JP4214229B2 - 新規なｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物とその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、新規なＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物及びこの新規化合物を製造するための二つの新規な製造方法に関するものである。
ペプチド合成では、アミノ酸のカルボキシル基と他のアミノ酸のアミノ基を脱水縮合してペプチド結合を形成することが行われる。ペプチド合成を進めるためには、まず酸成分となるアミノ酸のアミノ基の保護、アミン成分となるアミノ酸のカルボキシ基の保護を行う。
ペプチド結合を形成させた後、得られる生成物を単離、精製し、アミノ保護基を選択的に除去すれば新たなアミン成分となり、次の縮合反応に供される。
アミノ酸の窒素末端を保護した化合物及び保護する化合物を製造する方法は、ペプチド合成を考えるうえでは、重要な手段である。アミノ基の保護基の１つとしてアミノ基にスルフェニル基を導入して得られるＮ−スルフェニルアミノ酸誘導体及びその合成反応が知られている（非特許文献１，非特許文献２）。また、スルフェンアミド化合物は、アミノ基を保護するという目的以外に、特性としても種々の機能性を持つことが報告されている。たとえば、ゴムの加硫化剤（特許文献１，特許文献２）、発芽前処理用除草剤（特許文献３）、殺菌剤（特許文献４）等の従来技術が知られており、前記の機能を有する化合物であることが知られている。
以上のことから、新たなスルフェンアミド化合物を得ることは、技術的に見て重要なことである。
ペプチド結合を形成させた後、得られる生成物を単離、精製し、アミノ保護基を選択的に除去すれば新たなアミン成分となり、次の縮合反応に供される。
アミノ酸の窒素末端を保護した化合物及び保護する化合物を製造する方法は、ペプチド合成を考えるうえでは、重要な手段である。アミノ基の保護基の１つとしてアミノ基にスルフェニル基を導入して得られるＮ−スルフェニルアミノ酸誘導体及びその合成反応が知られている（非特許文献１，非特許文献２）。また、スルフェンアミド化合物は、アミノ基を保護するという目的以外に、特性としても種々の機能性を持つことが報告されている。たとえば、ゴムの加硫化剤（特許文献１，特許文献２）、発芽前処理用除草剤（特許文献３）、殺菌剤（特許文献４）等の従来技術が知られており、前記の機能を有する化合物であることが知られている。
以上のことから、新たなスルフェンアミド化合物を得ることは、技術的に見て重要なことである。
スルフェニル基を保護基として用いる場合は、従来から塩化スルフェニル化合物とアミノ酸を反応させることが行われてきているが、問題となるのは、出発物質となる塩化スルフェニル化合物を合成するためには有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いることが必要とされることであった（非特許文献３）。さらに、塩化スルフェニル化合物は安定な化合物ではなく、保存中に分解されて生成した化合物が混入したりすることがおきたり、使用に際して、予め精製するなどの煩雑な操作が必要とされる（非特許文献４）などの問題点がある。この問題点を克服するために、Ｎ−スルフェニルサッカリン誘導体の合成方法を利用することが報告されているが（非特許文献４）、その合成のためにも、塩化スルフェニル化合物が用いられてきた。
このほかにも、スルフェンアミド化合物は、メルカプト基やジスルフィド基を有する化合物を、直接塩素ガスと処理をした後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を反応させる方法、又はクロラミン化合物とメルカプト化合物を反応させる方法により製造されている。いずれの方法の場合も、出発原料を製造するにあたり、有毒で取り扱いが難しい塩素ガスを用いなければならないものであり、やはり前記の問題点を解消できていない。 したがって、反応に際し塩素ガスなどを用いない、安全な方法で合成されるスルフェニル化剤を用いた新規なＮ−スルフェニルアミノ酸誘導体及びそのスルフェンアミド類の合成方法の開発が望まれている。
このほかにも、スルフェンアミド化合物は、メルカプト基やジスルフィド基を有する化合物を、直接塩素ガスと処理をした後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を反応させる方法、又はクロラミン化合物とメルカプト化合物を反応させる方法により製造されている。いずれの方法の場合も、出発原料を製造するにあたり、有毒で取り扱いが難しい塩素ガスを用いなければならないものであり、やはり前記の問題点を解消できていない。 したがって、反応に際し塩素ガスなどを用いない、安全な方法で合成されるスルフェニル化剤を用いた新規なＮ−スルフェニルアミノ酸誘導体及びそのスルフェンアミド類の合成方法の開発が望まれている。
本発明の課題は、新規なＮ−スルフェニルアミノ酸エステル、及びこの種の化合物の製造に際しては、従来、有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いられてきたが、製法のみならず、関与する原料物質の製造に際しても塩素ガスを用いることがない、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造することができる方法を提供することである。
本発明者らは、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物とアミノ酸エステル化合物を反応させることにより、ベンゾイミダゾリル基の部分がアミノ酸のアミン基に置換され、安全かつ容易にＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物が得られることを、新たに見出した。
また、スルフェンアミド化合物とアミノ酸エステル化合物を反応させることによっても、同じく、安全かつ容易にＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物が得られることを、新たに見出した。
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
また、スルフェンアミド化合物とアミノ酸エステル化合物を反応させることによっても、同じく、安全かつ容易にＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物が得られることを、新たに見出した。
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明によれば、以下の発明が提供される。
（１） 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物。
（式中、
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
（２） 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
（式中、
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
（式中、
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｑは、０または１〜４の整数である。
ｐは、０または１〜５の整数である。）
（式中、
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
（３） アミノ酸エステル塩酸塩とアミン類を反応させて得られるアミノ酸エステル化合物を用いることを特徴とする（２）記載のＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
（４） 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ニ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
（式中、
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
（式中
Ｒ３は、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
（式中、
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
（５）前記（４）において、アミノ酸エステル化合物をアミノ酸エステル塩酸塩とアミン類より合成して、スルフェンアミド化合物と反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
（１） 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物。
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
（２） 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｑは、０または１〜４の整数である。
ｐは、０または１〜５の整数である。）
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
（３） アミノ酸エステル塩酸塩とアミン類を反応させて得られるアミノ酸エステル化合物を用いることを特徴とする（２）記載のＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
（４） 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ニ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
Ｒ３は、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
（５）前記（４）において、アミノ酸エステル化合物をアミノ酸エステル塩酸塩とアミン類より合成して、スルフェンアミド化合物と反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
本発明によれば、新規なＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物及びＮ−スルフェニアミノ酸エステル化合物を、有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いることなく、収率よく安全に製造することができる。この新規化合物は、Ｎ−スルフェニル化合物の末端にアミノ基を有する化合物のアミノ基の保護手段となる化合物を提供するものであり、ペプチド合成を行う場合に利用できる。また、ゴムの加硫化剤、発芽前処理用除草剤、殺菌剤などの生理活性物質となる。
本発明は、下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を目的生成物とするものである。
式中の置換基は以下の通りである。
（１）Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる基を表す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基を挙げることができる。
前記ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基を挙げることができる。
前記アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基を挙げることができる。
前記アルコキシカルボニルアルキル基としては、アルコキシカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。
前記フェノキシアルキル基としては、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フェノキシプロピル基を挙げることができる。
前記カルバモイルアルキル基としては、カルバモイルメチル基、カルバモイルエチル基を挙げることができる。
前記インドールアルキル基としては、インドールメチル基、インドールエチル基、インドールプロピル基を挙げることができる。
前記アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチルを挙げることができる。
ｎは、１〜１０の整数を示す。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基により置換されていてもよい。
前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等により置換されていてもよい。
（３）Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｍは、０又は１〜４の整数である。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
（４）Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基である。
（１）Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる基を表す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基を挙げることができる。
前記ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基を挙げることができる。
前記アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基を挙げることができる。
前記アルコキシカルボニルアルキル基としては、アルコキシカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。
前記フェノキシアルキル基としては、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フェノキシプロピル基を挙げることができる。
前記カルバモイルアルキル基としては、カルバモイルメチル基、カルバモイルエチル基を挙げることができる。
前記インドールアルキル基としては、インドールメチル基、インドールエチル基、インドールプロピル基を挙げることができる。
前記アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチルを挙げることができる。
ｎは、１〜１０の整数を示す。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基により置換されていてもよい。
前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等により置換されていてもよい。
（３）Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｍは、０又は１〜４の整数である。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
（４）Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基である。
前記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を得るために、
下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させる（方法1）
下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させる（方法1）
一方の原料物質であるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物は、下記一般式（ロ）で示される公知化合物である。
（１）Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｍは、０又は１〜４の整数である。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
（２）Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基である。
（３）Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる.
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
ｑは０または１〜４の整数を示す。
ｍは、０又は１〜４の整数である。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
（２）Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基である。
（３）Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる.
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
ｑは０または１〜４の整数を示す。
前記一般式（ロ）で示されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物は、スルフェンアミド化合物とベンゾイミダゾール化合物を加熱する公知の方法により製造することができる。
他の一方の出発物質は、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物である。
前記、アミノ酸エステル化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる基を表す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基を挙げることができる。
前記ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基を挙げることができる。
前記アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基を挙げることができる。
前記アルコキシカルボニルアルキル基としては、アルコキシカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。
前記フェノキシアルキル基としては、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フェノキシプロピル基を挙げることができる。
前記カルバモイルアルキル基としては、カルバモイルメチル基、カルバモイルエチル基を挙げることができる。
前記インドールアルキル基としては、インドールメチル基、インドールエチル基、インドールプロピル基を挙げることができる。
前記アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチルを挙げることができる。
ｎは、１〜１０の整数を示す。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基あるいは芳香族炭化水素基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基により置換されていてもよい。
前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等により置換されていてもよい。
（１）Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる基を表す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基を挙げることができる。
前記ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基を挙げることができる。
前記アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基を挙げることができる。
前記アルコキシカルボニルアルキル基としては、アルコキシカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。
前記フェノキシアルキル基としては、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フェノキシプロピル基を挙げることができる。
前記カルバモイルアルキル基としては、カルバモイルメチル基、カルバモイルエチル基を挙げることができる。
前記インドールアルキル基としては、インドールメチル基、インドールエチル基、インドールプロピル基を挙げることができる。
前記アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチルを挙げることができる。
ｎは、１〜１０の整数を示す。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基あるいは芳香族炭化水素基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基により置換されていてもよい。
前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等により置換されていてもよい。
前記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、前記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させる（方法1）では、以下のような反応条件が採用される。
本発明におけるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造は、反応溶媒の存在下に行うことが望ましい。
この反応溶媒には、極性又は非極性溶媒が適宜用いられる。
溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は、単独または混合溶媒として使用することができる。
前記製造方法の条件は以下の通りである。
反応温度は、０〜１２０℃の範囲で行うことができる。この温度未満の条件で行うと、反応が遅くなり、反応時間が長くなる。
また、この温度を超えると、反応温度が高くなりすぎ、分解反応や副反応が多くなる。この温度範囲は、さらに、２０〜１００℃の範囲で行うことが、さらに、好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
本発明におけるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造は、反応溶媒の存在下に行うことが望ましい。
この反応溶媒には、極性又は非極性溶媒が適宜用いられる。
溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は、単独または混合溶媒として使用することができる。
前記製造方法の条件は以下の通りである。
反応温度は、０〜１２０℃の範囲で行うことができる。この温度未満の条件で行うと、反応が遅くなり、反応時間が長くなる。
また、この温度を超えると、反応温度が高くなりすぎ、分解反応や副反応が多くなる。この温度範囲は、さらに、２０〜１００℃の範囲で行うことが、さらに、好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
前記方法１の場合に、原料物質である一般式（ハ）で示されるアミノ酸エステル化合物を、アミノ酸化合物をエステル化することにより得る化合物を原料物質として反応させることができる。
前記アミノ酸エステル化合物は、アミノ酸エステル塩酸塩をアミン類により中和することによって得ることができる。
この場合アミノ酸エステル化合物を単離して用いてもまた反応系中で生成するものを単離しないで用いてもよい。
アミン類としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジエチルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。
前記アミノ酸エステル化合物は、アミノ酸エステル塩酸塩をアミン類により中和することによって得ることができる。
この場合アミノ酸エステル化合物を単離して用いてもまた反応系中で生成するものを単離しないで用いてもよい。
アミン類としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジエチルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。
前記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ニ）で表されるスルフェンアミド化合物と、前記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造することができる（方法2）。
一方の原料物質には、下記一般式（ニ）で示されるスルフェンアミド化合物を用いることができる。
スルフェンアミド化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｍは、０又は１〜４の整数である。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる.
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
（２）Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基である。
（１）Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｍは、０又は１〜４の整数である。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる.
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
（２）Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基である。
前記スルフェンアミド化合物は公知物質であり、チオール化合物とヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸より得ることができる。
他の一方の原料物質には、前記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を用いることができる。
下記一般式（ニ）で表されるスルフェンアミド化合物と、前記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させる方法は、以下の通りである。
反応は、反応溶媒の存在かに行うことが望ましく、極性又は非極性溶媒が適宜用いられる。
溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は、単独または混合溶媒として使用することができる。
前記製造方法の条件は以下の通りである。
反応温度は、０〜１２０℃の範囲で行うことができる。この温度未満の条件で行うと、反応が遅くなり、反応時間が長くなる。
また、この温度を超えると、反応温度が高くなりすぎ、分解反応や副反応が多くなる。この温度範囲は、さらに、２０〜１００℃の範囲で行うことが、さらに、好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
反応は、反応溶媒の存在かに行うことが望ましく、極性又は非極性溶媒が適宜用いられる。
溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は、単独または混合溶媒として使用することができる。
前記製造方法の条件は以下の通りである。
反応温度は、０〜１２０℃の範囲で行うことができる。この温度未満の条件で行うと、反応が遅くなり、反応時間が長くなる。
また、この温度を超えると、反応温度が高くなりすぎ、分解反応や副反応が多くなる。この温度範囲は、さらに、２０〜１００℃の範囲で行うことが、さらに、好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
前記方法1及び2の方法を反応式で示すと以下のとおりである。
本発明で得られるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の具体例について例示すると以下の化学式（１）から（１１）で示される化合物である。
次に、実施例により、発明の内容をさらに詳細に説明する。
なお、この実施例は、本発明の理解を容易にするためにあげた一例であり、本発明は、これに限定されるものではない。
下記実施例によって製造されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物（１）〜（１１）は、前記で示した化合物（１）〜（１１）に対応するもので、その物性値としては、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、また、未知のものについては各種スペクトルの測定値および元素分析値に基づいて、その構造を同定した。
なお、この実施例は、本発明の理解を容易にするためにあげた一例であり、本発明は、これに限定されるものではない。
下記実施例によって製造されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物（１）〜（１１）は、前記で示した化合物（１）〜（１１）に対応するもので、その物性値としては、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、また、未知のものについては各種スペクトルの測定値および元素分析値に基づいて、その構造を同定した。
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とグリシンメチルエステル塩酸塩（６３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（１）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グリシンメチルエステルを収量７６．０ｍｇ（収率８５％）で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行うことによりさらに精製することができた。
融点 190-191 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3) δ 3.19(1H, t, J = 6.1 Hz),3.76 (2H, d, J = 6.1 Hz),3.77 (3H, s), 3.91 (3H, s),7.16 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.54(1H,ddd, J = 8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.87(1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 8.01 (1H, dd,J = 7.6, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 52.2, 52.2, 53.0, 122.3, 123.8, 123.9, 131.3,132.7, 148.2, 166.9,172.1. IR (KBr) νmax 3351, 2953, 1744, 1707, 1460, 1435, 1273, 1252, 1208,1144, 1101,1055, 747 cm-1. 元素分析 C11H13NO4S としての計算値: C, 51.75;H, 5.13; N, 5.49. 実測値: C, 51.83; H, 5.14; N, 5.31.
融点 190-191 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3) δ 3.19(1H, t, J = 6.1 Hz),3.76 (2H, d, J = 6.1 Hz),3.77 (3H, s), 3.91 (3H, s),7.16 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.54(1H,ddd, J = 8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.87(1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 8.01 (1H, dd,J = 7.6, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 52.2, 52.2, 53.0, 122.3, 123.8, 123.9, 131.3,132.7, 148.2, 166.9,172.1. IR (KBr) νmax 3351, 2953, 1744, 1707, 1460, 1435, 1273, 1252, 1208,1144, 1101,1055, 747 cm-1. 元素分析 C11H13NO4S としての計算値: C, 51.75;H, 5.13; N, 5.49. 実測値: C, 51.83; H, 5.14; N, 5.31.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とグリシンエチルエステル塩酸塩（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（２）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グリシンエチルエステルを収量６８．８ｍｇ（収率７３％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ 1.29(3H, t, J = 7.0 Hz), 3.18 (1H, t, J = 6.1 Hz), 3.74 (2H, d, J = 6.1Hz), 3.91 (3H, s), 4.23 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.16 (1H, ddd, J = 8.2, 7.3, 0.6 Hz), 7.54 (1H,ddd, J = 8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.2, 0.6 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 13.9, 51.8, 52.9, 60.9, 122.1, 123.5, 123.5,130.9, 132.4, 148.1,166.5, 171.4. IR (KBr) νmax 3341, 2984, 2953, 1740, 1707, 1588, 1562, 1460, 1435,1273,1252, 1198, 1101, 1055, 747 cm-1.
1H NMR (CDCl3) δ 1.29(3H, t, J = 7.0 Hz), 3.18 (1H, t, J = 6.1 Hz), 3.74 (2H, d, J = 6.1Hz), 3.91 (3H, s), 4.23 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.16 (1H, ddd, J = 8.2, 7.3, 0.6 Hz), 7.54 (1H,ddd, J = 8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.2, 0.6 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 13.9, 51.8, 52.9, 60.9, 122.1, 123.5, 123.5,130.9, 132.4, 148.1,166.5, 171.4. IR (KBr) νmax 3341, 2984, 2953, 1740, 1707, 1588, 1562, 1460, 1435,1273,1252, 1198, 1101, 1055, 747 cm-1.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とアラニンメチルエステル塩酸塩（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（３）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アラニンメチルエステルを収量８２．０ｍｇ（収率８７％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.44(3H, d, J = 7.0 Hz), 3.32 (1H, d, J = 7.3 Hz), 3.62 (1H, quint, J= 7.3 Hz), 3.75 (3H, s), 3.89 (3H, s),7.13 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.51(1H, ddd, J = 8.2,7.0, 1.5 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 7.98 (1H, dd,J = 7.6, 1.5 Hz). 13C NMR(CDCl3)δ 18.9, 52.1, 52.2,59.1, 122.7, 123.8, 123.8, 131.1, 132.6, 148.7, 166.8, 174.9.IR (KBr) νmax 3337, 2984, 2953, 1740, 1707, 1588, 1562, 1460,1435, 1271, 1208, 1142,1101, 1055, 747 cm-1.
1H NMR (CDCl3) δ1.44(3H, d, J = 7.0 Hz), 3.32 (1H, d, J = 7.3 Hz), 3.62 (1H, quint, J= 7.3 Hz), 3.75 (3H, s), 3.89 (3H, s),7.13 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.51(1H, ddd, J = 8.2,7.0, 1.5 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 7.98 (1H, dd,J = 7.6, 1.5 Hz). 13C NMR(CDCl3)δ 18.9, 52.1, 52.2,59.1, 122.7, 123.8, 123.8, 131.1, 132.6, 148.7, 166.8, 174.9.IR (KBr) νmax 3337, 2984, 2953, 1740, 1707, 1588, 1562, 1460,1435, 1271, 1208, 1142,1101, 1055, 747 cm-1.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とアラニンメチルエステル塩酸塩（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：酢酸エチル＝１０：１）で精製することにより、化合物（４）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アラニンメチルエステルを収量９２．５ｍｇ（収率９６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.39(3H, t, J = 7.0 Hz), 1.45 (3H, d, J = 7.0 Hz), 3.26 (1H, d, J = 7.6Hz), 3.61 (1H, quint, J = 7.0 Hz), 3.76 (3H, s), 4.37 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.15 (1H, t, J =7.6 Hz), 7.52 (1H, t, J = 7.6 Hz), 7.94 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 7.9 Hz). 13CNMR (CDCl3)δ 14.3, 19.0, 52.3,59.2, 61.1, 122.7, 123.7, 124.1, 131.1, 132.5, 148.6,166.5, 174.9. IR (KBr) νmax 3337, 2890, 1740, 1701, 1269, 1250, 1142, 1101,1053, 747cm-1. HRMS C13H17NO4S としての計算値:283.0878. 実測値: 283.0863.
1H NMR (CDCl3) δ1.39(3H, t, J = 7.0 Hz), 1.45 (3H, d, J = 7.0 Hz), 3.26 (1H, d, J = 7.6Hz), 3.61 (1H, quint, J = 7.0 Hz), 3.76 (3H, s), 4.37 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.15 (1H, t, J =7.6 Hz), 7.52 (1H, t, J = 7.6 Hz), 7.94 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 7.9 Hz). 13CNMR (CDCl3)δ 14.3, 19.0, 52.3,59.2, 61.1, 122.7, 123.7, 124.1, 131.1, 132.5, 148.6,166.5, 174.9. IR (KBr) νmax 3337, 2890, 1740, 1701, 1269, 1250, 1142, 1101,1053, 747cm-1. HRMS C13H17NO4S としての計算値:283.0878. 実測値: 283.0863.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１０１ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（５）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量８０．０ｍｇ（収率６９％）で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行うことによりさらに生成することができた。
融点 78-80 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3) δ3.69 (1H, d, J = 8.2 Hz), 3.70(3H, s), 3.86 (3H, s), 4.56 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.12 (1H, td, J = 7.3, 1.2 Hz), 7.30-7.40 (5H,m), 7.47(1H, ddd, J = 8.8, 7.3, 1.5 Hz), 7.89(1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 7.97 (1H,dd, J =7.9, 1.2 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ 52.1, 52.6, 67.9, 122.8, 123.8, 123.9, 127.4,128.5,128.9, 131.2, 132.7, 137.7, 148.2, 166.9, 172.9. IR (KBr) νmax 3339, 3069, 2953, 1732,1709, 1586, 1454, 1433,1310, 1269, 1250, 1217, 1144, 1100, 1057, 1040, 741, 704 cm-1.元素分析 C17H17NO4S としての計算値: C, 61.61; H, 5.17; N, 4.23. 実測値: C, 61.63;H,5.01; N, 4.10.
融点 78-80 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3) δ3.69 (1H, d, J = 8.2 Hz), 3.70(3H, s), 3.86 (3H, s), 4.56 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.12 (1H, td, J = 7.3, 1.2 Hz), 7.30-7.40 (5H,m), 7.47(1H, ddd, J = 8.8, 7.3, 1.5 Hz), 7.89(1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 7.97 (1H,dd, J =7.9, 1.2 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ 52.1, 52.6, 67.9, 122.8, 123.8, 123.9, 127.4,128.5,128.9, 131.2, 132.7, 137.7, 148.2, 166.9, 172.9. IR (KBr) νmax 3339, 3069, 2953, 1732,1709, 1586, 1454, 1433,1310, 1269, 1250, 1217, 1144, 1100, 1057, 1040, 741, 704 cm-1.元素分析 C17H17NO4S としての計算値: C, 61.61; H, 5.17; N, 4.23. 実測値: C, 61.63;H,5.01; N, 4.10.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１０１ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（６）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量９６．３ｍｇ（収率８２％）で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行うことによりさらに生成することができた。
融点 96.7-99.7 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3) δ1.37 (3H, t, J = 7.0 Hz),3.66 (1H, d, J =7.0 Hz), 3.73 (3H, s), 4.35 (2H, q, J =7.0 Hz), 4.57 (1H, d, J = 8.2 Hz),7.14(1H, td, J = 7.6, 0.9 Hz), 7.29-7.43(5H, m), 7.48 (1H, ddd, J = 8.2, 7.3,1.5 Hz), 7.89(1H, dd, J = 8.2, 0.9Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ14.3, 52.6,61.1, 67.9, 122.8, 123.8,124.2, 127.4, 128.5, 128.9, 131.1, 132.5, 137.8, 148.1, 166.4,172.9. IR (KBr) νmax 3328, 3067, 2980, 2959, 1736, 1701, 1588, 1458,1435, 1370, 1329,1302, 1273, 1213, 1175, 1142, 1103, 1053, 972, 837, 741, 700cm-1. 元素分析C18H19NO4S としての計算値: C, 62.59;H, 5.54; N, 4.06. 実測値: C, 62.75; H, 5.47; N,3.90.
融点 96.7-99.7 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3) δ1.37 (3H, t, J = 7.0 Hz),3.66 (1H, d, J =7.0 Hz), 3.73 (3H, s), 4.35 (2H, q, J =7.0 Hz), 4.57 (1H, d, J = 8.2 Hz),7.14(1H, td, J = 7.6, 0.9 Hz), 7.29-7.43(5H, m), 7.48 (1H, ddd, J = 8.2, 7.3,1.5 Hz), 7.89(1H, dd, J = 8.2, 0.9Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ14.3, 52.6,61.1, 67.9, 122.8, 123.8,124.2, 127.4, 128.5, 128.9, 131.1, 132.5, 137.8, 148.1, 166.4,172.9. IR (KBr) νmax 3328, 3067, 2980, 2959, 1736, 1701, 1588, 1458,1435, 1370, 1329,1302, 1273, 1213, 1175, 1142, 1103, 1053, 972, 837, 741, 700cm-1. 元素分析C18H19NO4S としての計算値: C, 62.59;H, 5.54; N, 4.06. 実測値: C, 62.75; H, 5.47; N,3.90.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とフェニルアラニンメチルエステル塩酸塩（１０８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（７）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルアラニンメチルエステルを収量９７．９ｍｇ（収率８１％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ2.97(1H, dd, J = 13.7, 8.2 Hz), 3.08 (1H,d, J = 9.4 Hz), 3.20 (1H,dd, J = 13.7, 5.2 Hz), 3.70-3.74 (1H, m),3.74 (3H, s), 3.88 (3H, s), 7.06 (1H, td, J= 7.3,1.2 Hz), 7.22−7.36 (6H, m), 7.38 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 7.94 (1H, dd, J= 7.9, 1.2 Hz).13C NMR (CDCl3) δ 39.9, 52.1, 52.2,65.9, 122.7, 123.6, 123.7, 127.0, 128.6, 129.6,131.1, 132.6, 136.9, 148.3,166.9, 174.0. IR (KBr) νmax 3333, 3063, 3029, 2951, 2845,1736, 1703, 1453, 1435, 1306,1273, 1208, 1101, 1055, 747 cm-1.
1H NMR (CDCl3) δ2.97(1H, dd, J = 13.7, 8.2 Hz), 3.08 (1H,d, J = 9.4 Hz), 3.20 (1H,dd, J = 13.7, 5.2 Hz), 3.70-3.74 (1H, m),3.74 (3H, s), 3.88 (3H, s), 7.06 (1H, td, J= 7.3,1.2 Hz), 7.22−7.36 (6H, m), 7.38 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 7.94 (1H, dd, J= 7.9, 1.2 Hz).13C NMR (CDCl3) δ 39.9, 52.1, 52.2,65.9, 122.7, 123.6, 123.7, 127.0, 128.6, 129.6,131.1, 132.6, 136.9, 148.3,166.9, 174.0. IR (KBr) νmax 3333, 3063, 3029, 2951, 2845,1736, 1703, 1453, 1435, 1306,1273, 1208, 1101, 1055, 747 cm-1.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とフェニルアラニンメチルエステル塩酸塩（１０８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（８）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルアラニンメチルエステルを収量１０５．１ｍｇ（収率８６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.37(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.98 (1H, dd, J = 14.0, 8.2 Hz), 3.07 (1H, d,J = 9.4 Hz), 3.20 (1H, dd, J = 14.0, 5.2 Hz), 3.70-3.75 (1H, m),3.74 (3H, s), 4.35 (2H, q, J= 7.0 Hz),7.07 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.08-7.36(6H, m), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz),7.96(1H, dd, J = 7.6, 1.2 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ 14.3, 39.8, 52.2, 61.1, 65.8, 122.6,123.6,123.9, 126.9, 128.5, 129.5, 130.9, 132.5, 136.8, 148.2, 166.5, 173.9. IR (KBr) νmax3331, 2953, 1742, 1701, 1458, 1435, 1269, 1100,1055, 747 cm-1.
1H NMR (CDCl3) δ1.37(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.98 (1H, dd, J = 14.0, 8.2 Hz), 3.07 (1H, d,J = 9.4 Hz), 3.20 (1H, dd, J = 14.0, 5.2 Hz), 3.70-3.75 (1H, m),3.74 (3H, s), 4.35 (2H, q, J= 7.0 Hz),7.07 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.08-7.36(6H, m), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz),7.96(1H, dd, J = 7.6, 1.2 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ 14.3, 39.8, 52.2, 61.1, 65.8, 122.6,123.6,123.9, 126.9, 128.5, 129.5, 130.9, 132.5, 136.8, 148.2, 166.5, 173.9. IR (KBr) νmax3331, 2953, 1742, 1701, 1458, 1435, 1269, 1100,1055, 747 cm-1.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とセリンメチルエステル塩酸塩（７８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：アセトン：メタノール＝１００：５：１）で精製することにより、化合物（９）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)セリンメチルエステルを収量９７．７ｍｇ（収率９６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ 1.40(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.18 (1H, brs),3.63-3.65 (1H, m), 3.68 (1H,d, J = 5.8Hz), 3.82 (3H, s), 3.90-3.94 (1H, m), 3.98-4.02 (1H, m), 4.38 (2H, q, J = 7.0 Hz),7.18 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.53 (1H, td, J = 7.3, 0.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 0.6 Hz), 8.03(1H, d, J = 8.2 Hz). 13C NMR (CDCl3)
δ 14.3, 52.6, 61.3,62.8, 64.6, 122.3, 124.0, 124.5,131.3, 132.7, 147.9, 166.5, 172.4. IR (KBr) νmax 3515, 3347, 2982, 2955, 1738, 1701,1458, 1437,1271, 1128, 1101, 1055, 747 cm-1. HRMS C13H17NO5Sとしての計算値:299.0827. 実測値: 299.0840.
1H NMR (CDCl3) δ 1.40(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.18 (1H, brs),3.63-3.65 (1H, m), 3.68 (1H,d, J = 5.8Hz), 3.82 (3H, s), 3.90-3.94 (1H, m), 3.98-4.02 (1H, m), 4.38 (2H, q, J = 7.0 Hz),7.18 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.53 (1H, td, J = 7.3, 0.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 0.6 Hz), 8.03(1H, d, J = 8.2 Hz). 13C NMR (CDCl3)
δ 14.3, 52.6, 61.3,62.8, 64.6, 122.3, 124.0, 124.5,131.3, 132.7, 147.9, 166.5, 172.4. IR (KBr) νmax 3515, 3347, 2982, 2955, 1738, 1701,1458, 1437,1271, 1128, 1101, 1055, 747 cm-1. HRMS C13H17NO5Sとしての計算値:299.0827. 実測値: 299.0840.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とアスパラギン酸ジメチルエステル塩酸塩（９９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（１０）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アスパラギン酸ジメチルエステルを収量５３．４ｍｇ（収率４６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.39(3H, t, J = 7.3 Hz), 2.88 (1H, dd, J = 16.4, 5.8 Hz), 2.93 (1H, dd,J = 16.4, 5.2 Hz), 3.60 (1H, d, J = 7.0 Hz), 3.69 (3H, s), 3.80 (3H, s),3.89 (1H, ddd, J =7.0, 5.8, 5.2 Hz),4.37 (2H, q, J = 7.3 Hz), 7.15 (1H, ddd,J = 7.9, 7.6, 0.9 Hz), 7.50 (1H,ddd, J = 8.2, 7.6, 1.5 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.9, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 14.3, 37.1, 51.9, 52.6, 60.3, 61.2, 122.7,123.9, 124.2, 131.1, 132.5,148.1, 166.5, 171.1, 172.7. IR (KBr) νmax 3320, 2953, 1738, 1701, 1437, 1368,1269,1101,1055, 748 cm-1. HRMS C15H19NO6S としての計算値:341.0933. 実測値: 341.0933.
1H NMR (CDCl3) δ1.39(3H, t, J = 7.3 Hz), 2.88 (1H, dd, J = 16.4, 5.8 Hz), 2.93 (1H, dd,J = 16.4, 5.2 Hz), 3.60 (1H, d, J = 7.0 Hz), 3.69 (3H, s), 3.80 (3H, s),3.89 (1H, ddd, J =7.0, 5.8, 5.2 Hz),4.37 (2H, q, J = 7.3 Hz), 7.15 (1H, ddd,J = 7.9, 7.6, 0.9 Hz), 7.50 (1H,ddd, J = 8.2, 7.6, 1.5 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.9, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 14.3, 37.1, 51.9, 52.6, 60.3, 61.2, 122.7,123.9, 124.2, 131.1, 132.5,148.1, 166.5, 171.1, 172.7. IR (KBr) νmax 3320, 2953, 1738, 1701, 1437, 1368,1269,1101,1055, 748 cm-1. HRMS C15H19NO6S としての計算値:341.0933. 実測値: 341.0933.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とグルタミン酸ジメチルエステル塩酸塩（１０６ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：酢酸エチル＝１００：１）で精製することにより、化合物（１１）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グルタミン酸ジメチルエステルを収量９０．６ｍｇ（収率７５％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.39(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.04-2.11 (1H,m), 2.17-2.21 (1H, m),2.47-2.57 (2H, m), 3.30 (1H, d, J = 8.5 Hz), 3.56 (1H, q, J =7.0 Hz), 3.68 (3H, s), 3.77(3H, s), 4.36 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.15 (1H, ddd, J= 8.2, 7.3, 1.2 Hz), 7.52 (1H, ddd, J=8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.86 (1H, d, J =8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 7.9 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ14.3, 28.3, 30.2, 51.8, 52.4, 61.2, 63.3, 122.6,123.9, 124.3, 131.1, 132.5, 148.1, 166.4,173.2, 174.0. IR (KBr) νmax 3320, 2953, 1738, 1701, 1437, 1368, 1269, 1101,748 cm-1.HRMS C16H21NO6S としての計算値:355.1090. 実測値: 355.1076.
1H NMR (CDCl3) δ1.39(3H, t, J = 7.0 Hz), 2.04-2.11 (1H,m), 2.17-2.21 (1H, m),2.47-2.57 (2H, m), 3.30 (1H, d, J = 8.5 Hz), 3.56 (1H, q, J =7.0 Hz), 3.68 (3H, s), 3.77(3H, s), 4.36 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.15 (1H, ddd, J= 8.2, 7.3, 1.2 Hz), 7.52 (1H, ddd, J=8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.86 (1H, d, J =8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 7.9 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ14.3, 28.3, 30.2, 51.8, 52.4, 61.2, 63.3, 122.6,123.9, 124.3, 131.1, 132.5, 148.1, 166.4,173.2, 174.0. IR (KBr) νmax 3320, 2953, 1738, 1701, 1437, 1368, 1269, 1101,748 cm-1.HRMS C16H21NO6S としての計算値:355.1090. 実測値: 355.1076.
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とグリシンエチルエステル塩酸塩（１１５ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（２）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グリシンエチルエステルを収量３７．０ｍｇ（収率２５％）で得た。
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とアラニンメチルエステル塩酸塩（１１６ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（３）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アラニンメチルエステルを収量６２．２ｍｇ（収率４２％）で得た。
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１６６ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（５）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量７４．７ｍｇ（収率４１％）で得た。
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸エチル（１００ｍｇ，０．５１ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１５３ｍｇ，０．７６ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で３時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（６）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量１２１．５ｍｇ（収率６９％）で得た。
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とフェニルアラニンメチルエステル塩酸塩（１７９ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（７）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルアラニンメチルエステルを収量５８．９ｍｇ（収率３１％）で得た。
Claims (5)
- 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物。
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。） - 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｍは、０または１〜４の整数である。
ｑは、０または１〜４の整数である。）
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは１〜１０の整数である。） - アミノ酸エステル塩酸塩とアミン類を反応させて得られるアミノ酸エステル化合物を用いることを特徴とする請求項2記載のＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
- 下記一般式（イ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ニ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下 記一般式（ハ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜8のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ 基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
ｍは、０または１〜４の整数である。）
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。） - 上記請求項４において、アミノ酸エステル化合物をアミノ酸エステル塩酸塩とアミン類より合成して、スルフェンアミド化合物と反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
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