JP2003197513A - 薬液供給装置 - Google Patents
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Abstract
せ、吐出精度を向上させる。 【課題解決手段】 バッファタンク部6は、薬液を収容
する液体タンク46に液体導入流路42により連通する
液体貯留室61を有する。フィルタ部4は、フィルタ入
口41aとフィルタ出口41bとを有し、フィルタ入口
41aがバッファタンク部6の液体吐出口60dに連通
する。ポンプ11は、フィルタ出口41bにポンプ入口
11aが接続され、ポンプ出口11bが液体吐出流路4
7を介して吐出ノズル50に接続される。戻し流路48
は、ポンプ出口11bとバッファタンク部6との間に接
続され、ポンプ11から吐出された薬液を液体貯留室6
1に戻す。排気流路49は、バッファタンク部6に接続
され、液体貯留室61内の空気を排気する。
Description
所定量吐出するようにした薬液供給装置に関し、たとえ
ば、半導体ウエハの表面にフォトレジスト液を塗布する
ために使用して好適な薬液供給装置に関する。
晶基板製造技術、磁気ディスク製造技術および多層配線
基板製造技術などの種々の技術分野における製造プロセ
スにあっては、フォトレジスト液、スピニオンガラス
液、ポリイミド樹脂液、純水、エッチング液、有機溶剤
などの薬液が使用されており、これらの薬液の塗布には
薬液供給装置が用いられている。
ジスト液を塗布する場合には、半導体ウエハを水平面内
において回転させた状態のもとで、半導体ウエハの表面
にフォトレジスト液を薬液供給装置により一定量滴下す
るようにしている。
に、装置内に気泡が混入すると、薬液を押し出そうとす
る圧力を気泡が吸収してしまい、薬液の吐出量が不安定
になり、吐出精度が低下する。このため、半導体ウエハ
に形成される半導体集積回路を高品質に歩留まりよく製
造することができなかった。
な薬液供給装置にはフィルタが設けられており、薬液
は、フィルタを透過することにより気泡等の異物が除去
され、清浄度を高めるようになっている。フィルタ容器
内に溜まった気泡は、通常、フィルタの排気ポートに接
続された排気流路に脱気弁を取り付け、この脱気弁を開
放することによって薬液供給装置の外へ排出させてい
た。
タの表面には気泡が徐々に付着して目詰まりを起こすの
で、その気泡捕捉能力は徐々に低下する。そのため、薬
液中の気泡をフィルタで捕捉し切れず、気泡を含有した
薬液が半導体ウエハの表面に吐出されることがあり、結
果として半導体集積回路の製造歩留まりを向上すること
ができなかった。
し、フィルタから排気する従来の方法には限界があり、
上述したような問題を解決するためには、供給装置内の
フィルタ以外の箇所においても、適宜、薬液に含まれる
気泡を除去し、装置外に排気する必要がある。
れる薬液の量を安定させ、吐出精度を向上させることに
ある。
品質に歩留まりよく製造することにある。
は、薬液を収容する液体タンクに液体導入流路により連
通する液体貯留室を有するバッファタンク部と、フィル
タ入口とフィルタ出口とを有し、前記フィルタ入口が前
記バッファタンク部の液体吐出口に連通するフィルタ部
と、前記フィルタ出口にポンプ入口が接続され、ポンプ
出口が液体吐出流路を介して吐出ノズルに接続されるポ
ンプと、前記ポンプ出口と前記バッファタンク部との間
に接続され、前記ポンプから吐出された薬液を前記液体
貯留室に戻す戻し流路と、前記バッファタンク部に接続
され、前記液体貯留室内の空気を排気する排気流路とを
有することを特徴とする。
に接続され、前記フィルタ部内の気体を排出する排気流
路を有していてもよい。
に基づいて詳細に説明する。
液供給装置の概略を示す液体回路図である。図1に示す
ように、この薬液供給装置のバッファタンク部6は、内
部に液体貯留室61が設けられ、液体導入流路42が接
続される液体流入ポート60aと、戻し流路48が接続
される液体流入ポート60bと、排気流路49が接続さ
れる排気ポート60cとが天壁部に形成されており、連
通路43が接続される液体吐出口60dが底壁部に形成
されている。
aには、流路を開閉するための導入弁V1が設けられた
液体導入流路42の一端が接続されており、この液体導
入流路42の他端は液体タンク46の内部に位置するよ
うに配置されている。従って、バッファタンク部6と液
体タンク46とは、液体導入流路42を介して連通され
る。
それに収容されるフィルタ41とにより構成されてお
り、フィルタ41を透過することにより、液体中の気泡
がフィルタ41の表面に捕捉されるようになっている。
aとフィルタ出口41bとを有し、バッファタンク部6
の液体吐出口60dには、連通路43の一端が接続され
ており、この連通路43の他端はフィルタ収容室40の
フィルタ入口41aに接続されている。従って、フィル
タ収容室40とバッファタンク部6とは連通路43を介
して連通される。また、フィルタ41は排気ポート41
cを有し、流路を開閉するための脱気弁V2が設けられ
た排気流路44が排気ポート41cに接続されており、
これにより、フィルタ41によって捕捉され、フィルタ
収容室40に溜まった空気を排気ポート41cからフィ
ルタ41の外部に排出することが可能となる。
を開閉するためのポンプ入口側弁V3が設けられたポン
プ入口側流路45の一端が接続されており、このポンプ
入口側流路45の他端は、フィルタ41のフィルタ出口
41bに接続されている。
体をポンプ室17の拡張時にポンプ入口11aからポン
プ室17の内部に吸入し、収縮時にポンプ出口11bか
ら吐出する。また、ポンプ11のポンプ出口11bに
は、流路を開閉するための吐出弁V4が設けられた液体
吐出流路47の一端が接続されており、ポンプ11から
吐出された液体を吐出ノズル50に案内するようになっ
ている。
出弁V4との間の箇所には、流路を開閉するための戻し
弁V5が設けられた戻し流路48の一端が接続されてお
り、この戻し流路48の他端はバッファタンク部6の液
体流入ポート60bに接続されている。したがって、ポ
ンプ11から液体吐出流路47に吐出された薬液が戻し
流路48を介してバッファタンク部6の液体貯留室61
に戻される。
の脱気弁V6が設けられており、その一端がバッファタ
ンク部6の排気ポート60cに接続されており、液体貯
留室61内の空気は排気流路49から排出される。図1
に示された実施の形態では、排気流路49の他端は、排
気流路44に接続されているが、排気流路44に接続さ
れず、互いに独立に排気される構造であってもよい。
薬液供給装置の詳細な構造を示す断面図、図3は図2に
示すポンプの詳細を示す断面図である。図2および図3
に示すように、ポンプ11は弾性材料により形成されて
径方向に弾性拡張収縮自在の可撓性チューブ13と、こ
の外側に配置されるとともに弾性材料により形成されて
軸方向に弾性変形自在のベローズ14とを備えている。
置されており、その下端部には第1アダプタ15が取り
付けられ、上端部には第2アダプタ16が取り付けられ
ており、両方のアダプタ15,16の間における可撓性
チューブ13内は拡張収縮するポンプ室17となってい
る。
向中央部の作動ディスク部21と、有効径dを有する小
型ベローズ部22と、有効径dよりも大きな有効径Dを
有する大型ベローズ部23とを有し、両方のベローズ部
22,23は作動ディスク部21を介して一体となって
いる。ベローズ14の両端部には固定ディスク部24,
25が一体となって設けられており、大型ベローズ部2
3側の固定ディスク部24は可撓性チューブ13を介し
て第1アダプタ15に固定され、小型ベローズ部22側
の固定ディスク部25は可撓性チューブ13を介して第
2アダプタ16に固定されている。
液がフォトレジスト液であることから、薬液と反応しな
いように、フッ素樹脂であるテトラフルオロエチレンパ
ーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)
等の樹脂材料により形成されており、アダプタ15,1
6も同様の材料により形成されている。また、ベローズ
14も同様の樹脂材料により、ディスク部21,24,
25とベローズ部22,23とが一体となって形成され
ている。ただし、樹脂材料としては、PFAに限られ
ず、弾性変形する材料であれば、他の樹脂材料を用いて
もよい。また、可撓性チューブ13とベローズ14とを
一体に形成するようにしてもよく、その場合にはアダプ
タ15,16は不要となる。更に、ベローズ14につい
ては、金属製としてもよい。
たベローズ14との間の空間は駆動室26となってお
り、この駆動室26内には液体等の非圧縮性媒体27が
充填されている。したがって、ベローズ14をその中央
部分の作動ディスク部21で軸方向に弾性変形すると、
ベローズ14の全長は変化することなく、小型ベローズ
部22と大型ベローズ部23の内側の容積が変化するこ
とになる。これにより、非圧縮媒体27を介して可撓性
チューブ13が径方向つまり横方向に拡張収縮して可撓
性チューブのポンプ室はポンプ動作することになる。図
3に示すポンプ11の構造は、本出願人が提案した特開
平10−61558号公報に記載されたものと基本的に同様と
なっており、可撓性チューブ13の断面形状としては、
前記公報に記載されるように、長方形、円形、あるいは
異形断面など種々の形状とすることができる。
24,25の部分で支持台30に取り付けられており、
固定ディスク部24はこれに嵌め込まれた固定ブラケッ
ト31により支持台30に取り付けられ、固定ディスク
部25はこれに嵌め込まれた固定ブラケット32により
支持台30に取り付けられている。
ポンプ動作を行うために、作動ディスク部21に嵌め込
まれた作動ブラケット33は、支持台30にベローズ1
4と平行に延びて回転自在に取り付けられたボールねじ
軸34にねじ結合されたボールナット35に連結されて
いる。ボールナット35は支持台30に設けられたガイ
ドレール36に対して摺動自在に接触しており、ボール
ねじ軸34の回転によって軸方向に駆動されるようにな
っている。このボールねじ軸34を回転駆動するため
に、支持台30に取り付けられたモータ37のシャフト
に固定されたプーリー38と、ボールねじ軸34に固定
されたプーリー39との間にはベルト70が装着されて
いる。
1〜脱気弁V6の開閉を行いそれぞれの流路を開閉する
ことにより、この薬液供給装置はフォトレジスト液を塗
布するための薬液吐出供給動作を行うことができる。な
お、これら導入弁V1〜脱気弁V6としては、電気信号
により作動する電磁弁、または空気圧により作動するエ
アオペレートバルブなどを用いることができる。
4とバッファタンク部6とが着脱自在に装着される。バ
ッファタンク部6には、ブラケットに固定されて液体検
出手段としてのセンサ20と最低液位検出手段としての
センサ21とが設けられている。センサ20は液体貯留
室61の内部に供給されるフォトレジスト液の液面が最
高になる位置に配置されており、センサ21は液体貯留
室61の内部に供給されるフォトレジスト液の液面が最
低になる位置に配置されている。したがって、センサ2
0,21により液体貯留室61の内部に収容されるフォ
トレジスト液の最高液面と最低液面とを検出することが
できる。
1はそれぞれフォトレジスト液の液面が最高もしくは最
低になる位置に配置されているが、これに限らず、これ
らの中間位置に設けてもよい。また、これらのセンサ2
0,21は光の透過と遮断による検出を行っているが、
これに限らず、光の屈折率を検出するタイプのものや、
静電容量の変化を検出するもの、または超音波の変化を
検出するものなどを用いてもよい。更に、本実施の形態
にあっては、センサ20,21はバッファタンク部6の
外部に設けられているが、バッファタンク部6の内部に
設けるようにしてもよく、その場合、浮力を利用した検
出手段を用いてもよい。
タ15にはポンプ入口側流路45と液体吐出側流路47
とが形成され、第2アダプタ16には戻し流路48が形
成されているので、ポンプ入口側流路45からポンプ室
17に薬液とともに流入した気泡は薬液に比して比重が
小さいことから、液体吐出流路47に回り込むことな
く、徐々にポンプ室17内を上昇して戻し流路48に移
動することになる。
入流路42、連通路43、排気流路44、ポンプ入口側
流路45、液体吐出流路47、戻し流路48および排気
流路49は、前述したPFAなどの樹脂により第2アダ
プタ16などと共に一体に成形されたブロックの中に成
形されているが、ホースなどにより形成してもよい。
成されたものや、シート状の膜により形成されたものが
用いられるが、薬液を濾過できるものであれば、これら
に限定されるものではない。
明する。
トレジスト液を満たし、センサ20,21とともにフォ
トレジスト液を検出する初期状態とする。この状態で、
導入弁V1とポンプ入口側弁V3とを開き、脱気弁V
2,V6と吐出弁V4と戻し弁V5とを閉じた状態とし
てポンプ11を吸入動作させる。このポンプ11の吸入
動作により、液体タンク46に収容されたフォトレジス
ト液は液体導入流路42を経由して液体貯留室61に供
給された後、液体吐出流路43を経由してフィルタ部4
に供給された後、フィルタ41によって濾過され、更に
ポンプ入口流路45を経由してポンプ室17に吸入され
る。
ポンプ入口側弁V3と戻し弁V5とを閉じた状態として
ポンプ11を吐出動作させる。このポンプ11の吐出動
作により、ポンプ室17の内部に収容されていたフォト
レジスト液は液体吐出流路47を経由して吐出ノズル5
0から吐出され、半導体ウエハの表面に塗布される。こ
のような吸入動作と吐出動作とを交互に行うことによ
り、この薬液供給装置は薬液吐出供給動作を行うことが
できる。
清浄度を高めるために薬液の循環濾過を行うことができ
る。循環濾過は、導入弁V1とポンプ入口側弁V3とを
開き、脱気弁V2,V6と吐出弁V4と戻し弁V5とを
閉じた状態としてポンプ室17の内部にフォトレジスト
液を吸入する吸入動作の後、戻し弁V5を開き、ポンプ
入口側弁V3と吐出弁V4とを閉じた状態とし、導入弁
V1を開いてポンプ11を吐出動作させる帰還動作を行
う。この帰還動作を行うことにより、ポンプ室17の内
部に吸入されたフォトレジスト液は、液体吐出流路47
に排出された後、戻し流路48を経由してバッファタン
ク部6の液体貯留室61に戻される。バッファタンク部
6に戻された液体は、既にフィルタ41を透過した液体
であり、フィルタ41によって脱気されており、清浄度
は高い。この清浄度の高い液体を再度フィルタ41を透
過してポンプ11に吸入するので、より清浄度の高いフ
ォトレジスト液を吐出供給することができる。
収容されている液体中に含まれる気泡を外部に排出する
ために、排気動作を行うことができる。排気動作は、循
環濾過の帰還動作においてフォトレジスト液を液体貯留
室61に戻した後、再度、前記同様の吸入動作をし、戻
し弁V5と脱気弁V6とを開き、導入弁V1とポンプ入
口側弁V3と吐出弁V4とを閉じた状態としてポンプ1
1を吐出動作させる。この動作を行うことにより、液体
貯留室61内に溜まった空気を排気流路49から排出す
ることができる。したがって、フィルタ41を透過して
も除去し切れなかった液体内の気泡は、循環濾過および
排気動作を実行することにより、バッファタンク部6の
液体貯留室61に連通する排気流路49から外部に排出
される。
填されたときには、上述の循環濾過および排気動作を所
定回数繰り返して、液体塗布動作を行う状態に準備する
ことができる。
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることは言うまでもない。たとえば、以上の説明で
は、薬液供給装置を半導体ウエハにフォトレジスト液を
塗布するために使用した場合について説明したが、レジ
スト液に限らず、種々の液体を供給するために本発明を
適用することが可能であり、特に、気泡が発生しやすい
液をフィルタ41に透過させて吐出する場合に用いて有
効である。また、ポンプ11の形式としては、容積変化
式のポンプであれば、ダイヤフラム式のポンプでもよ
い。
される薬液の量を安定させ、吐出精度を向上させること
ができる。
に歩留まりよく製造することができる。
略を示す液体回路図である。
置の詳細な構造を示す断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 薬液を収容する液体タンクに液体導入流
路により連通する液体貯留室を有するバッファタンク部
と、 フィルタ入口とフィルタ出口とを有し、前記フィルタ入
口が前記バッファタンク部の液体吐出口に連通するフィ
ルタ部と、 前記フィルタ出口にポンプ入口が接続され、ポンプ出口
が液体吐出流路を介して吐出ノズルに接続されるポンプ
と、 前記ポンプ出口と前記バッファタンク部との間に接続さ
れ、前記ポンプから吐出された薬液を前記液体貯留室に
戻す戻し流路と、 前記バッファタンク部に接続され、前記液体貯留室内の
空気を排気する排気流路とを有することを特徴とする薬
液供給装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の薬液供給装置において、
前記フィルタ部に接続され、前記フィルタ部内の気体を
排出する排気流路を有することを特徴とする薬液供給装
置。
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