圧下で行ない、反応の進行と共に生成す
る無水酢酸を除去すれば容易に反応は進行する。減圧度
は10mmHg以下が必要であり、好ましくは1.om
mHg以下、より好ましくは0.1lmm1(以下であ
る。
反応温度は40〜120°Cの間で選ぶことができるが
、好ましくは60〜lOO°C1より好ましくは80〜
90℃で反応を行なうことで、生成物の分解を抑えなが
ら短時間で反応を終えることができる。
この反応は、原料、生成物共に反応性が高く、更に減圧
下に反応を行なうことから、通常は無溶媒で行う。
本発明の方法で製造したビスメチルスルホノキシメチル
エーテルは、反応液のまま次の反応に用いてもよいし、
−度単離した後に次の反応に用いてもよい。ビスメチル
スルホノキシメチルエーテルは、これと反応しない溶媒
を用いて再結晶することで、収率よく単離することがで
きる。再結晶に用いることができる溶媒としては、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等が挙げられる。
本発明の方法で製造したビスメチルスルホノキシメチル
エーテルと、活性水素を有する有機化合物あるいは塩基
性有機化合物とを反応させることで種々のメチルエーテ
ル誘導体を製造することができる。活性水素を有する有
機化合物としては、アルコール類、メルカプタン類、フ
ェノール類、第1級アミン類、第2級アミン類、イミド
類、活性メチレン基を有する化合物等が挙げられる。こ
れらはアルカリ金属塩、あるいはその他の金属塩の形に
して本発明の化合物と反応させることができる。塩基性
有機化合物としては第3級アミン類、ホスフィン類、チ
オエーテル類、チオウレア類、アミンオキシド類、種々
のへテロ環化合物等が挙げられる。これらは本発明の化
合物と反応して有機塩化合物を生成する。活性水素を有
する化合物の具体例としてば、エタノール、ブタノール
、エチレングリコール、フェノール、クロロフェノール
、ナフトール、エチルメルカプタン、ブタンチオール、
2−メルカプトエタノール、チオフェノール、プロピル
アミン、ブチルアミン、ジエチルアミン、マレイミド、
フタルイミド、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル等
が挙げられる。
又、塩基性化合物の例としては、トリエチルアミン、ピ
リジン、キノリン、N−メチルピペラジン、N−メチル
モルホリン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン、エチルスルフィド、チオウレア、ピリジン−N−
オキシト等が挙げられる。
反応溶媒としては、ビスメチルスルホノキシメチルエー
テルと反応しないか、又は反応性が低いものから自由に
選ぶことができる。例えば、テトラヒドロ7ラン、ジオ
キサン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、イソプロパツール等を挙げることができる。
反応温度は、−50〜100℃の間で自由に選ぶことが
でさる。好ましくは、0〜30°Cで、これによって穏
やかに、かつ速やかに反応を行うことができる。
〔実施例〕
以下に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実
施例中で、生成物の構造は、NMRスペクトルで確認し
た。
実施例1 ビスアセトキシメチルエーテルの製造 無水酢酸224.4g(2,2モル)に60%過塩素酸
水溶液0.0044+1112を添加し、60℃まで加
熱した。これを激しくかき混ぜなからs−)リオキサン
90g(1,0モル)を10分間で添加した。この間激
しく発熱し、内温は110℃まで上昇した。更にl 1
0 ’Oで2時間反応した後、室温まで冷却した。反応
液を減圧下に分別広開し、ビスアセトキシメチルエーテ
ル144.3g(収率90%)を得た。沸点92〜94
℃/IO+mmHg。
n m rδ2.09(s、6H)、5−35(s、4
[()。
実施例2 メタンスルホン酸アセチルの製造 無水のメタンスルホン酸384g(4,0モル)ト塩化
アセチル1256g(16,0モル)を無水雰囲気中で
混合し、次いで6時間激しく加熱還流させた。冷却後1
、過剰の塩化アセチルを減圧溜去して深紅色のメタンス
ルホン酸アセチル550g(収率100%)を得た。
このものは、不純物としてメタンスルホン酸無水物3モ
ル%と未反応のメタンスルホン酸2モル%を含んでいた
。nmrδ2.28(s、3H)、3.33(s、38
)。
実施例3 ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造−七の1
(比較例) (メタンスルホン酸アセチルとトリオキサンとの反応) メタンスルホン酸アセチル330.6g(2,2モル)
を0°Cに冷却し、次いで無水雰囲気中で冷却しながら
、トリオキサン90.0g(1,0モル)を添加した。
20分はどでトリオキサンが完溶した。ゆっくりと加熱
を始め、次いで0.5m+Hgの減圧下に80〜90 
’Oで6時間反応させた。この間ジアセトキシメタン7
2.6g(55%)が溜出された。反応液のNMRより
目的物のビスメチルスルホノキシメチルエーテル(83
,20(s、6H)、578(s、4H))が43モル
%、副生成物のメチルスルホノキシメチルオキシメチル
アセテート  (CI(3SO,CH,OCH,0CO
CH,δ 2.13(s 、3B)、3.10(s 。
3H) 、 5.40(s 、 2H) 、 5−46
(s 、 2H))が21モル%、メチルスルホノキシ
メチルオキシメチルアセテートCcnsso、Cl20
COCHs δ2.18(s、3H)、3.12(s、
3H)、5.75(s。
2H))が36%含まれていることがわかった。反応液
を冷却後、乾燥クロロホルム120IIQで希釈し、−
30°Cで一晩静置した。析出した結晶を窒素雰囲気中
で濾過、乾燥クロロホルム、次いで乾燥エーテルで洗浄
し、乾燥させ微赤色のビスメチルスルホノキシメチルエ
ーテル70.2g(収率30%)の結晶を得た。nmr
  83.20(s、6H)、5.78(s、4H)。
この実施例から、米国特許4,025,542号及び同
4.100.200号に記載された方法では、反応の最
重要過程であるエーテル結合の開裂反応に高い選択性は
現れず、最終的な反応収率も余り高くない。
従って、ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの収率
良い製造方法とは言えないことがわかる。
実施例4 ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造−その2
(比較例) (メタンスルホン酸アセチルとビスアセトキシメチルエ
ーテルとの反応) メタンスルホン酸アセチル330.6g(2,2モル)
とビスアセトキシメチルエーテル162.1g(1,0
モル)を無水雰囲気中で混合し、次いでQ、5mmHg
の減圧下に80〜90°Cで10時間反応させた。この
間、無水酢酸163.4g(85%)が溜出された。反
応液のNMRより目的物のビスメチルスルホノキシメチ
ルエーテル570モル%、反応中間体のメチルスルホノ
キシメチルオキシメチルアセテートが5モル%、反応中
間体の分解物メチルスルホノキシメチルアセテートが1
5モル%含まれていることがわかった。反応液を冷却後
、乾燥クロロホルム120mffで希釈し、−30°C
で一晩静置する。析出する結晶を窒素雰囲気中で濾過、
乾燥クロロホルム、次いで乾燥エーテルで洗浄し、乾燥
させ微赤色のビスメチルスルホノキシメチルエーテル1
2L7g(収率55%)の結晶を得たa n m rで
確認した。
この実施例から、メタンスルホン酸アセチルとビスアセ
トキシメチルエーテルの反応では、反応中間体の分解に
よって反応収率が低下していることがわかる。
実施例5 ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造−その3
(本発明) (メタンスルホン酸アセチルとビスアセトキシメチルエ
ーテルとの反応) メタンスルホン酸アセチル330.6g(2,2モル)
、ビスアセトキシメチルエーテル162.1g(1,0
モル)及び塩化ナトリウム12.9g(0,22モル)
〔検氷化学製標準試薬、含有率99.99%〕を無水雰
囲気中で混合し、次いで0.5mmHHの減圧下に80
−90°Cで10時間反応させた。この間、無水酢酸1
98.0g(97%)が演出された。反応液のNMRよ
り目的物のビスメチルスルホツキキシメチルエーテルが
93モル%、反応中間体のメチルスルホノキシメチルオ
キシメチルアセテートが5モル%、反応中間体の分解物
メチルスルホノキシメチルアセテートが2モル%含まれ
ていることがわかった。反応液を冷却後、乾燥クロロホ
ルム120mQで希釈し、−30℃で一晩静置する。析
出する結晶を窒素雰囲気中で濾過、乾燥クロロホルム、
次いで乾燥エーテルで洗浄し、乾燥させ微赤色のビスメ
チルスルホノキシメチルエーテル175.5g(収率7
5%)の結晶を得た。nmrで確認した。
実施例4と実施例5の比較から、本発明ではメタンスル
ホン酸アセチルとビスアセトキシメチルエーテルの反応
において、塩化ナトリウムを共存させることで反応中間
体の分解を抑制し、反応収率を向上させたことがわかる
次ぎに、本発明によって製造したビスメチルスルホノキ
シメチルエーテルの使用法について実施例を挙げて説明
する。
実施例6 ビスヒドロキシエチルチオメチルエーテルの製造乾燥イ
ソプロピルエーテル1200mIlにナトリウムエトキ
シド68.1g(1,0モル)と2−メルカプトエタノ
ール78.1g(1,0モル)を加え、均一溶液になる
まで窒素雰囲気下で撹拌した。均一溶液をQ ’Cに冷
却しながら窒素雰囲気下でビスメチルスルホノキシメチ
ルエーテル117.0g(0,5モル)の乾燥テトラヒ
ドロ7ラン400mff溶液を10分間で滴下し、更に
1時間撹拌した。反応と共に生成した不溶物を濾過し、
濾液を減圧濃縮して淡黄色のビスヒドロキシエチルチオ
メチルエーテル89.1g(収率90%)を得lこ 。
このものはカラー写真感光材料の漂白促進剤として有用
であり、又、このものを原料として公知の方法によって
合成されるビスビニルスルホニルメチルエーテル[(C
Hz −CI(SOxCHz) zO]は、写真感光材
料用の硬膜剤として特に有効である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、反応中間体として有用であり、高い反
応性を有すると共に、不揮発性でかつ毒性及ヒ催腫瘍性
の低いビスメチルスルホノキシメチルエーテルを容易に
製造することができる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ビスアセトキシメチルエーテルとメタンスルホン
    酸アセチルとを、実質的に無水の雰囲気中、一般式〔
    I 〕で表される塩の共存下、減圧下に反応させることを
    特徴とするビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製
    造方法。 一般式〔 I 〕 M_lX_m (式中、Mはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属
    カチオン又は第4アンモニウムカチオンを表す。Xはハ
    ロゲンアニオン又は低級脂肪族カルボン酸アニオンを表
    す。l及びmは1又は2を表す。)
  2. (2)一般式〔 I 〕において、Xがハロゲンアニオン
    であることを特徴とする請求項1記載のビスメチルスル
    ホノキシメチルエーテルの製造方法。
  3. (3)一般式〔 I 〕において、Mがアルカリ金属カチ
    オン又はアルカリ土類金属カチオンであることを特徴と
    する請求項1又は請求項2記載のビスメチルスルホノキ
    シメチルエーテルの製造方法。
  4. (4)一般式〔 I 〕で表される塩が塩化ナトリウム又
    は塩化カリウムであることを特徴とする請求項2又は請
    求項3項記載のビスメチルスルホノキシメチルエーテル
    の製造方法。
  5. (5)一般式〔 I 〕で表される塩が粒径0.5mm以
    下の細かい結晶、又は粉末状であることを特徴とする請
    求項1、請求項2、請求項3又は請求項4記載のビスメ
    チルスルホノキシメチルエーテルの製造方法。
JP26174589A 1989-10-06 1989-10-06 ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法 Pending JPH03123769A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26174589A JPH03123769A (ja) 1989-10-06 1989-10-06 ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26174589A JPH03123769A (ja) 1989-10-06 1989-10-06 ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03123769A true JPH03123769A (ja) 1991-05-27

Family

ID=17366120

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26174589A Pending JPH03123769A (ja) 1989-10-06 1989-10-06 ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03123769A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008084048A1 (en) 2007-01-11 2008-07-17 Phoenix Chemicals Limited Synthesis

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008084048A1 (en) 2007-01-11 2008-07-17 Phoenix Chemicals Limited Synthesis

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1194397B1 (en) A process for obtaining (nitroxymethyl)phenyl esters of salicylic acid derivatives
RU2315035C2 (ru) Способ получения нитрооксипроизводных напроксена
JPH021470A (ja) スルホニウム化合物およびその製造方法
IL31082A (en) Derivatives of heptenoic acid
JPH03123769A (ja) ビスメチルスルホノキシメチルエーテルの製造方法
JP2764100B2 (ja) 有機ホスホニウム塩の製造方法
JPH03123768A (ja) ビスアルキルスルホノキシメチルエーテル類あるいはビスアリールスルホノキシメチルエーテル類の製造方法
JPS59122456A (ja) ジシクロヘキシルジスルフイドの製造法
JPH0115497B2 (ja)
KR940008923B1 (ko) 아미노아세토니트릴 유도체
JPH03178959A (ja) ビスアルキルスルホノキシメチルエーテル類あるいはビスアリールスルホノキシメチルエーテル類の製造方法
JPH051023A (ja) アルカンスルホンアニリド誘導体の製法
KR20030083007A (ko) 5-치환 옥사졸 화합물 및 5-치환 이미다졸 화합물의제조방법
JPH0525122A (ja) 4−アルキル−3−チオセミカルバジドの製造方法
SU1205756A3 (ru) Способ получени 1,1-дихлор-4-метилпентадиенов
EP1777216A1 (en) A process for the preparation and purification of bicalutamide
US4645852A (en) One step conversion of epoxyalkanes to alkyl esters of alkyl and aryl sulfonic acids
JPH0586042A (ja) 2−メルカプト−フエノチアジンの製造方法
JPS6324508B2 (ja)
JPH04139170A (ja) 置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物及びその製造方法並びに置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法
KR950013253B1 (ko) 피라졸 설포닐카바메이트 유도체의 제조방법
JP2708617B2 (ja) 4,4―ジアルキル置換チアゾリジンチオンの製造方法
JPH03178958A (ja) ビスアルキルスルホノキシメチルエーテル類あるいはビスアリールスルホノキシメチルエーテル類の製造方法
KR910003636B1 (ko) 벤조페논 옥심화합물의 제조방법
KR910003635B1 (ko) 2-(2-나프틸옥시)프로피온아닐리드 유도체의 제조방법