JPH02281727A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
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- JPH02281727A JPH02281727A JP10382189A JP10382189A JPH02281727A JP H02281727 A JPH02281727 A JP H02281727A JP 10382189 A JP10382189 A JP 10382189A JP 10382189 A JP10382189 A JP 10382189A JP H02281727 A JPH02281727 A JP H02281727A
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- Japan
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- resist
- filter
- bubbles
- air bubbles
- pump
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- Pending
Links
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
レジスト塗布装置に関するものであも
従来の技術
従来の一般的なレジスト塗布装置におけるレジストタン
クからレジスト滴下までの構成は第２図に示すごとく、
ベロウズポンブ（レジストポンプ）ｌの吸引で、Ｎ２ガ
スにより加圧されたレジストタンク２よりレジスト３が
排出され ポンプ１の手前のレジストフィルタ４でゲル
等の大きな異物は濾過され７）。ａ過されたレジストは
ポンプｌの容量で決まる一定量がポンプｌを経由してノ
ズルよりウェハ５上に滴下されも この場合、フィルタ
４において、ポンプ１の吸引速度が早すぎたり、レジス
トタンク２の圧力が高くなったり、またフィルタ４の接
続部の閉め具合等によりフィルタ４内部に微小な気泡６
が溜まりやすくなム この気泡６がレジスト３と共にウ
ェハ５上に塗布されると、第３図に示すごとく気泡７に
よる塗布むらや膜厚むらが生じも このようなレジスト
膜でＬＳＩのパターンを転写すると、気泡７部でパター
ン欠落やショートによるパターン不良となり、ＬＳＩの
歩留が下がる。
クからレジスト滴下までの構成は第２図に示すごとく、
ベロウズポンブ（レジストポンプ）ｌの吸引で、Ｎ２ガ
スにより加圧されたレジストタンク２よりレジスト３が
排出され ポンプ１の手前のレジストフィルタ４でゲル
等の大きな異物は濾過され７）。ａ過されたレジストは
ポンプｌの容量で決まる一定量がポンプｌを経由してノ
ズルよりウェハ５上に滴下されも この場合、フィルタ
４において、ポンプ１の吸引速度が早すぎたり、レジス
トタンク２の圧力が高くなったり、またフィルタ４の接
続部の閉め具合等によりフィルタ４内部に微小な気泡６
が溜まりやすくなム この気泡６がレジスト３と共にウ
ェハ５上に塗布されると、第３図に示すごとく気泡７に
よる塗布むらや膜厚むらが生じも このようなレジスト
膜でＬＳＩのパターンを転写すると、気泡７部でパター
ン欠落やショートによるパターン不良となり、ＬＳＩの
歩留が下がる。
発明が解決しようとする課題
レジストフィルタに加わる圧力やポンプの吸引速度、
レジスト粘嵐 フィルタ使用期間及びフィルタの接続強
度等でレジストフィルタ内部への気泡発生度が短期間で
異なム こういった状況で気泡の発生を抑制することは
困難で、現状は定期的にフィルタを交換したり、第２図
においてフィルタを叩いて内部の気泡をフィルタ上部の
気泡トラップ８に集めて気泡を取り除いていた このた
め作業効率が悪く、また常時気泡を取り除けない欠点が
あるたべ パターン不良が生じＬＳＩの歩留りを下げる
という問題があう九 本発明は 上述の問題点に鑑みて
試されたもので、フィルタ内部に発生する気泡を常時簡
単に除去できるレジスト塗布装置を提供することを目的
とする。
レジスト粘嵐 フィルタ使用期間及びフィルタの接続強
度等でレジストフィルタ内部への気泡発生度が短期間で
異なム こういった状況で気泡の発生を抑制することは
困難で、現状は定期的にフィルタを交換したり、第２図
においてフィルタを叩いて内部の気泡をフィルタ上部の
気泡トラップ８に集めて気泡を取り除いていた このた
め作業効率が悪く、また常時気泡を取り除けない欠点が
あるたべ パターン不良が生じＬＳＩの歩留りを下げる
という問題があう九 本発明は 上述の問題点に鑑みて
試されたもので、フィルタ内部に発生する気泡を常時簡
単に除去できるレジスト塗布装置を提供することを目的
とする。
課題を解決するための手段
本発明１表 上述の課題を解決するた八 レジストフィ
ルタ部に振動発生器を設（す、常時又は定期的にフィル
タを振動させ、フィルタ内部の気泡を除去させるもので
ある。
ルタ部に振動発生器を設（す、常時又は定期的にフィル
タを振動させ、フィルタ内部の気泡を除去させるもので
ある。
作用
本発明Ｃヨ 上述の構成によって振動を与えることに
より、レジストより軽い微小な気泡は取り除かれるたべ
フィルタの低部から出ていく滴下用レジストには気泡
は混在しな（〜 そのため気泡に関するパターン不良が
なくなり、ＬＳＩの歩留りを上げることが可能となも 実施例 本発明の一実施例について説明すも 第１図に於て、従
来例と同一部は同一番号で示す。レジスト３が入ったタ
ンク２と気泡トラップ部を備えたレジストフィルタ４、
さらにレジスト３を排出するベロウズ（レジスト）ポン
プ１１ およびノズルから構成されるレジスト塗布装
置において、 レジストフィルタ４を水溶液１０が入っ
た超音波発生器９の中に設置し 超音波を常時もしくは
定期的に発生させることより、レジストフィルタ４内の
気泡をすぐにフィルタ４上部のトラップ部８に集めも
清浄に濾過されたレジストを、任意の滴下量とするた敷
ポンプストローク調整等でレジスト３を圧送排出させ
、ノズルより気泡の含まないレジストをウェハ５に塗布
する。ここで水溶液１０によりレジストフィルタ４のレ
ジスト３温度を任意に調節するたべ 超音波発生器９は
恒温漕にしたほうが好ましく−また超音波は低周波が好
まししＩ。
より、レジストより軽い微小な気泡は取り除かれるたべ
フィルタの低部から出ていく滴下用レジストには気泡
は混在しな（〜 そのため気泡に関するパターン不良が
なくなり、ＬＳＩの歩留りを上げることが可能となも 実施例 本発明の一実施例について説明すも 第１図に於て、従
来例と同一部は同一番号で示す。レジスト３が入ったタ
ンク２と気泡トラップ部を備えたレジストフィルタ４、
さらにレジスト３を排出するベロウズ（レジスト）ポン
プ１１ およびノズルから構成されるレジスト塗布装
置において、 レジストフィルタ４を水溶液１０が入っ
た超音波発生器９の中に設置し 超音波を常時もしくは
定期的に発生させることより、レジストフィルタ４内の
気泡をすぐにフィルタ４上部のトラップ部８に集めも
清浄に濾過されたレジストを、任意の滴下量とするた敷
ポンプストローク調整等でレジスト３を圧送排出させ
、ノズルより気泡の含まないレジストをウェハ５に塗布
する。ここで水溶液１０によりレジストフィルタ４のレ
ジスト３温度を任意に調節するたべ 超音波発生器９は
恒温漕にしたほうが好ましく−また超音波は低周波が好
まししＩ。
第４図はフィルタを１日１回機械的に振動させた時のレ
ジスト塗布膜中の気泡発生数を従来法と比較したグラフ
であ、Ｌ １／１０〜ｌ／１５に気泡発生数が減って
おり、振動効果の大きい事が判も なお本実施例Ｃヨ
レジストフィルタ４の振動方法として超音波を用いた
め交 その他電気的又は機械的に自動で振動を発生する
ものでも良（℃ またレジストフィルタ４と振動発生器
９の一体はベロウズボンブｌとノズルの間に設けても良
（〜 発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明（友 フィルタ部
に発生しやすい気泡が振動を与えることにより自動的に
取り除かれるので、メインテナンスの作業効率向上及び
フィルタ交換ひん度が少なくなり、コスト低減となる。
ジスト塗布膜中の気泡発生数を従来法と比較したグラフ
であ、Ｌ １／１０〜ｌ／１５に気泡発生数が減って
おり、振動効果の大きい事が判も なお本実施例Ｃヨ
レジストフィルタ４の振動方法として超音波を用いた
め交 その他電気的又は機械的に自動で振動を発生する
ものでも良（℃ またレジストフィルタ４と振動発生器
９の一体はベロウズボンブｌとノズルの間に設けても良
（〜 発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明（友 フィルタ部
に発生しやすい気泡が振動を与えることにより自動的に
取り除かれるので、メインテナンスの作業効率向上及び
フィルタ交換ひん度が少なくなり、コスト低減となる。
更に気泡の混在しないレジスト膜が塗布されることによ
り、パターン歩留及びＬＳＩの歩留向上につながも
り、パターン歩留及びＬＳＩの歩留向上につながも
第１図は本発明の一実施例におけるレジスト塗布装置の
構成は 第２図は従来のレジスト塗布装置の構成医 第
３図は従来技術を用いた時のウェハ上の気泡を示す平面
図で、第４図は本実施例におけるフィルタ振動効果を示
す図であ翫ｌ・・・・ベロウズ（レジスト）ポンプ、
２・・・・レジストタン久 ３レジスト、 ４・・・・
レジストフィル久 ５・・・・ウェノ＼ ９・・・・超
音波発生也代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名
第 図 第 図 第 図
構成は 第２図は従来のレジスト塗布装置の構成医 第
３図は従来技術を用いた時のウェハ上の気泡を示す平面
図で、第４図は本実施例におけるフィルタ振動効果を示
す図であ翫ｌ・・・・ベロウズ（レジスト）ポンプ、
２・・・・レジストタン久 ３レジスト、 ４・・・・
レジストフィル久 ５・・・・ウェノ＼ ９・・・・超
音波発生也代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名
第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- 加圧されたレジストタンク並びにレジストポンプ、レジ
ストフィルタからなるレジスト塗布装置において、前記
レジストフィルタ部に振動発生器を設けた事を特徴とす
るレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10382189A JPH02281727A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10382189A JPH02281727A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02281727A true JPH02281727A (ja) | 1990-11-19 |
Family
ID=14364075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10382189A Pending JPH02281727A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02281727A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH059636U (ja) * | 1991-07-22 | 1993-02-09 | 株式会社イワキ | 流体滴下供給装置 |
| WO2003057343A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Koganei Corporation | Dispositif d'administration de medicament liquide et procede d'administration dudit medicament liquide |
| KR100857995B1 (ko) * | 2003-11-03 | 2008-09-10 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 감광액 여과장치 및 그 불순물 제거방법 |
| JP2008238260A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Toshiba Corp | レーザ表面改質装置及びその方法 |
| US7594801B2 (en) | 2001-12-27 | 2009-09-29 | Koganei Corporation | Chemical liquid apparatus and deaerating method |
| WO2013129252A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
| JP2014078562A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給方法、処理液供給装置及び記憶媒体 |
| JP2015144318A (ja) * | 2015-04-21 | 2015-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルタウエッティング方法、フィルタウエッティング装置及び記憶媒体 |
| JP2016189493A (ja) * | 2016-08-09 | 2016-11-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法、液処理装置及び記憶媒体 |
| JP2017506838A (ja) * | 2014-01-27 | 2017-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | フォトレジストディスペンスシステムのためのアクティブフィルタ技術 |
| JP2023137422A (ja) * | 2022-03-18 | 2023-09-29 | セメス カンパニー，リミテッド | 液供給ユニット及び液供給方法 |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP10382189A patent/JPH02281727A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US9731226B2 (en) | 2012-02-27 | 2017-08-15 | Tokyo Electron Limited | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
| WO2013129252A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
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| US10022652B2 (en) | 2012-02-27 | 2018-07-17 | Tokyo Electron Limited | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
| US9878267B2 (en) | 2012-02-27 | 2018-01-30 | Tokyo Electron Limited | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
| JP2014078562A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給方法、処理液供給装置及び記憶媒体 |
| US9975073B2 (en) | 2012-10-09 | 2018-05-22 | Tokyo Electron Limited | Processing liquid supply method, processing liquid supply apparatus and storage medium |
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| JP2023137422A (ja) * | 2022-03-18 | 2023-09-29 | セメス カンパニー，リミテッド | 液供給ユニット及び液供給方法 |
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