JP2002023176A - 液晶注入装置及び液晶注入方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶注入工程における液晶滴下時の泡立ちを
防止し、気泡の混入及び真空チャンバ内の汚染を防止す
る。 【解決手段】 脱泡後の液晶７１は気体に触れることな
く液晶容器９０内に充填される。これにより、液晶容器
９０内の液晶７１にはガス成分は殆ど含まれていない。
真空チャンバ１０１内を真空状態にした後、外容器７２
にガスを給気して、液晶容器９０を変形させ、液晶容器
９０内の液晶を排出させる。ノズル７６から滴下された
液晶７７は、液晶注入口７８から液晶装置９２のセル内
に注入される。液晶の排出に際して、液晶容器９０内の
液晶７１が気体にさらされることがないので、滴下され
た液晶７１に含まれるガス成分は極めて少なく、滴下時
に泡立ちが生じることを防止することができ、セル内へ
の気泡の混入及び真空チャンバ内の汚染を防止すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶を液晶装置内
に注入する液晶注入装置及び液晶注入方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラ
ス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構
成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例え
ば薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、Ｔ
ＦＴと称す）をマトリクス状に配置し、他方の基板に対
向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特
性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可
能にする。

【０００３】ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基
板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。
両基板は、パネル組み立て工程において高精度に貼り合
わされた後、液晶が封入される。

【０００４】即ち、各基板工程において夫々製造された
ＴＦＴ基板と対向基板とは、パネル組み立て工程におい
て、先ず対向する面に配向膜が形成され、ラビング処理
が施される。次に、一方の基板上の表示領域外に接着剤
となるシール部が形成される。ＴＦＴ基板と対向基板と
をシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しな
がら圧着硬化させる。シール部の一部には液晶注入口を
成す切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して
液晶を封入する。

【０００５】図８はこのような液晶封入に用いられる従
来の液晶注入装置を示す説明図である。

【０００６】図示しないシール部によって接着されたＴ
ＦＴ基板及び対向基板からなる液晶パネル２は、真空チ
ャンバ１０１内に配置される。一方、真空チャンバ１０
１外の容器１０３には液晶１０４が充填されている。先
ず、真空チャンバ１０１内に液晶パネル１０２を配置し
た後排気して、真空チャンバ１０１内を真空状態にす
る。これにより、ＴＦＴ基板と対向基板との間隙（セル
内）も真空状態となる。

【０００７】容器１０３内の液晶１０４を表面からＮ２
（窒素）ガスのガス圧によって加圧することにより、容
器１０３内の液晶１０４を、ノズル１０５を介して真空
チャンバ１０１内に導く。液晶１０４は、真空チャンバ
１０１内ではＴＦＴ基板と対向基板とを接着しているシ
ール部の切り欠き部分を塞ぐように滴下される。

【０００８】次に、真空チャンバ１０１内に給気して大
気圧に戻すことで、差圧を利用して、切り欠き部分から
液晶１０４をセル内に注入する。液晶１０４の封入が終
了すると、切り欠き部分を接着剤によって封止する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、液晶注入工
程では、２枚の基板で挟まれた数ミクロンの間隔（セル
内）に液晶を均一に封入する必要がある。このため、上
述したように、真空状態のチャンバ内に液晶パネルを配
置し、真空チャンバ外の容器から液晶を真空チャンバ内
に滴下した後にチャンバ内に給気することで、液晶が基
板間に均一に封入されるようにしている。

【００１０】しかしながら、容器内の液晶中には、ガス
成分が含まれることがある。しかも、ガス圧で加圧する
ことで液晶を真空チャンバ内に送り込んでいることか
ら、液晶中のガス成分の混入量が比較的多くなりやす
い。ガス成分を含む液晶が真空チャンバ内で滴下される
と、液晶に含まれるガス成分は泡となって気化する。気
泡のサイズが小さい場合には、気泡も液晶と共に液晶パ
ネル内（セル内）に封入されてしまう。そうすると、気
泡部分において表示不良等が生じるという問題があっ
た。特に拡大投影される液晶パネルを用いたプロジェク
ターではその表示不良の影響が大きい。

【００１１】また、ガス成分の気化によって、液晶の真
空チャンバ内への滴下時に泡立ちが生じる。そして、泡
の破裂時に、液晶が飛散して、真空チャンバ内を汚染し
てしまうことがある。このような真空チャンバ内の汚染
によって、液晶装置の製造歩留まりが低下してしまうと
いう問題点もあった。

【００１２】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、真空チャンバ内への液晶の送出に際して液
晶中にガス成分が混入しないようにすることにより、液
晶パネル内に気泡が生じることを防止することができる
液晶注入装置及び液晶注入方法を提供することを目的と
する。

【００１３】また、本発明は、真空チャンバ内への液晶
の送出に際して液晶中にガス成分が混入しないようにす
ることにより、液晶チャンバ内の汚染を防止することが
できる液晶注入装置及び液晶注入方法を提供することを
目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶注入装
置は、脱泡後の液晶が液晶充填手段によって気体に触れ
ることなく充填される液晶容器と、前記液晶容器の内容
積を変化させる内容積変化手段と、チャンバ内に収納さ
れた液晶装置のセル内及びその周辺を真空雰囲気下とす
る真空引き手段と、前記真空引き手段によって真空とさ
れた前記液晶装置の液晶注入口近傍に前記液晶容器から
供給された液晶を滴下して前記液晶によって前記液晶注
入口を閉塞する液晶供給手段とを具備したことを特徴と
する。

【００１５】本発明において、液晶容器には脱泡後の液
晶が液晶充填手段によって気体に触れることなく充填さ
れる。真空引き手段によって液晶装置のセル内及び少な
くもと液晶注入口近傍が真空にされる。内容積変化手段
は、液晶容器の内容積を変化させ、液晶供給手段は、液
晶容器から排出される液晶を液晶注入口近傍に滴下す
る。この状態で、例えば、液晶注入口近傍を大気圧に戻
すことで、液晶が液晶装置のセル内に注入される。液晶
容器には、液晶充填手段によって、気体に触れることな
く液晶が充填されており、また、液晶容器に充填された
液晶は、液晶容器の内容積を変化させることによって排
出されることから、脱泡後の液晶にガス成分が混入する
ことを防止することができる。これにより、液晶滴下時
に泡立ちが発生することを防止することができ、泡立ち
の発生によって、気泡成分が液晶装置のセル内に封入さ
れてしまうこと、及び、真空雰囲気の状態を作り出す真
空引き手段、例えば、真空チャンバ等が汚染されて、製
造歩留まりが低下することを防止することができる。

【００１６】また、本発明は、前記液晶充填手段が、真
空雰囲気下において、前記脱泡後の液晶を前記液晶容器
内に充填することを特徴とする。

【００１７】このような構成によれば、液晶が気体に全
く触れることなく、液晶容器内に液晶を充填することが
できる。

【００１８】また、本発明は、前記液晶充填手段が、前
記真空引き手段による真空雰囲気下の真空度よりも高い
真空度の真空雰囲気下で、前記脱泡後の液晶を前記液晶
容器内に充填することを特徴とする。

【００１９】このような構成によれば、液晶充填手段
が、真空引き手段による真空雰囲気下の真空度よりも高
い真空度の真空雰囲気下で、脱泡後の液晶を液晶容器内
に充填しているので、液晶の確実な脱泡が行われ、液晶
の滴下時にガス成分による泡立ちが発生することを防止
することができる。

【００２０】また、本発明は、液晶充填手段が、前記脱
泡後の液晶中に前記液晶容器を潜入させることによっ
て、前記液晶容器内に液晶を充填させることを特徴とす
る。

【００２１】このような構成によれば、液晶が気体に全
く触れることなく、液晶容器内に液晶を充填することが
できる。

【００２２】また、本発明は、前記液晶充填手段が、大
気圧よりも低い気圧下において、前記脱泡後の液晶を前
記液晶容器内に充填して、前記液晶容器内では液晶を気
体に触れないようにすることを特徴とする。

【００２３】このような構成によれば、十分に脱泡され
た液晶が容器内に充填され、液晶の排出時までに、容器
中の液晶にガス成分が混入することはない。

【００２４】また、本発明は、前記液晶容器が、フレキ
シブルパックであり、前記内容積変化手段は、前記フレ
キシブルパックを変形させる物理的な手段を具備したこ
とを特徴とする。

【００２５】このような構成によれば、物理的な手段に
よってフレキシブルパックを変形させることによって、
液晶容器内の液晶を気体に触れさせることなく、液晶を
排出させることができる。

【００２６】また、本発明は、前記内容積変化手段が、
前記フレキシブルパックが収納される剛性の外容器を有
し、前記外容器にガスを吸入することによるガス圧によ
って前記フレキシブルパックを変形させることを特徴と
する。

【００２７】このような構成によれば、液晶容器内の液
晶を気体に触れさせることなく、液晶を排出させること
ができる。

【００２８】また、本発明は、脱泡後の液晶を気体に触
れることなく液晶容器内に充填する手順と、チャンバ内
に収納された液晶装置のセル内及びその周辺を真空雰囲
気下とする手順と、前記液晶容器の内容積を変化させる
手順と、真空とされた前記液晶装置の液晶注入口近傍に
前記液晶容器の内容積の変化によって前記液晶容器から
排出された液晶を滴下して前記液晶によって前記液晶注
入口を閉塞する液晶供給手順と、前記チャンバ内の真空
状態を解除することにより前記液晶注入口近傍に滴下さ
れた液晶を前記液晶装置のセル内に注入する手順とを具
備したことを特徴とする。

【００２９】このような構成によれば、脱泡後の液晶は
気体に触れることなく液晶容器内に充填される。これに
より、液晶容器内の液晶に含まれるガス成分は極めて少
ない。液晶装置のセル内及びその周辺が真空雰囲気下と
された後、液晶容器の内容積を変化させることにより、
液晶容器内の液晶を排出させる。液晶容器の内容積を変
化させて液晶を排出していることから、液晶排出の過程
でガス成分が混入することはない。次に、真空とされた
液晶装置の液晶注入口近傍に、液晶容器から排出された
液晶を滴下する。次いで、液晶装置の周辺を加圧するこ
とにより液晶注入口近傍に滴下された液晶を液晶装置の
セル内に注入する。液晶の脱泡工程以降、液晶の注入工
程までの間、液晶にガス成分が混入することはなく、液
晶滴下時の泡立ちによる気泡の混入及び装置の汚染等を
防止することができる。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について詳細に説明する。図１は本発明に係る
液晶注入装置の一実施の形態を示す説明図である。図２
は液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各
種素子、配線等の等価回路である。図３はＴＦＴ基板等
の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向
基板側から見た平面図であり、図４は素子基板と対向基
板とを貼り合わせて液晶を封入する組み立て工程終了後
の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ’線の位置で切断して示す
断面図である。また、図５は液晶装置を詳細に示す断面
図である。

【００３１】本実施の形態は液晶注入を行う液晶装置と
してＴＦＴ基板等の素子基板を用いた液晶表示装置を採
用した例について説明する。本実施の形態はフレキシブ
ルパック内に十分に脱泡した液晶を詰めて、フレキシブ
ルパックを変形させることで真空チャンバ内に液晶を供
給するようにしたものである。

【００３２】先ず、図２乃至図５を参照して、液晶装置
について説明する。

【００３３】図２に示すように、画素領域においては、
複数本の走査線３ａと複数本のデータ線６ａが交差する
ように配線し、走査線３ａとデータ線６ａで区画された
領域に画素電極９ａがマトリクス状に配置される。そし
て、走査線３ａとデータ線６ａの各交差部分にＴＦＴ３
０が設けられ、このＴＦＴ３０に液晶容量をなす画素電
極９ａが接続される。これにより、データ線６ａに供給
される画像信号は、走査線３ａのＯＮ信号に基づいて画
素電極９ａに供給される。また、画素電極９ａと並列に
蓄積容量７０が設けられ、例えば画素電極９ａの電圧
は、蓄積容量７０によりソース電圧が印加された時間よ
りも３桁も長い時間だけ保持される。これにより、保持
特性はさらに改善され、コントラスト比の高い画像表示
が可能となる。

【００３４】図５は、一つの画素に着目した液晶装置の
概略断面図である。

【００３５】ガラスや石英等の素子基板１０には、ＴＦ
Ｔ３０が設けられている。ＴＦＴ３０は、チャネル領域
１ａ、ソース領域１ｄ、ドレイン領域１ｅが形成された
半導体層に絶縁薄膜２を介してゲート電極をなす走査線
３ａが設けられてなる。ＴＦＴ３０上には第１層間絶縁
膜４を介してデータ線６ａが積層され、コンタクトホー
ル５を介してソース領域１ａに電気的に接続される。デ
ータ線６ａ上には第２層間絶縁膜７を介して画素電極９
ａが積層され、コンタクトホール８を介してドレイン領
域１ｅに電気的に接続される。また、半導体層にはドレ
イン領域１ｅから延びる蓄積容量電極１ｆが形成されて
いる。蓄積容量電極１ｆは、誘電体膜である絶縁薄膜２
を介して容量線３ｂが対向配置され、これにより蓄積容
量７０を構成している。画素電極９ａ上にはポリイミド
系の高分子樹脂からなる配向膜１６が積層され、所定の
方向にラビング処理されている。

【００３６】一方、対向基板２０には、ＴＦＴアレイ基
板のデータ線６ａ、走査線３ａ及びＴＦＴ３０の形成領
域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第
１遮光膜２３が設けられている。この第１遮光膜２３に
よって、対向基板２０側からの入射光がＴＦＴ３０のチ
ャネル領域１ａ、ソース領域領域１ｄ及びドレイン領域
１ｅに入射することが防止される。第１遮光膜２３上
に、対向電極（共通電極）２１が基板２０全面に亘って
形成されている。対向電極２１上にポリイミド系の高分
子樹脂からなる配向膜２２が積層され、所定の方向にラ
ビング処理されている。

【００３７】そして、素子基板１０と対向基板２０との
間に液晶層５０が封入されている。これにより、ＴＦＴ
３０は所定のタイミングでデータ線６ａから供給される
画像信号を画層電極９ａに書き込む。書き込まれた画素
電極９ａと対向電極２１との電位差に応じて液晶の分子
集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示を
可能にする。

【００３８】図３および図４に示すように、対向基板２
１には表示領域を区画する額縁としての第２遮光膜４２
が設けられている。第２遮光膜４２は例えば第１遮光膜
２３と同一又は異なる遮光性材料によって形成されてい
る。

【００３９】第２遮光膜４２の外側の領域に液晶を封入
するシール材４１が、素子基板１０と対向基板２０間に
形成されている。シール材４１は対向基板４１の輪郭形
状に略一致するように配置され、素子基板１０と対向基
板２０を相互に固着する。シール材４１は、素子基板１
０の１辺の中央の一部において欠落しており、貼り合わ
された素子基板１０及び対向基板２０相互の間隙（以
下、セル内と称する）に液晶を注入するための液晶注入
口７８を形成する。液晶注入口７８より液晶が注入され
た後、封止材８９で封止される。

【００４０】素子基板１０のシール材４１の外側の領域
には、データ線駆動回路６１及び実装端子６２が素子基
板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接
する２辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられてい
る。素子基板１０の残る一辺には、画面表示領域の両側
に設けられた走査線駆動回路６３間を接続するための複
数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０の
コーナー部の少なくとも１箇所においては、素子基板１
０と対向基板２０との間を電気的に導通させるための導
通材６５が設けられている。

【００４１】次に、本実施の形態の特徴となる、貼り合
わせ工程後の液晶装置に対して液晶を注入する注入装置
について説明する。

【００４２】図１において、真空チャンバ１０１にはパ
イプ８１が取り付けられており、パイプ８１はバルブ８
２を介して真空引きポンプ８３に接続されている。真空
引きポンプ８３は、パイプ８１及びバルブ８２を介し
て、真空チャンバ１内の気体を排気させて、真空チャン
バ１内を真空状態にすることができるようになってい
る。バルブ８２は真空引きポンプ８３による真空チャン
バ１０１からの吸引を可能にし、真空チャンバ１内の真
空度を維持すると共に、開状態によって大気を真空チャ
ンバ１０１内に送気して真空状態を解除することができ
るようになっている。

【００４３】真空チャンバ１０１内には図示しない支持
台が設けられており、この支持台上に、図４と同一構成
の張り合わせ工程後の液晶装置９２が載置されるように
なっている。載置された液晶装置９２の液晶注入口７８
近傍には、ノズル７６の先端が臨んでいる。ノズル７６
は他端が真空チャンバ１０１外部に連通されてバルブ７
５に接続される。

【００４４】バルブ７５は閉状態で真空チャンバ１０１
内の真空度を維持し、開状態で他端に接続されたパイプ
７４を介して供給される液晶をノズル７６を介して真空
チャンバ１０１に供給するようになっている。

【００４５】本実施の形態においては、パイプ７４の他
端はパッキン７９を介して液晶容器９０内に挿通される
ようになっている。液晶容器９０内には十分に脱泡され
た液晶７１が気体にさらされることなく充填され、密封
されている。

【００４６】液晶容器９０は、液密及び気密に構成され
て密閉性を有すると共に、外部からの圧力等によって変
形自在（内容積が可変）であればよく、例えば、テフロ
ンパック等のフレキシブルパックが採用される。フレキ
シブルパックとしては液晶に対する耐性を有するものが
採用される。液晶容器９０のパッキン７９に設けた開孔
にはパイプ７４が取り付けられており、液晶容器９０内
外の気体及び液体は、パイプ７４のみによって吸入又は
排出されるようになっている。

【００４７】本実施の形態においては、例えば、液晶容
器９０は、図示しない真空チャンバ内にて液晶が充填さ
れる。即ち、図示しない容器に充填した液晶及び液晶容
器９０を図示しない真空チャンバ内に放置し、排気して
真空度を徐々に高める。これにより、真空排気したチャ
ンバ内の液晶を脱泡させる。十分に脱泡した液晶を、真
空チャンバ内において、真空雰囲気下で液晶容器９０に
充填する。液晶が充填された液晶容器９０をパッキン７
９で密閉する。

【００４８】なお、液晶容器９０への液晶充填時の真空
度は、真空チャンバ１０１における液晶注入時の真空度
よりも高く設定した方が好ましい。

【００４９】こうして、液晶が充填された液晶容器９０
を外容器７２に入れて、パイプ７４をパッキン７９から
液晶容器９０内に挿入する。外容器７２は剛性を有し、
パイプ８０を介して例えばＮ２ガス等の気体を吸入する
ことで、外容器内７３の圧力を高くすることができるよ
うになっている。外容器７２によって内容積変化手段が
構成される。

【００５０】次に、このように構成された実施の形態の
作用について図６及び図７を参照して説明する。図６は
パネル組み立て工程を示すフローチャートであり、図７
は図６中の液晶封入・封止工程を具体的に示すフローチ
ャートである。

【００５１】先ず、図６を参照してパネル組み立て工程
について説明する。ＴＦＴ基板等の素子基板１０と対向
基板２０とは、別々に製造される。ステップＳ1 ，Ｓ6
で夫々用意された素子基板１０及び対向基板２０に対し
て、次のステップＳ2 ，Ｓ7では、配向膜１６，２２と
なるポリイミド（ＰＩ）を塗布する。次に、ステップＳ
3 ，Ｓ8 において、素子基板１０表面の配向膜１６及び
対向基板２０表面の配向膜２２に対して、ラビング処理
を施す。

【００５２】次に、ステップＳ4 ，Ｓ9 において、素子
基板１０，対向基板２０表面に対して配向膜表面に付着
した異物除去工程を行う。異物除去工程が終了すると、
ステップＳ5 において、シール材４１（図３参照）を形
成する。次いで、ステップＳ10で、素子基板１０と対向
基板２０とを貼り合わせ、ステップＳ11でアライメント
を施しながら圧着し、シール材４１を硬化させる。最後
に、ステップＳ12において、シール材４１の一部に設け
た切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞いで液晶を
封止する。

【００５３】図７に示すように、液晶封入・封止工程に
おいては、先ず、真空度が十分に高い真空雰囲気下の真
空チャンバ１０１内において、十分に脱泡された液晶を
液晶容器９０内に充填する（ステップＳ21，Ｓ22）。液
晶が充填された液晶容器９０にパッキン７９を取り付け
て、液晶容器９０を密閉する。

【００５４】次に、ステップＳ23において、液晶容器９
０を外容器内７３に入れ、パイプ７４をパッキン７９か
ら液晶容器９０内に挿入する。この場合には、例えば、
液晶容器９０を若干変形させることで、液晶容器９０内
に気体が混入しないようにパイプ７４を取り付け、更
に、パイプ７４内に液晶が充満された状態でバルブ７５
を閉状態にする。

【００５５】次に、ステップＳ24でバルブ８２にポンプ
８３を選択させ、ポンプ８３によって真空チャンバ１０
１内を減圧する。真空チャンバ１０１内、液晶装置のセ
ル内及びノズル７６の管内が真空状態となる。真空チャ
ンバ１０１内が所定の真空度に到達すると、バルブ８２
によって真空チャンバ１０１内の真空状態を維持させ
る。

【００５６】次に、ステップＳ25で液晶容器９０を加圧
する。即ち、外容器７２にパイプ８０を介してＮ２ガス
等を送気して、外容器７２内を加圧する。これにより、
液晶容器９０の外表面に印加される圧力も高くなる。次
に、バルブ７５を開状態にして、液晶容器９０の変形に
よって排出された液晶７１を、パイプ７４及びノズル７
６を介して真空チャンバ１０１内に滴下する。

【００５７】ノズル７６の先端から滴下された液晶７７
は、液晶装置９２の液晶注入口７８を塞ぐ。この状態
で、バルブ７５を閉状態にし、バルブ８２を開状態にし
て、大気を真空チャンバ１０１内に導入して、真空チャ
ンバ１０１内を大気圧に戻す（ベント）（ステップＳ2
7）。そうすると、液晶７７は、液晶装置９２のセル内
外の差圧によって、液晶注入口７８からセル内に注入さ
れる（ステップＳ28）。

【００５８】液晶注入が終了すると、最後に、ステップ
Ｓ29において、封止剤８９を液晶注入口７８に塗布し、
硬化させてセル内の液晶を封止する。

【００５９】このように、本実施の形態においては、真
空チャンバ１０１内に滴下される液晶は、十分に脱泡さ
れ、大気にさらされることなく液晶容器９０内に充填さ
れる。そして、液晶容器９０を外部から変形させること
で、液晶容器９０内の液晶を真空チャンバ１０１内に供
給するようになっており、脱泡処理後の液晶は気体に触
れることなく真空チャンバ１０１内に滴下される。従っ
て、真空チャンバ１０１内に滴下される液晶にガス成分
はほとんど混入しておらず、液晶の滴下時に泡立ちが生
じることはなく、滴下時の泡立ちによって発生した気泡
が液晶パネル内に封入されてしまうことはない。これに
より、液晶表示パネルの表示不良等の発生を防止するこ
とができる。

【００６０】また、脱泡後の液晶を気体にさらすことな
く真空チャンバ１０１内に滴下しており、従来例のよう
に、液晶を直接ガスで加圧することにより液晶を真空チ
ャンバ１０１内に供給する場合と異なり、滴下される液
晶にガス成分が混入することはなく、液晶セル内に気泡
が生じることが防止される。

【００６１】また、液晶の滴下時に泡立ちが生じないの
で、液晶滴下時に液晶成分が真空チャンバ１０１内に飛
散することを防止することができ、真空チャンバ１０１
内が汚染することを防ぐこともできる。これにより、液
晶装置の製造歩留まりを向上させることができる。

【００６２】なお、本実施の形態においては、真空チャ
ンバ１０１内で液晶容器９０に液晶を充填する例につい
て説明したが、例えば、液晶の脱泡処理後に、液晶中に
液晶容器９０を潜入させることで、十分に脱泡された液
晶を気体にさらすことなく、液晶容器９０内に充填して
密閉することも可能である。即ち、液晶容器９０内に気
体が入らないように、十分に脱泡された液晶を封入すれ
ばよく、必ずしも真空チャンバ１０１内で液晶を充填す
る必要はない。

【００６３】しかし、大気圧では液晶内にガス成分が混
入しやすく、更に、真空雰囲気下の液晶であっても、真
空度に応じたガス成分が混入しているものとすると、上
述したように、液晶容器９０への液晶充填時の真空度
を、真空チャンバ１における液晶滴下時の真空度よりも
高く設定した方が好ましい。これにより、液晶容器９０
内には確実に脱泡された液晶が充填されることになり、
滴下時の真空雰囲気下でガス成分による泡立ちが発生す
ることはない。

【００６４】また、本実施の形態においては、液晶容器
９０としてフレキシブルパックを用い、Ｎ２ガスによっ
て外部から加圧変形させて、液晶を真空チャンバ１０１
内に供給する例について説明したが、Ｎ２ガスでなくい
ずれの気体を用いてもよく、更に気体でなく、液体又は
固体によって液晶容器９０に変形を加えてもよい。つま
り、液晶容器９０の内容積を変化させることが可能であ
れば、いずれの方法でもよい。また、真空チャンバ１０
１内に収容される液晶装置は、パレットなどの治具に複
数個配設し、同時に液晶を注入してもよい。

【００６５】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、真
空チャンバ内への液晶の送出に際して液晶中にガス成分
が混入しないようにすることにより、液晶パネル内に気
泡が生じることを防止することができると共に、液晶チ
ャンバ内の汚染を防止することができるという効果を有
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶注入装置の一実施の形態を示
す説明図。

【図２】液晶装置の画素領域を構成する複数の画素にお
ける各種素子、配線等示す等価回路。

【図３】ＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された
各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。

【図４】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封
入する組み立て工程終了後の液晶装置を図３のＨ−Ｈ’
線の位置で切断して示す断面図。

【図５】液晶装置を詳細に示す断面図。

【図６】パネル組み立て工程を示すフローチャート。

【図７】図７中の液晶封入・封止工程を具体的に示すフ
ローチャート。

【図８】従来例を説明するための説明図。

【符号の説明】

１０１…真空チャンバ ７１，７７…液晶 ７２…外容器 ７５…バルブ ７６…ノズル ７８…液晶注入口 ７９…パッキン ８３…真空引きポンプ ９０…液晶容器 ９２…液晶装置

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 脱泡後の液晶が液晶充填手段によって気
   体に触れることなく充填される液晶容器と、 前記液晶容器の内容積を変化させる内容積変化手段と、 チャンバ内に収納された液晶装置のセル内及びその周辺
   を真空雰囲気下とする真空引き手段と、 前記真空引き手段によって真空とされた前記液晶装置の
   液晶注入口近傍に前記液晶容器から供給された液晶を滴
   下して前記液晶によって前記液晶注入口を閉塞する液晶
   供給手段とを具備したことを特徴とする液晶注入装置。
2. 【請求項２】 前記液晶充填手段は、真空雰囲気下にお
   いて、前記脱泡後の液晶を前記液晶容器内に充填するこ
   とを特徴とする請求項１に記載の液晶注入装置。
3. 【請求項３】 前記液晶充填手段は、前記真空引き手段
   による真空雰囲気下の真空度よりも高い真空度の真空雰
   囲気下で、前記脱泡後の液晶を前記液晶容器内に充填す
   ることを特徴とする請求項２に記載の液晶注入装置。
4. 【請求項４】 前記液晶充填手段は、前記脱泡後の液晶
   中に前記液晶容器を潜入させることによって、前記液晶
   容器内に液晶を充填させることを特徴とする請求項１に
   記載の液晶注入装置。
5. 【請求項５】 前記液晶充填手段は、大気圧よりも低い
   気圧下において、前記脱泡後の液晶を前記液晶容器内に
   充填して、前記液晶容器内では液晶を気体に触れないよ
   うにすることを特徴とする請求項１に記載の液晶注入装
   置。
6. 【請求項６】 前記液晶容器は、フレキシブルパックで
   あり、 前記内容積変化手段は、前記フレキシブルパックを変形
   させる物理的な手段を具備したことを特徴とする請求項
   １に記載の液晶注入装置。
7. 【請求項７】 前記内容積変化手段は、前記フレキシブ
   ルパックが収納される剛性の外容器を有し、前記外容器
   にガスを吸入することによるガス圧によって前記フレキ
   シブルパックを変形させることを特徴とする請求項６に
   記載の液晶注入装置。
8. 【請求項８】 脱泡後の液晶を気体に触れることなく液
   晶容器内に充填する手順と、 チャンバ内に収納された液晶装置のセル内及びその周辺
   を真空雰囲気下とする手順と、 前記液晶容器の内容積を変化させる手順と、 真空とされた前記液晶装置の液晶注入口近傍に前記液晶
   容器の内容積の変化によって前記液晶容器から排出され
   た液晶を滴下して前記液晶によって前記液晶注入口を閉
   塞する液晶供給手順と、 前記チャンバ内の真空状態を解除することにより前記液
   晶注入口近傍に滴下された液晶を前記液晶装置のセル内
   に注入する手順とを具備したことを特徴とする液晶注入
   方法。