JPH02281727A - レジスト塗布装置 - Google Patents

レジスト塗布装置

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JPH02281727A
JPH02281727A JP10382189A JP10382189A JPH02281727A JP H02281727 A JPH02281727 A JP H02281727A JP 10382189 A JP10382189 A JP 10382189A JP 10382189 A JP10382189 A JP 10382189A JP H02281727 A JPH02281727 A JP H02281727A
Authority
JP
Japan
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resist
filter
bubbles
air bubbles
pump
Prior art date
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Pending
Application number
JP10382189A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Ueno
上野 厚
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH02281727A publication Critical patent/JPH02281727A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 レジスト塗布装置に関するものであも 従来の技術 従来の一般的なレジスト塗布装置におけるレジストタン
クからレジスト滴下までの構成は第2図に示すごとく、
ベロウズポンブ(レジストポンプ)lの吸引で、N2ガ
スにより加圧されたレジストタンク2よりレジスト3が
排出され ポンプ1の手前のレジストフィルタ4でゲル
等の大きな異物は濾過され7)。a過されたレジストは
ポンプlの容量で決まる一定量がポンプlを経由してノ
ズルよりウェハ5上に滴下されも この場合、フィルタ
4において、ポンプ1の吸引速度が早すぎたり、レジス
トタンク2の圧力が高くなったり、またフィルタ4の接
続部の閉め具合等によりフィルタ4内部に微小な気泡6
が溜まりやすくなム この気泡6がレジスト3と共にウ
ェハ5上に塗布されると、第3図に示すごとく気泡7に
よる塗布むらや膜厚むらが生じも このようなレジスト
膜でLSIのパターンを転写すると、気泡7部でパター
ン欠落やショートによるパターン不良となり、LSIの
歩留が下がる。
発明が解決しようとする課題 レジストフィルタに加わる圧力やポンプの吸引速度、 
レジスト粘嵐 フィルタ使用期間及びフィルタの接続強
度等でレジストフィルタ内部への気泡発生度が短期間で
異なム こういった状況で気泡の発生を抑制することは
困難で、現状は定期的にフィルタを交換したり、第2図
においてフィルタを叩いて内部の気泡をフィルタ上部の
気泡トラップ8に集めて気泡を取り除いていた このた
め作業効率が悪く、また常時気泡を取り除けない欠点が
あるたべ パターン不良が生じLSIの歩留りを下げる
という問題があう九 本発明は 上述の問題点に鑑みて
試されたもので、フィルタ内部に発生する気泡を常時簡
単に除去できるレジスト塗布装置を提供することを目的
とする。
課題を解決するための手段 本発明1表 上述の課題を解決するた八 レジストフィ
ルタ部に振動発生器を設(す、常時又は定期的にフィル
タを振動させ、フィルタ内部の気泡を除去させるもので
ある。
作用 本発明Cヨ  上述の構成によって振動を与えることに
より、レジストより軽い微小な気泡は取り除かれるたべ
 フィルタの低部から出ていく滴下用レジストには気泡
は混在しな(〜 そのため気泡に関するパターン不良が
なくなり、LSIの歩留りを上げることが可能となも 実施例 本発明の一実施例について説明すも 第1図に於て、従
来例と同一部は同一番号で示す。レジスト3が入ったタ
ンク2と気泡トラップ部を備えたレジストフィルタ4、
さらにレジスト3を排出するベロウズ(レジスト)ポン
プ11  およびノズルから構成されるレジスト塗布装
置において、 レジストフィルタ4を水溶液10が入っ
た超音波発生器9の中に設置し 超音波を常時もしくは
定期的に発生させることより、レジストフィルタ4内の
気泡をすぐにフィルタ4上部のトラップ部8に集めも 
清浄に濾過されたレジストを、任意の滴下量とするた敷
 ポンプストローク調整等でレジスト3を圧送排出させ
、ノズルより気泡の含まないレジストをウェハ5に塗布
する。ここで水溶液10によりレジストフィルタ4のレ
ジスト3温度を任意に調節するたべ 超音波発生器9は
恒温漕にしたほうが好ましく−また超音波は低周波が好
まししI。
第4図はフィルタを1日1回機械的に振動させた時のレ
ジスト塗布膜中の気泡発生数を従来法と比較したグラフ
であ、L  1/10〜l/15に気泡発生数が減って
おり、振動効果の大きい事が判も なお本実施例Cヨ 
 レジストフィルタ4の振動方法として超音波を用いた
め交 その他電気的又は機械的に自動で振動を発生する
ものでも良(℃ またレジストフィルタ4と振動発生器
9の一体はベロウズボンブlとノズルの間に設けても良
(〜 発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明(友 フィルタ部
に発生しやすい気泡が振動を与えることにより自動的に
取り除かれるので、メインテナンスの作業効率向上及び
フィルタ交換ひん度が少なくなり、コスト低減となる。
更に気泡の混在しないレジスト膜が塗布されることによ
り、パターン歩留及びLSIの歩留向上につながも
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるレジスト塗布装置の
構成は 第2図は従来のレジスト塗布装置の構成医 第
3図は従来技術を用いた時のウェハ上の気泡を示す平面
図で、第4図は本実施例におけるフィルタ振動効果を示
す図であ翫l・・・・ベロウズ(レジスト)ポンプ、 
2・・・・レジストタン久 3レジスト、 4・・・・
レジストフィル久 5・・・・ウェノ\ 9・・・・超
音波発生也代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名
第 図 第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 加圧されたレジストタンク並びにレジストポンプ、レジ
    ストフィルタからなるレジスト塗布装置において、前記
    レジストフィルタ部に振動発生器を設けた事を特徴とす
    るレジスト塗布装置。
JP10382189A 1989-04-24 1989-04-24 レジスト塗布装置 Pending JPH02281727A (ja)

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