JP3896450B2 - Ｎ−置換あるいはｎ，ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を、2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応することにより、効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スルフェンアミド化合物は、種々の機能性を持つことが報告されている（Chem. Rev. 89, 689 (1989)）。たとえば、ゴムの加硫化剤（公開特許公報 昭和６４−４８８３１；米国特許 第２８６６７７７号（１９５５））、発芽前処理用除草剤（公開特許公報 昭５３−３１６４３）、殺菌剤（公開特許公報 昭５５−５１０５３）等の作用があることが知られている。また、Ｎ-モノ置換-2-アルコキシカルボニルフェニルスルフェンアミド化合物の場合は、下記反応式（ヘ）
【化７】
に示すように塩基の存在下において容易に環化して（公開特許公報 昭４６−５５１６；J. Org. Chem., 40, 2029 (1975)）、抗菌・抗バクテリア作用等の生理活性を持つことが知られている1,2-ベンゾイソチアゾリン-3-オン化合物を製造することができる。
【０００３】
従来、スルフェンアミド類は、メルカプト基やジスルフィド基を有する化合物を塩素ガスと処理をした後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を反応させる方法や、クロラミン化合物とメルカプト化合物を反応させる方法により製造されていたが、いずれの方法も出発原料を製造するにあたり有毒な塩素ガスを用いなければならず、また塩素ガスは製造装置の腐食の問題もあるので、安全な製造法の開発が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造するにあたり、通常の方法である有毒な塩素ガスを用いるという欠点を克服し、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な方法を提供することを目的としてなされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応することにより、安全かつ容易にＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち，本発明によれば，下記一般式（イ）
【化８】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。Ｒ２は、炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ２が複数ある場合は、各Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ３は炭素数４〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基もしくは複素環基を示す。）
で表されるＮ-置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）
【化９】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。Ｒ２は、炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ２が複数ある場合は、各Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物と、下記一般式（ハ）
【化１０】
（式中、Ｒ３は炭素数４〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基もしくは複素環基を示す。）
で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ-置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
また，下記一般式（ニ）
【化１１】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。Ｒ２は、炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ２が複数ある場合は、各Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ３、Ｒ４は炭素数２〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基を示す。ただし、Ｒ３とＲ４が互いに連結して窒素原子と共に環を形成しているものを除く。）
で表されるＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）
【化１２】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。Ｒ２は、炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ２が複数ある場合は、各Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物と、下記一般式（ホ）
【化１３】
（式中、Ｒ３、Ｒ４は炭素数２〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基を示す。ただし、Ｒ３とＲ４が互いに連結して窒素原子と共に環を形成しているものを除く。）
で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【０００７】
【発明実施の形態】
本発明の製造目的化合物であるＮ-置換換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式（イ）において、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【０００８】
また、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。ｎは０または１〜４の整数を示す。
【０００９】
また、Ｒ３は炭素数４〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基もしくは複素環基を示す。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、クミル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。前記複素環基としては，2-ピリジル基，4-ピリジル基，2-ピリミジニル基，2-イミダゾリル基，2-フリル基，2-チエニル基等が挙げられる。これらの複素環基はハロゲン原子，アルキル基，アルコキシル基，ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。
【００１０】
本発明の製造目的化合物であるＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式（ニ）において、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【００１１】
また、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。ｎは０または１〜４の整数を示す。
【００１２】
また、Ｒ３，Ｒ４は炭素数２〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基を示す。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、クミル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。
【００１３】
本発明の新規な合成反応は次のような反応式（ト），（チ）によって表すことができる。
【化１４】
【００１４】
本発明におけるＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造は、好ましくは反応溶媒の存在下で実施されるが、この場合の反応溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【００１５】
前記製造方法における温度は２０℃〜１５０℃付近の温度で行うことができるが、あまり温度が低すぎると反応時間が遅くなり、温度が高すぎると分解反応や副反応が多くなるので、５０℃〜１００℃の範囲で実施するのが好ましい。反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
【００１６】
本発明によって得られるＮ-置換スルフェンアミド化合物の代表例は以下のとおりである。2-（Ｎ−フェニル）スルフェナモイル安息香酸メチル、2-［Ｎ-（p-メチルフェニル）］スルフェナモイル安息香酸エチル、2-［Ｎ-（p-メトキシフェニル）］スルフェナモイル安息香酸メチル、2-（Ｎ-クミル）スルフェナモイル安息香酸エチル、2-［Ｎ-（t-ブチル）］スルフェナモイル安息香酸メチル等。
また，本発明によって得られるＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の代表例は以下のとおりである。2-［Ｎ，Ｎ-ジ（2-ヒドロキシエチル）］スルフェナモイル安息香酸エチル、2-（Ｎ，Ｎ-ジエチル）スルフェナモイル安息香酸エチル、2-（Ｎ，Ｎ-ジベンジル）スルフェナモイル安息香酸エチル等。
【００１７】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。なお、本発明の実施例は本発明の理解を容易にするために代表的な物をあげたものであり、本発明はこれだけに限定されるものではない。なお、下記実施例によって製造されるＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物は、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、未知のものについては各種スペクトルを主要な判定基準として同定した。
【００１８】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とアニリン（１８６ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、４時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-（Ｎ-フェニル）スルフェナモイル安息香酸メチルを収量１０８ｍｇ、収率５２％で得た。この化合物はメタノールを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００１９】
実施例２
実施例１において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な操作を行い、８時間反応させることにより2-（Ｎ-フェニル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収率７１％で得た。この化合物はエタノールを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２０】
実施例３
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とp-トルイジン（２１４ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-［Ｎ-（p-メチルフェニル）］スルフェナモイル安息香酸メチルを収量９８ｍｇ、収率５１％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２１】
実施例４
実施例３において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な反応を行い、2-［Ｎ-（p-メチルフェニル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収率７１％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２２】
実施例５
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とp-アニシジン（２４６ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-［Ｎ-（p-メトキシフェニル）］スルフェナモイル安息香酸メチルを収量１２５ｍｇ、収率５４％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２３】
実施例６
実施例５において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な反応を行い、８時間反応させることにより2-［Ｎ-（p-メトキシフェニル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収率６２％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２４】
実施例７
内容積１０ｍｌのガラス製封管中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とt-ブチルアミン（３６６ｍｇ，５．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-［Ｎ-（t-ブチル）］スルフェナモイル安息香酸メチルを収量５９ｍｇ、収率３１％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２５】
実施例８
実施例７において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な反応を行い、2-［Ｎ-（t-ブチル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収率５５％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２６】
実施例９
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とクミルアミン（２７０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、６時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより2-（Ｎ-クミル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収量１６９ｍｇ、収率６７％で得た。この化合物はエタノール-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２７】
実施例１０
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）と2-アミノピリジン（１８８ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、８時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより2-［Ｎ-（2-ピリジル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収量７９ｍｇ、収率３６％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２８】
実施例１１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とジエタノールアミン（２１０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、４時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：アセトン：メタンオール＝１００：４０；８）で精製することにより2-［（Ｎ，Ｎ-ジ（2-ヒドロキシエチル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収量１１９ｍｇ、収率５２％で得た。
【００２９】
実施例１２
内容積１０ｍｌのガラス製封管中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とジエチルアミン（３６６ｍｇ，５．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝１：１）で精製することにより2-（Ｎ，Ｎ-ジエチル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収量８３ｍｇ、収率４１％で得た。
【００３０】
実施例１３
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とジベンジルアミン（３９５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、４時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより2-（Ｎ，Ｎ-ジベンジル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収量２１１ｍｇ、収率７０％で得た。
【００３１】
【発明の効果】
本発明における2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類の反応により、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物を収率よく製造することができる。しかも、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できるので、工業的なＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物の合成法として最適である。
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を、2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応することにより、効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スルフェンアミド化合物は、種々の機能性を持つことが報告されている（Chem. Rev. 89, 689 (1989)）。たとえば、ゴムの加硫化剤（公開特許公報 昭和６４−４８８３１；米国特許 第２８６６７７７号（１９５５））、発芽前処理用除草剤（公開特許公報 昭５３−３１６４３）、殺菌剤（公開特許公報 昭５５−５１０５３）等の作用があることが知られている。また、Ｎ-モノ置換-2-アルコキシカルボニルフェニルスルフェンアミド化合物の場合は、下記反応式（ヘ）
【化７】
【０００３】
従来、スルフェンアミド類は、メルカプト基やジスルフィド基を有する化合物を塩素ガスと処理をした後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を反応させる方法や、クロラミン化合物とメルカプト化合物を反応させる方法により製造されていたが、いずれの方法も出発原料を製造するにあたり有毒な塩素ガスを用いなければならず、また塩素ガスは製造装置の腐食の問題もあるので、安全な製造法の開発が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造するにあたり、通常の方法である有毒な塩素ガスを用いるという欠点を克服し、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な方法を提供することを目的としてなされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応することにより、安全かつ容易にＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち，本発明によれば，下記一般式（イ）
【化８】
で表されるＮ-置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）
【化９】
で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物と、下記一般式（ハ）
【化１０】
で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ-置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
また，下記一般式（ニ）
【化１１】
で表されるＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）
【化１２】
で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物と、下記一般式（ホ）
【化１３】
で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【０００７】
【発明実施の形態】
本発明の製造目的化合物であるＮ-置換換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式（イ）において、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【０００８】
また、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。ｎは０または１〜４の整数を示す。
【０００９】
また、Ｒ３は炭素数４〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基もしくは複素環基を示す。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、クミル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。前記複素環基としては，2-ピリジル基，4-ピリジル基，2-ピリミジニル基，2-イミダゾリル基，2-フリル基，2-チエニル基等が挙げられる。これらの複素環基はハロゲン原子，アルキル基，アルコキシル基，ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。
【００１０】
本発明の製造目的化合物であるＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式（ニ）において、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【００１１】
また、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基もしくは炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペンチル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。ｎは０または１〜４の整数を示す。
【００１２】
また、Ｒ３，Ｒ４は炭素数２〜１２のアルキル基もしくは炭素数３〜１２のシクロアルキル基もしくは炭素数６〜１２の芳香族基を示す。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、クミル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。
【００１３】
本発明の新規な合成反応は次のような反応式（ト），（チ）によって表すことができる。
【化１４】
本発明におけるＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造は、好ましくは反応溶媒の存在下で実施されるが、この場合の反応溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【００１５】
前記製造方法における温度は２０℃〜１５０℃付近の温度で行うことができるが、あまり温度が低すぎると反応時間が遅くなり、温度が高すぎると分解反応や副反応が多くなるので、５０℃〜１００℃の範囲で実施するのが好ましい。反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
【００１６】
本発明によって得られるＮ-置換スルフェンアミド化合物の代表例は以下のとおりである。2-（Ｎ−フェニル）スルフェナモイル安息香酸メチル、2-［Ｎ-（p-メチルフェニル）］スルフェナモイル安息香酸エチル、2-［Ｎ-（p-メトキシフェニル）］スルフェナモイル安息香酸メチル、2-（Ｎ-クミル）スルフェナモイル安息香酸エチル、2-［Ｎ-（t-ブチル）］スルフェナモイル安息香酸メチル等。
また，本発明によって得られるＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の代表例は以下のとおりである。2-［Ｎ，Ｎ-ジ（2-ヒドロキシエチル）］スルフェナモイル安息香酸エチル、2-（Ｎ，Ｎ-ジエチル）スルフェナモイル安息香酸エチル、2-（Ｎ，Ｎ-ジベンジル）スルフェナモイル安息香酸エチル等。
【００１７】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。なお、本発明の実施例は本発明の理解を容易にするために代表的な物をあげたものであり、本発明はこれだけに限定されるものではない。なお、下記実施例によって製造されるＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物は、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、未知のものについては各種スペクトルを主要な判定基準として同定した。
【００１８】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とアニリン（１８６ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、４時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-（Ｎ-フェニル）スルフェナモイル安息香酸メチルを収量１０８ｍｇ、収率５２％で得た。この化合物はメタノールを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００１９】
実施例２
実施例１において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な操作を行い、８時間反応させることにより2-（Ｎ-フェニル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収率７１％で得た。この化合物はエタノールを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２０】
実施例３
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とp-トルイジン（２１４ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-［Ｎ-（p-メチルフェニル）］スルフェナモイル安息香酸メチルを収量９８ｍｇ、収率５１％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２１】
実施例４
実施例３において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な反応を行い、2-［Ｎ-（p-メチルフェニル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収率７１％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２２】
実施例５
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とp-アニシジン（２４６ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-［Ｎ-（p-メトキシフェニル）］スルフェナモイル安息香酸メチルを収量１２５ｍｇ、収率５４％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２３】
実施例６
実施例５において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な反応を行い、８時間反応させることにより2-［Ｎ-（p-メトキシフェニル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収率６２％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２４】
実施例７
内容積１０ｍｌのガラス製封管中に2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とt-ブチルアミン（３６６ｍｇ，５．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン）で精製することにより2-［Ｎ-（t-ブチル）］スルフェナモイル安息香酸メチルを収量５９ｍｇ、収率３１％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２５】
実施例８
実施例７において、2-スルフェナモイル安息香酸メチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて同様な反応を行い、2-［Ｎ-（t-ブチル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収率５５％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２６】
実施例９
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とクミルアミン（２７０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、６時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより2-（Ｎ-クミル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収量１６９ｍｇ、収率６７％で得た。この化合物はエタノール-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２７】
実施例１０
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）と2-アミノピリジン（１８８ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、８時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより2-［Ｎ-（2-ピリジル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収量７９ｍｇ、収率３６％で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
【００２８】
実施例１１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とジエタノールアミン（２１０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、４時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：アセトン：メタンオール＝１００：４０；８）で精製することにより2-［（Ｎ，Ｎ-ジ（2-ヒドロキシエチル）］スルフェナモイル安息香酸エチルを収量１１９ｍｇ、収率５２％で得た。
【００２９】
実施例１２
内容積１０ｍｌのガラス製封管中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とジエチルアミン（３６６ｍｇ，５．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、１００℃で４時間加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝１：１）で精製することにより2-（Ｎ，Ｎ-ジエチル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収量８３ｍｇ、収率４１％で得た。
【００３０】
実施例１３
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-スルフェナモイル安息香酸エチル（１４６ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）とジベンジルアミン（３９５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、４時間１００℃で加熱した。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより2-（Ｎ，Ｎ-ジベンジル）スルフェナモイル安息香酸エチルを収量２１１ｍｇ、収率７０％で得た。
【００３１】
【発明の効果】
本発明における2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類の反応により、Ｎ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物を収率よく製造することができる。しかも、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できるので、工業的なＮ-置換あるいはＮ，Ｎ-ジ置換2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物の合成法として最適である。
Claims (2)
- 下記一般式（イ）
で表されるＮ-置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）
で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物と、下記一般式（ハ）
で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ-置換スルフェンアミド化合物の製造方法。 - 下記一般式（ニ）
で表されるＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）
で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物と、下記一般式（ホ）
で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ，Ｎ-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法。
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| JP2001225098A JP3896450B2 (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | Ｎ−置換あるいはｎ，ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法 |
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