JP2011255274A - 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一態様は、洗浄液23が入れられる洗浄槽21と、前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物22に超音波振動を与える第1及び第2の超音波振動子34a,34bと、前記第1の超音波振動子に高周波出力を印加する第1の超音波発振器36と、前記第2の超音波振動子に高周波出力を印加する第2の超音波発振器37と、前記第1及び第2の超音波発振器の少なくとも一方の出力を変動させて制御するコントローラ38と、を具備し、前記第1の超音波振動子から発振された第1の超音波を、前記第2の超音波振動子から発振された第2の超音波に干渉させることを特徴とする超音波洗浄装置である。
【選択図】 図1
Description
この超音波洗浄槽は、被洗浄物であるウェーハ1と、洗浄かご2と、洗浄液3と、石英製の洗浄槽4と、洗浄かご2の位置決めのためのガイド5と、超音波輻射板6と、輻射板6に取り付けられた超音波振動子7と、超音波を輻射板6から洗浄槽4に伝達する媒体8と、洗浄かご2に設けたウェーハ1の支持部11とを有している(例えば特許文献1参照)。
この超音波洗浄装置は、被洗浄物Wを洗浄するための洗浄液4で満たされる洗浄槽15と、洗浄液に超音波振動を伝播させる2個の振動子111、112と、これらの振動子に高周波電圧を印加する超音波発振器16、17とを具備する。2個の振動子111、112それぞれは輻射板19a,19bに取り付けられている。この超音波洗浄装置は、2個の振動子のうち、少なくとも1個の振動子の周波数を掃引させることにより、洗浄液内で発生したキャビテーション領域を移動させて被洗浄物を洗浄するものである(例えば特許文献2参照)。
前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物に超音波振動を与える第1及び第2の超音波振動子と、
前記第1の超音波振動子に高周波出力を印加する第1の超音波発振器と、
前記第2の超音波振動子に高周波出力を印加する第2の超音波発振器と、
前記第1及び第2の超音波発振器の少なくとも一方の出力を変動させて制御するコントローラと、
を具備し、
前記第1の超音波振動子から発振された第1の超音波を、前記第2の超音波振動子から発振された第2の超音波に干渉させることを特徴とする超音波洗浄装置である。
なお、前記干渉は、斜めから干渉することも含む。
前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物に超音波振動を与える複数の超音波振動子と、
前記複数の超音波振動子それぞれに高周波出力を印加する複数の超音波発振器と、
前記複数の超音波発振器のうち一つ以上の超音波発振器の出力を変動させて制御するコントローラと、
を具備し、
前記一つ以上の超音波発振器によって高周波出力が印加された超音波振動子から発振された超音波を、前記複数の超音波発振器のうち少なくとも一つの超音波発振器によって高周波出力が印加された超音波振動子から発振された超音波に干渉させることを特徴とする超音波洗浄装置である。
前記一つ以上の超音波発振器の出力を変動させることは、0%以上の出力から100%以下の出力に連続的に増加させるような出力変動、0%以上の出力から100%以下の出力に階段状に増加させるような出力変動、100%以下の出力から0%以上の出力に連続的に減少させるような出力変動、100%以下の出力から0%以上の出力に階段状に減少させるような出力変動、0%超の出力から100%未満の出力に瞬時に増加させるような出力変動、100%未満の出力から0%超の出力に瞬時に減少させるような出力変動のいずれか又は複数の出力変動であることも可能である。
前記被洗浄物は、一つの被洗浄物又は複数の被洗浄物であっても良い。
第1の超音波振動子によって前記被洗浄物に超音波振動を与えながら、第2の超音波振動子によって前記被洗浄物に超音波振動を与えることにより、前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、
前記第1の超音波振動子から発振された第1の超音波を、前記第2の超音波振動子から発振された第2の超音波に干渉させながら、前記第1及び第2の超音波振動子の少なくとも一方に印加される高周波出力を変動させることを特徴とする超音波洗浄方法である。
複数の超音波振動子によって前記被洗浄物に超音波振動を与えることにより、前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、
前記複数の超音波振動子のうち一つ以上の超音波振動子から発振された超音波を、前記複数の超音波振動子のうち少なくとも一つの超音波振動子から発振された超音波に干渉させながら、前記一つ以上の超音波振動子に印加される高周波出力を変動させることを特徴とする超音波洗浄方法である。
図1は、本発明の一態様に係る超音波洗浄装置の構成を示す概略図である。
超音波洗浄装置は、洗浄液23で満たされる洗浄槽21を有しており、この洗浄槽21は複数の被洗浄物22(例えば半導体ウェーハ、コンパクトディスク、ガラス基板、フラットパネルディスプレイ、薄肉ディスク又は基板など)を洗浄するバッチ処理槽である。
まず、図1に示すように、洗浄槽21内の洗浄液23に被洗浄物22を浸漬させる。詳細には、保持部25によって保持した複数の被洗浄物22を、洗浄液23で満たされた洗浄槽21内に浸漬させる。
図4(A)は、本発明の一態様に係る超音波洗浄装置の構成を模式的に示す平面図であり、図4(B)は、図4(A)に示す超音波洗浄装置の洗浄槽を示す断面図であり、図4(C)は、図4(A)に示す洗浄槽の斜視図である。
まず、図4に示すように、洗浄槽31内の洗浄液33に被洗浄物32を浸漬させる。詳細には、保持部35によって保持した一枚の被洗浄物32を、洗浄液33で満たされた洗浄槽31内に浸漬させる。
2…洗浄かご
3…洗浄液
4…洗浄槽
5…位置決めのためのガイド
6…超音波輻射板
7…超音波振動子
8…超音波を伝達する媒体
11…支持部
13…支持部の影
16,17…超音波発振器
19a,19b…輻射板
21,21a,31…洗浄槽
22,32…被洗浄物
23,33…洗浄液
24a…右側振動子(第1の超音波振動子)
24b…左側振動子(第2の超音波振動子)
25,35…保持部
26,36…第1の超音波発振器
27,37…第2の超音波発振器
28,38…コントローラ
34a…第1の超音波振動子
34b…第2の超音波振動子
34c…第3の超音波振動子
34d…第4の超音波振動子
111,112…振動子
Claims (7)
- 洗浄液が入れられる洗浄槽と、
前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物に超音波振動を与える第1及び第2の超音波振動子と、
前記第1の超音波振動子に高周波出力を印加する第1の超音波発振器と、
前記第2の超音波振動子に高周波出力を印加する第2の超音波発振器と、
前記第1及び第2の超音波発振器の少なくとも一方の出力を変動させて制御するコントローラと、
を具備し、
前記第1の超音波振動子から発振された第1の超音波を、前記第2の超音波振動子から発振された第2の超音波に干渉させることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 請求項1において、
前記出力を変動させることは、0%以上の出力から100%以下の出力に連続的に増加させるような出力変動、0%以上の出力から100%以下の出力に階段状に増加させるような出力変動、100%以下の出力から0%以上の出力に連続的に減少させるような出力変動、100%以下の出力から0%以上の出力に階段状に減少させるような出力変動、0%超の出力から100%未満の出力に瞬時に増加させるような出力変動、100%未満の出力から0%超の出力に瞬時に減少させるような出力変動のいずれか又は複数の出力変動であることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 洗浄液が入れる洗浄槽と、
前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物に超音波振動を与える複数の超音波振動子と、
前記複数の超音波振動子それぞれに高周波出力を印加する複数の超音波発振器と、
前記複数の超音波発振器のうち一つ以上の超音波発振器の出力を変動させて制御するコントローラと、
を具備し、
前記一つ以上の超音波発振器によって高周波出力が印加された超音波振動子から発振された超音波を、前記複数の超音波発振器のうち少なくとも一つの超音波発振器によって高周波出力が印加された超音波振動子から発振された超音波に干渉させることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 請求項3において、
前記一つ以上の超音波発振器の出力を変動させることは、0%以上の出力から100%以下の出力に連続的に増加させるような出力変動、0%以上の出力から100%以下の出力に階段状に増加させるような出力変動、100%以下の出力から0%以上の出力に連続的に減少させるような出力変動、100%以下の出力から0%以上の出力に階段状に減少させるような出力変動、0%超の出力から100%未満の出力に瞬時に増加させるような出力変動、100%未満の出力から0%超の出力に瞬時に減少させるような出力変動のいずれか又は複数の出力変動であることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 請求項1乃至4のいずれか一項において、
前記被洗浄物は、一つの被洗浄物又は複数の被洗浄物であることを特徴とする超音波発振器。 - 洗浄槽内の洗浄液に被洗浄物を浸漬させ、
第1の超音波振動子によって前記被洗浄物に超音波振動を与えながら、第2の超音波振動子によって前記被洗浄物に超音波振動を与えることにより、前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、
前記第1の超音波振動子から発振された第1の超音波を、前記第2の超音波振動子から発振された第2の超音波に干渉させながら、前記第1及び第2の超音波振動子の少なくとも一方に印加される高周波出力を変動させることを特徴とする超音波洗浄方法。 - 洗浄槽内の洗浄液に被洗浄物を浸漬させ、
複数の超音波振動子によって前記被洗浄物に超音波振動を与えることにより、前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、
前記複数の超音波振動子のうち一つ以上の超音波振動子から発振された超音波を、前記複数の超音波振動子のうち少なくとも一つの超音波振動子から発振された超音波に干渉させながら、前記一つ以上の超音波振動子に印加される高周波出力を変動させることを特徴とする超音波洗浄方法。
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