JPS61101283A - 超音波洗浄方法 - Google Patents
超音波洗浄方法Info
- Publication number
- JPS61101283A JPS61101283A JP22276984A JP22276984A JPS61101283A JP S61101283 A JPS61101283 A JP S61101283A JP 22276984 A JP22276984 A JP 22276984A JP 22276984 A JP22276984 A JP 22276984A JP S61101283 A JPS61101283 A JP S61101283A
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- JP
- Japan
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- ultrasonic
- frequency
- cleaning
- cleaned
- fundamental frequency
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- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
この発明は超音波洗浄方法に関し、さらに詳しくは被洗
ｎ１物に洗浄ムラが生じない超音波洗す方法に関するも
のである。
ｎ１物に洗浄ムラが生じない超音波洗す方法に関するも
のである。
［従来の技術］
超音波洗浄に関しては、従来から種々の方法や装とが提
案されてきているが、超音波を利用するこれら従来の洗
浄技術の場合、例えば第３図に示す波長入０の超音波に
おける応力分布のうち負圧から正圧、正圧から負圧に変
化するＰＩ 、Ｐ２ 。
案されてきているが、超音波を利用するこれら従来の洗
浄技術の場合、例えば第３図に示す波長入０の超音波に
おける応力分布のうち負圧から正圧、正圧から負圧に変
化するＰＩ 、Ｐ２ 。
Ｐ３の各分岐点には超音波応力が全く生じないため、結
果間に被洗浄物に洗浄ムラが生ずるのを防止し得ず、特
に精密洗浄が必要な場合にはこの洗浄ムラの存在が無視
しえない問題となっていた。
果間に被洗浄物に洗浄ムラが生ずるのを防止し得ず、特
に精密洗浄が必要な場合にはこの洗浄ムラの存在が無視
しえない問題となっていた。
このような欠点を是正するものとしては１例えば第４図
に示すように超音波洗浄装置２０に揺動機構２５を狙合
せ、カム２６に応動する揺動杆２７に洗浄槽２１内の被
洗浄物２２を吊持させ、この被洗浄物２２自体を上下に
強制的に揺動することにより洗浄ムラの発生を防止しよ
うとしたもの、あるいは周波数の異なる複数の超音波振
動子を用い、一定時間毎に周波数を交互に切変えて洗浄
槽内に超音波を照射し、これにより交互に節の位置を異
にする定在波な発生させることにより洗浄ムラの発生を
防止するもの（例えば特開昭５８−１ｆｉｆ１９７３号
公報参照）などが既に提案されてはいる。
に示すように超音波洗浄装置２０に揺動機構２５を狙合
せ、カム２６に応動する揺動杆２７に洗浄槽２１内の被
洗浄物２２を吊持させ、この被洗浄物２２自体を上下に
強制的に揺動することにより洗浄ムラの発生を防止しよ
うとしたもの、あるいは周波数の異なる複数の超音波振
動子を用い、一定時間毎に周波数を交互に切変えて洗浄
槽内に超音波を照射し、これにより交互に節の位置を異
にする定在波な発生させることにより洗浄ムラの発生を
防止するもの（例えば特開昭５８−１ｆｉｆ１９７３号
公報参照）などが既に提案されてはいる。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、このような改良技術によるときは確かに
被洗浄物に洗浄ムラの生じることは防止し得ても、どう
しても装置自体における構造の複雑化は免れず、したが
って装置全体のコストアップをもたらすのみならず、保
守管理の面でも煩雑さが増すなどの問題点が指摘され、
このような観点からの改ａ策が強く望まれていた。
被洗浄物に洗浄ムラの生じることは防止し得ても、どう
しても装置自体における構造の複雑化は免れず、したが
って装置全体のコストアップをもたらすのみならず、保
守管理の面でも煩雑さが増すなどの問題点が指摘され、
このような観点からの改ａ策が強く望まれていた。
この発明の目的は、従来技術のかかる課題に鑑みて洗節
装Ｓのｌ１１素化を図りながら、しかも洗浄ムラの生じ
ない超音波洗浄方法を提供するにある。
装Ｓのｌ１１素化を図りながら、しかも洗浄ムラの生じ
ない超音波洗浄方法を提供するにある。
［問題点を解決するための手段］
すなわち、この発明に係る超音波洗浄方法は、洗浄槽に
取付けられた超音波振動子から発生する超音波の基本周
波数に周波数変調をかけ、超音波の周波数を所定の幅で
連続変調させて被洗浄物に照射することに特徴がある。
取付けられた超音波振動子から発生する超音波の基本周
波数に周波数変調をかけ、超音波の周波数を所定の幅で
連続変調させて被洗浄物に照射することに特徴がある。
したがってこの発明によれば、１つの超音波振動子を利
用するのみで、超音波応力が零となる部位を生じさせる
ことなく被洗顔物に超音波を照射することが可能となり
、洗浄ムラを生じさせることなく被洗浄物を均一に洗浄
することができる。
用するのみで、超音波応力が零となる部位を生じさせる
ことなく被洗顔物に超音波を照射することが可能となり
、洗浄ムラを生じさせることなく被洗浄物を均一に洗浄
することができる。
［実施例］
以下１図面を参照してこの発明に係る方法を説明する。
第１図はこの発明に係る超音波洗浄方法を実施した場合
の周波数の連続変動状況を示すものである。清浄水など
の奴質Ｍが満たされた洗浄槽１には超音波発振器（図示
せず）により駆動される超音波振動子２が取付けられて
おり、ｆａはこの超音波振動子２から照射される基本周
波数を示すものであり、この基本周波数ｆＯに周波数変
ｒＡ（ＦＭ）をかけることにより周波数の高低をｆｆか
らｆｓまでの間で一定周期で連続的に変化させる。
の周波数の連続変動状況を示すものである。清浄水など
の奴質Ｍが満たされた洗浄槽１には超音波発振器（図示
せず）により駆動される超音波振動子２が取付けられて
おり、ｆａはこの超音波振動子２から照射される基本周
波数を示すものであり、この基本周波数ｆＯに周波数変
ｒＡ（ＦＭ）をかけることにより周波数の高低をｆｆか
らｆｓまでの間で一定周期で連続的に変化させる。
具体例として基本周波１ｊｌ（ｆｏ＝５０ｋＨ２の超音
波振動を水中で発生させた場合、半波長（入０／２）は
約１５ｍｍとなり、この基本周波数ｆｏより５％高い周
波数ｆｆの半波長（入ｆ／２ ） ＝ １４．３ｍｍか
ら基本周波数ｆｏより５％低い周波数ｆｓの半波長（八
ｓ／２ ） ＝ １５．８ｍｍまで周波数変調をかける
と基本周波数ｆａによる定在波が弱められ、応力が零と
なる点が１５．８ｍｍから１４．３ｍｍまで一定周期で
変化する。これをさらに第２図により説明すれば、縦軸
は被洗顔物に照射される超音波の振動レベルを１横軸は
その時の周波数を示しており、基本周波ｊｉｆ Ｏ（５
０ｋＨｚ ）、の振動レベルを１００％とするとき、超
音波の減衰線αとの関係で低い周波９ ｆ ｓ と高い
周波ａｆｆとを八木周波数ｆＯ（５０ｋ）Ｉｚ）の振動
レベルの６０〜７０％以上の位置に設定しておくこと、
つまり基本周波数ｆｏに対して±５％の範囲で周波数を
連続変動させるのがその洗浄効果ないしは効率を考慮し
た場合には好ましい、しかしながら、必ずしもこのよう
な幅の振動レベルに限定されるものではなく、必要に応
じて低い周波数ｆｓ と高い周波数ｆｆとを基本周波＠
ｆ ｏ （５０ｋＨｚ ）の振動レベルの６０％以下
の位置に設定することもできる。
波振動を水中で発生させた場合、半波長（入０／２）は
約１５ｍｍとなり、この基本周波数ｆｏより５％高い周
波数ｆｆの半波長（入ｆ／２ ） ＝ １４．３ｍｍか
ら基本周波数ｆｏより５％低い周波数ｆｓの半波長（八
ｓ／２ ） ＝ １５．８ｍｍまで周波数変調をかける
と基本周波数ｆａによる定在波が弱められ、応力が零と
なる点が１５．８ｍｍから１４．３ｍｍまで一定周期で
変化する。これをさらに第２図により説明すれば、縦軸
は被洗顔物に照射される超音波の振動レベルを１横軸は
その時の周波数を示しており、基本周波ｊｉｆ Ｏ（５
０ｋＨｚ ）、の振動レベルを１００％とするとき、超
音波の減衰線αとの関係で低い周波９ ｆ ｓ と高い
周波ａｆｆとを八木周波数ｆＯ（５０ｋ）Ｉｚ）の振動
レベルの６０〜７０％以上の位置に設定しておくこと、
つまり基本周波数ｆｏに対して±５％の範囲で周波数を
連続変動させるのがその洗浄効果ないしは効率を考慮し
た場合には好ましい、しかしながら、必ずしもこのよう
な幅の振動レベルに限定されるものではなく、必要に応
じて低い周波数ｆｓ と高い周波数ｆｆとを基本周波＠
ｆ ｏ （５０ｋＨｚ ）の振動レベルの６０％以下
の位置に設定することもできる。
［発明の効果］
この発明に係る方法によれば、被洗浄物に照射される。
ｔｆｉ音波の川波数を所定の幅で常に連続して変動させ
ることができる。このため、負圧から正圧へ、さらには
正圧から負圧へと変化する際の各分岐点が一定しないこ
とから、被洗浄物に対して超音波応力が零となる部位も
固定せず、したがって単一の超音波振動子を使用し、し
かも被洗浄物自体を特に揺動したりしなくても洗顔ムラ
を発生させることなく精密洗浄を達成することができる
。すなわち超音波洗浄装置の構造を複雑化することなく
洗浄ムラのない精密洗浄ができるので、！Ｊ装置自体コ
ストダウンを図ることができるのみならず、保守管理の
面でも従来技術にはみられない容易性を得ることができ
る。
ることができる。このため、負圧から正圧へ、さらには
正圧から負圧へと変化する際の各分岐点が一定しないこ
とから、被洗浄物に対して超音波応力が零となる部位も
固定せず、したがって単一の超音波振動子を使用し、し
かも被洗浄物自体を特に揺動したりしなくても洗顔ムラ
を発生させることなく精密洗浄を達成することができる
。すなわち超音波洗浄装置の構造を複雑化することなく
洗浄ムラのない精密洗浄ができるので、！Ｊ装置自体コ
ストダウンを図ることができるのみならず、保守管理の
面でも従来技術にはみられない容易性を得ることができ
る。
図面中、第１図はこの発明による洗浄時の周波数の変動
状況を示す説明図、第２図はこの発明における超音波の
振動レベルと周波数との相関関係を示す説明図、第３図
は超音波振動子による基本周波数の振動波形図、第４図
は従来装置の構成図である。 １・・・洗浄槽、２・・・超音波振動子。 Ｍ・・・媒 質 第 １ 図 第２図 ｆ ｆ、 ｆ、 −→■矢 第３図 第４図
状況を示す説明図、第２図はこの発明における超音波の
振動レベルと周波数との相関関係を示す説明図、第３図
は超音波振動子による基本周波数の振動波形図、第４図
は従来装置の構成図である。 １・・・洗浄槽、２・・・超音波振動子。 Ｍ・・・媒 質 第 １ 図 第２図 ｆ ｆ、 ｆ、 −→■矢 第３図 第４図
Claims (1)
- １、洗浄槽に取付けられた超音波振動子から発生する超
音波の基本周波数に周波数変調をかけ、超音波の周波数
を所定の幅で連続変調させて被洗浄物に照射することを
特徴とする超音波洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22276984A JPS61101283A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 超音波洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22276984A JPS61101283A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 超音波洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61101283A true JPS61101283A (ja) | 1986-05-20 |
Family
ID=16787601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22276984A Pending JPS61101283A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 超音波洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61101283A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01308942A (ja) * | 1988-06-08 | 1989-12-13 | Mitsubishi Electric Corp | 固体表面付着微粒子計数装置 |
| JPH0947733A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-18 | Kokusai Denki L Tec:Kk | 超音波洗浄装置 |
| JPH09206713A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-08-12 | Furontetsuku:Kk | 洗浄方法および洗浄装置 |
| JP2010162487A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-29 | Sony Corp | 圧電振動機器システムおよび電子機器 |
| JP2013051356A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Hitachi Kokusai Denki Engineering:Kk | 超音波洗浄方法及びその装置 |
-
1984
- 1984-10-23 JP JP22276984A patent/JPS61101283A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01308942A (ja) * | 1988-06-08 | 1989-12-13 | Mitsubishi Electric Corp | 固体表面付着微粒子計数装置 |
| JPH0947733A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-18 | Kokusai Denki L Tec:Kk | 超音波洗浄装置 |
| JPH09206713A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-08-12 | Furontetsuku:Kk | 洗浄方法および洗浄装置 |
| JP2010162487A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-29 | Sony Corp | 圧電振動機器システムおよび電子機器 |
| JP2013051356A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Hitachi Kokusai Denki Engineering:Kk | 超音波洗浄方法及びその装置 |
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