JP2003295219A - 液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法Info
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Abstract
遂行できる電極構造を有する液晶パネル、液晶パネルの
検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提
供する。 【解決手段】 互いに垂直に交差して形成された複数個
のゲートライン及びデータラインを含んでなる多数の単
位基板領域を備える基板と、前記基板の側端部に列と行
とに形成された第1、第2金属ラインと、前記複数個の
ゲートラインを短絡させ、前記第2金属ラインと電気的
に連結された列短絡バーと、前記複数個のデータライン
を短絡させ、前記第1金属ラインと電気的に連結された
行短絡バーを含んでなることを特徴とする。
Description
ネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方
法に関し、特に、大面積液晶パネル状態で電気的な不良
検査が遂行され得る電極構造を有する液晶パネル、液晶
パネルの検査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造
方法に関するものである。
る要求も多様な形態として漸増しており、これに応じて
最近は液晶表示装置(LCD)、プラズマ表示装置(P
DP)、電場発光表示装置(ELD)及び真空蛍光表示
装置(VFD)など種々の表示装置が研究されており、
一部は既に様々な装置の表示装置として活用されてい
る。
軽量薄型、低消費電力等の特長によって、移動型画像表
示装置の用途にブラウン管の代りに一番多く使用されて
おり、ノートブックコンピュータのモニターのような移
動型の用途以外にも、テレビジョンモニターなどとして
多様に開発されている。
結合されている二つの基板と、その間に注入され、温度
の変化や濃度の変化に従って相転移を発生する液晶物質
からなっている。
有する、液体と固体の中間性質を有する物質である。即
ち、固体である結晶が溶けて液体になる前に、固体結晶
とか液体ではない中間状態になることをいう。このよう
な液晶に光を照射したり電界または磁界を付加すると光
学的な異方性結晶に特有な複屈折性を表し、ある温度範
囲内では液体と結晶の双方の性質を表す。
ラーフィルタ工程、液晶セル工程及びモジュール工程を
遂行することにより製造される。
トリソグラフィー及びエッチング工程を繰り返して薄膜
トランジスタ(TFT)などを形成する工程であり、カ
ラーフィルタ工程は第2基板上に光遮断役割を遂行する
ブラックマトリックスと、染料とか顔料を使用して赤、
緑、青のカラーフィルタと、共通電極用のインジウム・
スズ酸化物(ITO)膜などを形成する工程である。
た第1基板(以下「TFT基板」という)とカラーフィ
ルタ工程が完了した第2基板(以下「カラーフィルタ基
板」という)との間に一定した隙間が維持されるように
合着して空いた液晶セルを作った後、その隙間の間に液
晶を注入してLCDセルを形成する工程であり、上記モ
ジュール工程は信号処理のための回路部を製作し、TF
T液晶表示装置のパネルと信号処理回路部とを実装技術
を通じて互いに連結したうえ何点かの機構物を取り付け
てモジュールを製作する工程である。
く説明すれば、次の通りである。まず、複数個のTFT
基板が積載されたカセットと複数個のカラーフィルタ基
板が積載されたカセットとがそれぞれローダー(積載
機)によって液晶セル工程ラインのそれぞれのポートに
装着される。
間隔を置いて一方向に配列された複数個のゲートライン
と、上記各ゲートラインに垂直な方向に一定の間隔を置
いて配列された複数個のデータラインと、上記ゲートラ
イン及びデータラインによって定義されたマトリックス
画素領域にそれぞれ形成された複数個のTFT及び画素
電極などが形成されている。そして、カラーフィルタ基
板には上記画素領域を除外した部分の光を遮断するため
のブラックマトリックス層とカラーフィルタ層及び共通
電極などが形成されている。
ラーフィルタ基板のうち、互いにマッチングされる基板
などをそれぞれ一つずつ選択するようにプログラムされ
たロボットアームを用いて上記TFT基板及びカラーフ
ィルタ基板を選択する。
されたTFT基板とカラーフィルタ基板上に配向物質を
塗布した後、液晶分子が均一な方向性を有するようにす
る配向工程(1S)をそれぞれ遂行する。上記配向工程
(1S)は配向膜塗布の前に洗浄、配向膜印刷、配向膜
焼成、配向膜検査、ラビング工程の順に遂行する。
を遂行する。上記ギャップ工程はTFT基板及びカラー
フィルタ基板をそれぞれ洗浄(2S)した後、TFT基
板にセルギャップを一定に維持するためのスペーサを散
布(3S)し、カラーフィルタ基板の外郭部にシール剤
を塗布(4S)した後、上記TFT基板とカラーフィル
タ基板とに圧力を加えて合着(5S)する工程からな
る。
基板とは互いに対向する大面積のガラス基板上に複数個
の領域で形成されている。言い換えれば、大面積のガラ
ス基板に複数の単位基板などが形成されており、上記単
位基板領域のうち下部の単位基板(TFT基板)領域な
ど内側には別途の画素電極などがそれぞれ形成されてい
る。そして、上部の単位基板(カラーフィルタ基板)領
域などを含む大面積ガラス基板には上記画素電極と共に
液晶を駆動させる共通電極が上記ガラス基板の前面に形
成されている。このように構成されるそれぞれの大面積
ガラス基板を上記のような合着工程を遂行することによ
り、それぞれの下部及び上部単位基板領域などからなる
多数の単位パネル領域を備える大面積パネルを形成す
る。
形成するための切断、加工工程を遂行する(6S)。上
記切断工程は各単位パネルの画素電極に該当する電圧を
それぞれ印加して各単位パネル別に、それに該当する透
過率になるようにそれぞれの単位パネルを製作するため
に遂行される工程である。
パネルに液晶注入口を介して液晶を注入し、上記液晶注
入口を封止(7S)することにより単位液晶パネルを形
成する。次に、各単位液晶パネルの切断された面を研磨
したうえで、単位液晶パネルの外観及び電気的な不良検
査(8S)を遂行することにより液晶表示素子を製作す
ることになる。
に説明すると、次の通りである。図2に示されたよう
に、まず、液晶物質を容器30に入れた後、チャンバ2
0中に容器を挿入する。次いで、チャンバ20の中の圧
力を真空状態に維持して液晶25物質中や容器の内壁に
存在する水分及び液晶内の微細な気泡を除去する脱泡工
程を遂行する。
を液晶物質に浸すか接触させた後、チャンバ20内に窒
素N2ガスを外部から導入してチャンバ20内の圧力を
大気圧状態に形成する。すると、単位パネル40内の圧
力とチャンバの圧力との間の差異によって液晶物質が液
晶注入口を介して注入される。
べて充填されたら、注入口を密封する封止工程を遂行し
て単位液晶パネルを形成した後、それぞれの単位液晶パ
ネルを洗浄する。
ネルに切断したうえで、二つの基板の間を真空状態に維
持して液晶注入口を液晶物質に浸すか接触させて液晶を
注入するため、液晶注入に長時間を要し、生産性が低下
する問題があった。また、大面積の液晶表示装置を製造
する場合、単位パネル内に液晶が完全に注入されず、不
良の原因となることもあった。
最近下記の液晶滴下方式が提案されている。
置の製造方法について図3を添付して簡略に説明すれ
ば、次の通りである。図3に示されたように、TFT基
板及びカラーフィルタ基板上に配向物質を塗布した後、
液晶分子が均一な方向性を有するようにする配向工程
(100S)を遂行し、TFT基板及びカラーフィルタ
基板をそれぞれ洗浄(102S)する。上記TFT基板
及びカラーフィルタ基板は前述のように、互いに対向す
る大面積ガラス基板に形成される複数の単位基板領域の
うちいずれか一つの領域として定義される。
ール剤ディスペンシング装備にローディングして各単位
パネル領域の周辺部にシール剤を塗布(103S)す
る。この時、上記シール剤は光及び熱硬化性樹脂を用
い、液晶注入口を作る必要がない。
スペンシング装備にローディングして上記TFT基板上
の共通電圧供給ラインに銀ドットを形成し(105
S)、上記TFT基板を液晶ディスペンシング装備にロ
ーディングして各単位液晶パネル領域のアクティブアレ
イ領域上に液晶を滴下する(106S)。
基板とを真空合着器チャンバにローディングし、上記滴
下された液晶が均一に各パネルに満たされるようにTF
T基板とカラーフィルタ基板とを合着し、上記シール剤
を硬化(107S)して大面積液晶パネルを形成する。
晶パネルに形成するスクライブ/ブレーク(S/B)工
程(108S)を遂行する。
硬度の高いダイヤモンド材質のペンでガラス表面にカッ
ティングラインを形成するスクライブ工程と、力を加え
て切断するブレーク工程とからなるものであり、上記大
面積液晶パネルを数枚のセル単位の単位液晶パネルに切
断する。
れぞれ研磨するグラインディング工程(109S)を遂
行した後、単位液晶パネルの外観及びオート/プローブ
(A/P)検査(110S)を遂行して液晶セル工程を
完了する。
端子を備える装置を用いて単位液晶パネルの電気的な不
良検査を遂行する工程である。即ち、単位液晶パネルの
TFT基板に形成されたゲートラインとデータラインと
に上記電圧端子を電気的に連結することにより単位液晶
パネルのセルギャップ不良とか液晶注入不良(例えば未
注入、リーク)などを検査する工程である。
ル工程を完了したら、図示しなかったが、ドライバIC
の取り付けとかバックライト装着などをするモジュール
工程が遂行される。
置の製造方法は次のような問題点があった。前記真空注
入法を適用した液晶表示装置の製造方法は、複数の単位
パネル領域が形成されている大面積パネルを切断した
後、液晶を注入して多数の単位液晶パネルを形成した。
それから、それぞれの単位液晶パネルの外観及び電気的
な連結状態を肉眼で検査するため、検査時間が長くかか
り、作業者の疲労度が大きいという問題があった。
置の製造方法においても、A/P検査は大面積液晶パネ
ルを複数の単位液晶パネルに切断した後、それぞれの単
位液晶パネルを肉眼で検査するため、作業者の疲労度が
大きく、検査時間が長くかかった。
の問題点を解決するために案出されたものであって、大
面積液晶パネル状態で電気的な不良検査を遂行すること
ができる電極構造を有する液晶パネル、液晶パネルの検
査装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供
することをその目的とする。
めの本発明の液晶パネル、液晶パネルの検査装置及びこ
れを用いた液晶表示装置の製造方法は、互いに垂直に交
差して形成された複数個のゲートライン及びデータライ
ンを含んでなる多数の単位基板領域を備える基板と、前
記基板の側端部に列と行とに形成された第1、第2金属
ラインと、前記複数個のゲートラインを短絡させ前記第
2金属ラインと電気的に連結された列短絡バーと、前記
複数個のデータラインを短絡させ前記第1金属ラインと
電気的に連結された行短絡バーを含んでなることを特徴
とする。また、本発明によると、第1、第2基板を提供
する段階;前記第1、第2基板を合着して多数の単位パ
ネル領域を備える大面積液晶パネルを形成する段階;及
び前記大面積液晶パネルの電気的な不良検査を遂行する
A/P検査を遂行する段階を含むことを特徴とする。な
お、本発明によると、第1、第2基板を提供する段階;
前記第1、第2基板のうちいずれか一つの基板上にシー
ル剤を塗布する段階;前記シール剤の内方領域の前記第
1、第2基板のうちいずれか一つの基板上に液晶を滴下
する段階;前記第1、第2基板を合着して多数の単位パ
ネル領域を備える大面積液晶パネルを形成する段階;前
記大面積液晶パネルの電気的な不良検査を遂行するA/
P検査を進行する段階;前記大面積液晶パネルを切断し
て多数の単位液晶パネルを形成する段階;前記単位液晶
パネルの面を研磨する段階を含むことを特徴とする。さ
らに、本発明によると、ステージと、前記ステージにチ
ルト機能を有するようにする回転軸と、前記ステージ内
部に配置されて一定の光を照射させる光源と、大面積液
晶パネルの大きさを含み、前記光源の上部に配置された
第1の偏光板と、一定電圧を印加する少なくとも二つ以
上の電圧端子部とを含むことを特徴とする。
添付した図面を参照して詳しく説明する。図4は本発明
の実施例による大面積液晶パネルにおける第1基板の例
示図であり、図5は本発明の実施例による大面積液晶パ
ネルの例示図、図6は図5のA部分を拡大図示した断面
図、図7は本発明の実施例による液晶表示装置の製造方
法を説明するための製造工程フロー図、図8は本発明の
実施例による検査装置の斜視図であり、図9は本発明の
実施例による大面積液晶パネルの平面図である。
程及びカラーフィルタ工程が遂行された第1基板100
及び第2基板200を提供する。上記第1基板100は
複数の第1の単位基板領域(以下、“TFT単位基板領
域”と称する)100aを含み、上記第2基板は複数の
第2の単位基板(以下、“CF単位基板領域”と称す
る)200aを含む。このような第1基板及び第2基板
はアレイ工程及びカラーフィルタ工程完了時に、それぞ
れカセットに積載されて液晶セル工程に進入することに
なる。
定間隔を置いて一方向に配列された複数個のゲートライ
ン50と、上記各ゲートライン50に垂直な方向に一定
間隔を置いて配列された複数個のデータライン60とが
形成されている。このようなゲートライン50及びデー
タライン60によってマトリックス形態の多数の画素領
域70が定義され、それぞれの画素領域70には複数個
のTFT及び画素電極などが形成されている。そして、
複数の画素領域70として画像の表示領域80が構成さ
れている。また、図示しなかったが、各画素領域70の
TFTのゲート電極はゲートライン50に接続されてお
り、ソース電極はデータラインにそれぞれ接続されてい
る。TFTのドレイン電極は画素領域70内に形成され
た画素領域に接続されている。なお、上記複数のゲート
ライン50及びデータライン60はTFT単位基板領域
100aの外周に形成されたゲートパッド部90及びデ
ータパッド部110にそれぞれ接続されている。
で形成された第1、第2金属ライン121、123が形
成されており、第1金属ライン121及び第2金属ライ
ン123の一端部には外部接続端子121a、123a
が形成されている。上記第1、第2金属ライン121、
123は以下で説明される検査工程で電気的な不良パネ
ル検査をするための伝導層であって、単位液晶パネル形
成時、除去される。
端には多数のゲートライン50及びデータライン60を
それぞれ一つに束ねる列短絡バー120及び行短絡バー
122が第1基板100の内端に形成されている。そし
て、行短絡バー122は第1金属ライン121と連結さ
れており、列短絡バー120は第2金属ライン123と
連結されている。結果的に、すべてのゲートライン50
が一つに連結され、また、すべてのデータライン60が
一つに連結されており、ゲート及びデータパッド部9
0、110から静電気が発生すると、この短絡バーを経
路として静電気が放電する。
と対向する第2基板200に形成される多数のCF単位
基板領域200aはほとんどTFT単位基板領域100
aのそれぞれのパッド部90、110領域程度に小さく
形成される。このようなCF単位基板領域200aには
画素領域70を除外した部分の光を遮断するためのブラ
ックマトリックス層210、三原色からなるカラーフィ
ルタ層、上記第2基板の前面にかけて形成された共通電
極及び液晶表示装置の大面積化に有利なコラム形状のス
ペーサなどが形成されている。上記コラム形状のスペー
サは対向する第1基板上のゲートライン及びデータライ
ンに対応するように形成されている。
表示領域80の外部からの不必要な光を遮光するために
設けられている。このようなTFT単位基板領域100
aなどとCF単位基板領域200aなどとを備えるそれ
ぞれの第1基板100及び第2基板200は光または熱
硬化性樹脂から構成されるシール剤130によって接合
されている。
であって、第1基板100上に列短絡バー120及び行
短絡バー122との間に絶縁膜127が介在されて互い
に絶縁された状態を示した図面である。
板は図7に示されたような工程フローによって単位液晶
パネルに製造される。
板領域などを含む第1基板とCF単位基板領域などを含
む第2基板とがローダーにより移送されて液晶セル工程
に進入することになる。このような液晶セル工程は第1
乃至第3の段階500、600、700の工程段階で遂
行される。
上に配向物質を塗布した後、液晶分子が均一な方向性を
有するようにする配向工程からなる。配向工程は配向膜
塗布前の洗浄(20S)、配向膜印刷(21S)、配向
膜焼成(22S)、配向膜検査(23S)、ラビング
(24S)の順に遂行される。
第1基板及び第2基板に異物質及び粒子を除去するため
の洗浄(20S)工程を遂行した後、配向膜を塗布す
る。
スペンサーで回転しているドクターロールとアニロクス
ロールとの間に滴下供給される。この塗布液は2個のロ
ール間でアニロクスロール面に液体薄膜となって維持さ
れ、アニロクスロールから印刷ゴム板が取り付けられた
印刷ロールで転写される。そして、塗布ステージ上に固
定された基板が進行する時に、この塗布液の薄膜が第1
基板及び第2基板に転写塗布される。
された配向膜内の溶媒を蒸発させるための焼成工程(2
2S)を遂行し、配向膜状態の検査(23S)及びラビ
ング工程(24S)を経て配向工程を完了する。
程順序で遂行される。上記配向工程が遂行された第1基
板と第2基板とを洗浄(25S)した後、多数のCF単
位基板領域上にフレーム形状でシール剤を塗布(26
S)する。上記シール剤はTFT単位基板領域の画素領
域外郭側にCF単位基板領域が一定間隔を置いて合着さ
れるようにする、注入口のないシール剤である。
共通電極と電気的な連結のために銀をドット形状で塗布
(27S)する。次いで、第1基板上に上記シール剤の
内方の対応領域に液晶を滴下(29S)する工程を行
う。言い換えれば、TFT単位基板領域の画素領域内に
一定したピッチで所定の液晶を均一に塗布する。
させた後、液晶滴下装置を組立及びセッティングして液
晶ディスペンシング装置に装着したうえで、第1基板を
液晶ディスペンシング装置にローディングして、液晶滴
下装置を用いて液晶を滴下する段階の工程が遂行され
る。
形成及び液晶の滴下はTFT単位基板領域及びCF単位
基板領域のうちいずれか一つの基板上に形成することも
でき、IPSモードではTFT単位基板領域上に画素電
極と共通電極とが形成されるので、上記銀ドットを形成
する必要がない。
遂行される。第2の段階600までの工程を経た第1基
板と第2基板とを真空合着器内で合着した後、シール剤
の塗布領域にUV光源を照射してシール剤を硬化(30
S)することにより大面積液晶パネルを形成する。
第1基板を水平方向に移動可能な真空容器内のテーブル
上に搭載し、上記第1基板の下部表面の全面を第1の吸
着機構で真空吸着して固定させる。次に、第2基板の下
部表面全面を第2の吸着機構で真空吸着して固定し、真
空チャンバを閉じて真空させる。次いで、上記第2の吸
着機構を垂直方向に下降させて上記第1基板と第2基板
との間隔を所定間隔に置き、上記第1基板を搭載した上
記テーブルを水平方向に移動させて第1基板と第2基板
とを位置合わせする。
下降させて第2基板を上記シール剤にて第1基板に接合
し、上記滴下された液晶が第1基板及び第2基板に所定
の厚さで充填されるように加圧して多数の単位パネル領
域を含む大面積液晶パネルを形成する。
多数の単位パネルに形成する切断工程を進行する前に、
まず、大面積液晶パネル状態で電気的な点灯検査を遂行
する(40S)。
次の通りに遂行される。まず、大面積液晶パネルがロボ
ットアームによって検査装置に装着される(41S)。
上記検査装置400は図8に示されたように、ステージ
300と、上記大面積液晶パネルがロボットアームによ
って置かれる時、ステージ300との接触面積が最小に
なるようするために配置される少なくとも3個以上の突
出部310と、チルト機能を有するようにする回転軸3
20と、ステージ300の内部に一定光を照射させ得る
光源330と、大面積液晶パネルの大きさを有し、上記
光源330の上部に配置された第1の偏光板(図示せ
ず)と、上記ステージ300が回転する時に、大面積液
晶パネルを固定する固定部(図示せず)を含んで構成さ
れる。
タパッド部110と電気的にそれぞれ連結される外部接
続端子に人為的に電圧を印加して大面積液晶パネルの点
灯状態を検査できるようにする少なくとも2個以上の電
圧端子部(図示せず)を備える。
のように、上記ロボットアームによって大面積液晶パネ
ルが装着(41S)されたら、検査装置400に回転力
を与え、回転軸320によって所定角度で回転されるよ
うにする(42S)。この時、大面積液晶パネルは上記
外部接続端子と共通電極とに人為的な外部電圧が印加さ
れることにより点灯することになる。
する第2の偏光板を用いたり、検査装置400自体に大
面積液晶パネルを隔てて結合する第2の偏光板を用いて
A/P検査を遂行する(44S)。
が合着された大面積液晶パネルの平面図であって、第1
金属ライン121の一端部に接続された外部接続端子1
21a及び第2金属ライン123の一端部に接続された
外部接続端子123aを上記電圧端子部に接続して外部
電圧を印加し、第2基板200の前面に形成された共通
電極に一定DC電圧を印加することにより、大面積液晶
パネル状態でA/P検査を遂行できるようにする(44
S)。
配向不良などを検査する外観検査を遂行することもでき
る。
灯状態を検査するためのものであって、例えば、格子む
ら、黒色むら、カラーフィルタ突起、斜線むら、ラビン
グ縞、ピンホール、ゲートライン及びデータラインの単
線または短絡などを検査する。上記むら不良は肉眼、若
しくはCCDなどの固体撮像素子による自動検出が可能
である。
査装置400を元の位置に回転(45S)させた後、ロ
ボットアームを用いて大面積液晶パネルをカセットに積
載する(46S)。
NE上の大面積液晶パネル状態で遂行することができ、
従来のA/P検査時の不必要な時間浪費及び作業の不便
さを防ぐことができる。
上記S/B工程はガラスより硬度の高いダイヤモンド材
質のペンでガラス表面にカッティングラインを形成する
スクライブ工程と、力を加えて切断するブレーク工程と
からなったものであって、上記大面積液晶パネルを数枚
のセル単位の単位液晶パネルに形成する工程である。
るグラインディング工程(48S)を遂行して第3の段
階700の工程を完了する。
取り付けとかバックライト装着などをするモジュール工
程が遂行される。
び添付された図面に限定されるものでなく、本発明の技
術的な思想を逸脱しない範囲内で様々な置換、変形及び
変更が可能であるということが、本発明の属する技術分
野で通常の知識を持つ者において明白であるだろう。
法は次のような効果がある。単位液晶パネルの形成前
に、大面積液晶パネル状態で電気的な不良検査を遂行で
きる電極構造を形成することにより、従来の単位液晶パ
ネルを形成した後、それぞれの単位液晶パネルの電気的
な連結状態を検査する時の問題点などを防止することが
できる。つまり、大面積液晶パネルで一度にパネルの不
良状態を確認することにより、検査時間及び作業者の疲
労を大幅に減らすことができ、それによる工程時間も大
幅短縮できる効果がある。また、大面積液晶パネル状態
でA/P検査を早期実施することにより、パネルの特性
に対する情報を迅速にフィードバックすることができ、
量産性でも効果的である。
示装置の製造工程フロー図。
斜視図。
装置の製造工程フロー図。
基板の例示図。
図。
を説明するための製造工程フロー図。
図である。
Claims (21)
- 【請求項1】 互いに垂直に交差して形成された複数個
のゲートライン及びデータラインを含んでなる多数の単
位基板領域を備える基板と、 前記基板の側端部で行と列とに形成された第1、第2金
属ラインと、 前記複数個のゲートラインを短絡させ、前記第2金属ラ
インと電気的に連結された列短絡バーと、 前記複数個のデータラインを短絡させ、前記第1金属ラ
インと電気的に連結された短絡バーとを含んでなること
を特徴とする液晶パネル。 - 【請求項2】 前記第1金属ライン及び第2金属ライン
の一端部にそれぞれ形成された外部接続端子を更に含ん
でなることを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル。 - 【請求項3】 前記行短絡バーと前記列短絡バーとの間
に絶縁膜が介在されたことを特徴とする請求項1に記載
の液晶パネル。 - 【請求項4】 第1、第2基板を提供する段階と、 前記第1、第2基板を合着して多数の単位パネル領域を
備える大面積液晶パネルを形成する段階と、 前記大面積液晶パネルの電気的な不良検査を遂行するオ
ート/プローブ(A/P)検査を遂行する段階とを含む
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項5】 前記第1、第2基板のうちいずれか一つ
の基板上にシール剤を塗布する段階と、 前記シール剤の内方領域の前記第1、第2基板のうちい
ずれか一つの基板上に液晶を滴下する段階とを更に含む
ことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置の製造
方法。 - 【請求項6】 前記大面積液晶パネルを切断して多数の
単位液晶パネルを形成する段階と、 前記単位液晶パネルの面を研磨する段階とを更に含むこ
とを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項7】 前記大面積液晶パネルの配向状態を検査
する外観検査を遂行する段階を更に含むことを特徴とす
る請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項8】 前記大面積液晶パネルは前記多数の単位
液晶パネル領域を同時に制御する少なくとも二つ以上の
外部接続端子を備えることを特徴とする請求項4に記載
の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項9】 前記大面積液晶パネルをなす前記多数の
単位液晶パネル領域は、 互いに垂直に交差して形成された複数個のゲートライン
及びデータラインを含んでなるTFT単位基板領域と、 光遮断役割をするブラックマトリックス層と三原色から
構成されるカラーフィルタ層と前面に形成された共通電
極を含んでなるCF単位基板領域と、 前記TFT単位基板領域と前記CF単位基板領域との間
に介在された液晶層とを含むことを特徴とする請求項8
に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項10】 前記オート/プローブ(A/P)検査
を進行する段階は、 前記大面積液晶パネル上に偏光板を装着する段階と、 前記外部接続端子及び前記共通電極に外部電源電圧を人
為的に印加する段階と、 前記大面積液晶パネルを所定角度で傾ける段階とを含む
ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造
方法。 - 【請求項11】 第1、第2基板を提供する段階と、 前記第1、第2基板のうちいずれか一つの基板上にシー
ル剤を塗布する段階と、 前記シール剤の内方領域の前記第1、第2基板のうちい
ずれか一つの基板上に液晶を滴下する段階と、 前記第1、第2基板を合着して多数の単位パネル領域を
備える大面積液晶パネルを形成する段階と、 前記大面積液晶パネルの電気的な不良検査を遂行するオ
ート/プローブ(A/P)検査を遂行する段階と、 前記大面積液晶パネルを切断して多数の単位液晶パネル
を形成する段階と、 前記単位液晶パネルの面を研磨する段階とを含むことを
特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項12】 前記大面積液晶パネルは前記多数の単
位パネル領域を同時に制御する少なくとも二つ以上の外
部接続端子を備えることを特徴とする請求項11に記載
の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項13】 前記大面積液晶パネルをなす前記多数
の単位パネル領域は、 互いに垂直に交差して形成された複数個のゲートライン
及びデータラインを含んでなるTFT単位基板領域と、 光遮断役割をするブラックマトリックス層と三原色から
構成されるカラーフィルタ層と前面に形成された共通電
極を含んでなるCF単位基板領域と、 前記TFT単位基板領域と前記CF単位基板領域との間
に介在された液晶層とを含むことを特徴とする請求項1
2に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項14】 前記オート/プローブ(A/P)検査
を遂行する段階は、 前記大面積液晶パネル上に偏光板を装着する段階と、 前記外部接続端子及び前記共通電極に外部電源電圧を人
為的に印加する段階と、 前記大面積液晶パネルを所定角度で傾ける段階と、 前記大面積液晶パネルの電気的な不良検査を遂行する段
階と、 前記大面積液晶パネルを元の位置に回転させる段階とを
含むことを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置
の製造方法。 - 【請求項15】 ステージと、 前記ステージにチルト機能を有するようにする回転軸
と、 前記ステージの内部に配置されて一定光を照射する光源
と、 大面積液晶パネルの大きさを有し、前記光源の上部に配
置された第1の偏光板と、 一定電圧を印加する少なくとも二つ以上の電圧端子部と
を含むことを特徴とする検査装置。 - 【請求項16】 前記ステージは前記大面積液晶パネル
が、前記ステージとの接触面積が最小になるようするた
めに配置される少なくとも3個以上の突出部を更に含む
ことを特徴とする請求項15に記載の検査装置。 - 【請求項17】 前記ステージが回転する時に、前記大
面積液晶パネルを固定する固定部を更に含むことを特徴
とする請求項15に記載の検査装置。 - 【請求項18】 前記ステージは、前記大面積液晶パネ
ルが装着されたときに前記大面積液晶パネルの上部の前
記第1の偏光板と結合される第2の偏光板を更に含むこ
とを特徴とする請求項15に記載の検査装置。 - 【請求項19】 前記大面積液晶パネルは多数の単位パ
ネル領域を含むことを特徴とする請求項15に記載の検
査装置。 - 【請求項20】 前記大面積液晶パネルは前記多数の単
位パネル領域を同時に制御する少なくとも二つ以上の外
部接続端子を備えることを特徴とする請求項19に記載
の検査装置。 - 【請求項21】 前記多数の単位パネル領域は、 互いに垂直に交差して形成された複数個のゲートライン
及びデータラインを含んでなるTFT単位基板領域と、 光遮断役割をするブラックマトリックス層と三原色から
構成されるカラーフィルタ層と前面に形成された共通電
極を含んでなるCF単位基板領域と、 前記TFT単位基板領域と前記CF単位基板領域との間
に介在された液晶層とを含むことを特徴とする請求項2
0に記載の検査装置。
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