JPH0487675A - 超音波洗浄装置と被洗浄物保持具 - Google Patents
超音波洗浄装置と被洗浄物保持具Info
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- JPH0487675A JPH0487675A JP2199049A JP19904990A JPH0487675A JP H0487675 A JPH0487675 A JP H0487675A JP 2199049 A JP2199049 A JP 2199049A JP 19904990 A JP19904990 A JP 19904990A JP H0487675 A JPH0487675 A JP H0487675A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の属する技術分野）
本発明は、超音波洗浄装置と被洗浄物保持具に関し、特
に、液晶表示器のカラス基板や半導体製造工程で用いら
れるガラス製のフォトマスク等薄い板状の被洗浄物の超
精密洗浄を行う５００ｋＨｚ以上の超音波による超音波
洗浄装置と被洗浄物保持具に関するものである。
に、液晶表示器のカラス基板や半導体製造工程で用いら
れるガラス製のフォトマスク等薄い板状の被洗浄物の超
精密洗浄を行う５００ｋＨｚ以上の超音波による超音波
洗浄装置と被洗浄物保持具に関するものである。
（従来技術とその問題点）
液晶表示器のガラス基板やフォトマスクのガラス板は厚
さか２〜５−程度であり、０．１μｍ程度までの微細粒
子（異物）を除去する必要がある。
さか２〜５−程度であり、０．１μｍ程度までの微細粒
子（異物）を除去する必要がある。
これに適した超音波洗浄装置は、波長か短く、また、キ
ャビテーションによる損傷を生じさせないためＩ ＭＨ
ｚ程度の周波数が利用されている。即ち、一般の洗浄装
置では２６ｋＨｚか多く２０°Ｃの水中における波長は
約５６ｍｍであるが、Ｉ ＭＨｚでは波長は１．５市で
あり、洗浄液中での粒子速度や加速度か大きくキャビテ
ーションの発生もなく微細粒子の洗浄除去に適している
。
ャビテーションによる損傷を生じさせないためＩ ＭＨ
ｚ程度の周波数が利用されている。即ち、一般の洗浄装
置では２６ｋＨｚか多く２０°Ｃの水中における波長は
約５６ｍｍであるが、Ｉ ＭＨｚでは波長は１．５市で
あり、洗浄液中での粒子速度や加速度か大きくキャビテ
ーションの発生もなく微細粒子の洗浄除去に適している
。
液晶表示器やフォトマスクのカラス基板等薄い板状の被
洗浄物を洗浄する場合、板の表面と裏面を洗浄する必要
かある。超音波振動の放射方向か板の面と平行になるよ
うにすると、−度に表裏両面を洗浄することにな７り複
数の板を同時に洗浄することかできるが、洗浄効率か悪
く長時間かかることか大きい欠点である。
洗浄物を洗浄する場合、板の表面と裏面を洗浄する必要
かある。超音波振動の放射方向か板の面と平行になるよ
うにすると、−度に表裏両面を洗浄することにな７り複
数の板を同時に洗浄することかできるが、洗浄効率か悪
く長時間かかることか大きい欠点である。
洗浄効率か最も良いのは板の面に対して直角方向から超
音波振動を放射する方法である。しかし、この場合超音
波振動を受ける面は良好な洗浄か行われるが、反対面は
十分な洗浄かなされない。即ち、超音波振動の波長（板
肉の波長は５〜７市）か板の厚さ（２〜５０）に比へて
長いため、板を透過する超音波エネルギーの透過率は％
程度であり、受波面か受ける超音波エネルギーの３／４
は反射してしまう。そのため受波面の反対側の面の超音
波振動の強度か弱く両面の洗浄効果に著しい差を生ずる
ため表面と裏面とを２度に分けて洗浄しなけれはならな
い。従って、洗浄作業に時間と手間かかかりコストダウ
ンする場合の大きな問題点となっている。更に、上述の
理由から複数の板状被洗浄物を同時に洗浄することはで
きなかった。
音波振動を放射する方法である。しかし、この場合超音
波振動を受ける面は良好な洗浄か行われるが、反対面は
十分な洗浄かなされない。即ち、超音波振動の波長（板
肉の波長は５〜７市）か板の厚さ（２〜５０）に比へて
長いため、板を透過する超音波エネルギーの透過率は％
程度であり、受波面か受ける超音波エネルギーの３／４
は反射してしまう。そのため受波面の反対側の面の超音
波振動の強度か弱く両面の洗浄効果に著しい差を生ずる
ため表面と裏面とを２度に分けて洗浄しなけれはならな
い。従って、洗浄作業に時間と手間かかかりコストダウ
ンする場合の大きな問題点となっている。更に、上述の
理由から複数の板状被洗浄物を同時に洗浄することはで
きなかった。
（発明の目的）
本発明の目的は、上述の問題点をすへて解決し、−度で
板状被洗浄物の両面を効率良く洗浄し、複数の板状被洗
浄物も一度で洗浄することのできる超音波洗浄装置と被
洗浄物保持具を提供することにある。
板状被洗浄物の両面を効率良く洗浄し、複数の板状被洗
浄物も一度で洗浄することのできる超音波洗浄装置と被
洗浄物保持具を提供することにある。
（発明の構成）
本発明の超音波洗浄装置は、薄い板状の被洗浄物と洗浄
液とを収容する有底箱型洗浄槽の側面または底面に５０
０ｋＨｚ以上の超音波振動を発生する超音波振動子か配
置された超音波洗浄装置において、前記洗浄槽の前記側
面または前記底面の内側に配置される超音波振動子また
は該超音波振動子か密接して配置された前記側面または
前記底面が、前記洗浄液内を伝搬する前記超音波振動の
伝搬方向か前記被洗浄物に斜めに交叉しかつ該被洗浄物
の受波面の法線方向に対する傾斜角か該被洗浄物を透過
する前記超音波振動の振動エネルギーの透過率か著し・
；改善される角度範囲内になるように構成さねたことを
特徴とするものである。
液とを収容する有底箱型洗浄槽の側面または底面に５０
０ｋＨｚ以上の超音波振動を発生する超音波振動子か配
置された超音波洗浄装置において、前記洗浄槽の前記側
面または前記底面の内側に配置される超音波振動子また
は該超音波振動子か密接して配置された前記側面または
前記底面が、前記洗浄液内を伝搬する前記超音波振動の
伝搬方向か前記被洗浄物に斜めに交叉しかつ該被洗浄物
の受波面の法線方向に対する傾斜角か該被洗浄物を透過
する前記超音波振動の振動エネルギーの透過率か著し・
；改善される角度範囲内になるように構成さねたことを
特徴とするものである。
また、本発明の被洗浄物保持具は、方形状の底面を有し
洗浄液を収容する箱型洗浄槽の側面または底面に５００
ｋＨｚ以上の超音波振動を発生する超音波振動子か密接
して配置された超音波洗浄装置によって薄い板状の被洗
浄物を洗浄するために、外形か箱型洗浄槽の内容積より
小さく内側に前記薄い板状の被洗浄物の複数枚を互いに
並行して挿抜自在に保持するための溝を有する立方体の
枠からなり、該立方体の枠の内側の溝が、前記被洗浄物
を保持したとき前記洗浄液内を伝搬する前記超音波振動
の伝搬方向か前記被洗浄物に斜めに交叉しかつ該被洗浄
物の受波面の法線方向に対する傾斜角か該被洗浄物を透
過する前記超音波振動の振動エネルギーの透過率か著し
く改善される角度範囲内になるように構成されたことを
特徴とするものであり、また、 箱型洗浄槽の超音波振動子か取付けられた底面が傾斜を
有する超音波洗浄装置によって薄い板状の被洗浄物を洗
浄するために、外形か箱型洗浄槽の内容積より小さく内
側の相対する両側に前記薄い板状の被洗浄物の複数枚を
互いに並行して挿抜自在に保持するための溝を有し該溝
を有する片側の下方の脚部か長い立方体の枠からなり、
該立方体の枠の底部片側に、前記保持される薄い板状の
被洗浄物か水平になるように高さを調節するための高さ
調節具を備えたことを特徴とするものである。
洗浄液を収容する箱型洗浄槽の側面または底面に５００
ｋＨｚ以上の超音波振動を発生する超音波振動子か密接
して配置された超音波洗浄装置によって薄い板状の被洗
浄物を洗浄するために、外形か箱型洗浄槽の内容積より
小さく内側に前記薄い板状の被洗浄物の複数枚を互いに
並行して挿抜自在に保持するための溝を有する立方体の
枠からなり、該立方体の枠の内側の溝が、前記被洗浄物
を保持したとき前記洗浄液内を伝搬する前記超音波振動
の伝搬方向か前記被洗浄物に斜めに交叉しかつ該被洗浄
物の受波面の法線方向に対する傾斜角か該被洗浄物を透
過する前記超音波振動の振動エネルギーの透過率か著し
く改善される角度範囲内になるように構成されたことを
特徴とするものであり、また、 箱型洗浄槽の超音波振動子か取付けられた底面が傾斜を
有する超音波洗浄装置によって薄い板状の被洗浄物を洗
浄するために、外形か箱型洗浄槽の内容積より小さく内
側の相対する両側に前記薄い板状の被洗浄物の複数枚を
互いに並行して挿抜自在に保持するための溝を有し該溝
を有する片側の下方の脚部か長い立方体の枠からなり、
該立方体の枠の底部片側に、前記保持される薄い板状の
被洗浄物か水平になるように高さを調節するための高さ
調節具を備えたことを特徴とするものである。
以下図面により本発明の詳細な説明する。
第１図、第２図は本発明の詳細な説明する構造断面図と
部分断面図である。
部分断面図である。
第１図において、１は洗浄槽、２は洗浄液、３は洗浄槽
の底部に設けられた超音波振動子である。
の底部に設けられた超音波振動子である。
４は板状の被洗浄物であり、傾斜した状態で保持されて
おり、洗浄液２を振動伝達の媒体かつ洗浄液として振動
子３から振動エネルギーＶ１か放射される。破線で示し
た４′は従来の被洗浄物か水平に保持された状態を示し
ている。但し、被洗浄物の保持具は図示を省略した。板
状被洗浄物４を透過して反対側に伝達される振動エネル
ギーをｖ２とすると、振動エネルギーの透過率は■２／
ｖｘ１００（％）て表すことかてきる。本発明の原理は
、被洗浄物４を従来の４′の水平姿勢ではな（θの角度
をもたせて４の傾斜姿勢に保持することにある。
おり、洗浄液２を振動伝達の媒体かつ洗浄液として振動
子３から振動エネルギーＶ１か放射される。破線で示し
た４′は従来の被洗浄物か水平に保持された状態を示し
ている。但し、被洗浄物の保持具は図示を省略した。板
状被洗浄物４を透過して反対側に伝達される振動エネル
ギーをｖ２とすると、振動エネルギーの透過率は■２／
ｖｘ１００（％）て表すことかてきる。本発明の原理は
、被洗浄物４を従来の４′の水平姿勢ではな（θの角度
をもたせて４の傾斜姿勢に保持することにある。
このθは、振動エネルギーか受波面に直角（法線方向９
に放射されるときを基準（θ＝０）として表してあり、
これは振動子３の取付けられた底面と相対する板状被洗
浄物の面との傾斜角に相当する。
に放射されるときを基準（θ＝０）として表してあり、
これは振動子３の取付けられた底面と相対する板状被洗
浄物の面との傾斜角に相当する。
第３図は、本発明の原理を裏付ける特性図であり、入射
角（傾斜角）θに対する被洗浄物４の透過率の実測値を
示す。図において、縦軸の透過率は、被洗浄物４か存在
しないときのＶ２（＝Ｖ、）の値を例えは水中マイクロ
ホン等で測定した音圧しベルを１００％としている。板
状被洗浄物４は厚さか３ｍであり、振動数はＩ ＭＨｚ
である。図から明らかなように、従来のθ＝０のときの
透過率は約２６９６であるのに対してθ″＝２８°のと
きの透過率はほぼ１００％に近い値となっている。透過
率か１００％に近くなる傾斜角θの値は被洗浄物４の材
質によって多少異なるが、とのような材質でもほぼ】０
００ｏの透過率を示す角度のあることか実験により確か
められた。
角（傾斜角）θに対する被洗浄物４の透過率の実測値を
示す。図において、縦軸の透過率は、被洗浄物４か存在
しないときのＶ２（＝Ｖ、）の値を例えは水中マイクロ
ホン等で測定した音圧しベルを１００％としている。板
状被洗浄物４は厚さか３ｍであり、振動数はＩ ＭＨｚ
である。図から明らかなように、従来のθ＝０のときの
透過率は約２６９６であるのに対してθ″＝２８°のと
きの透過率はほぼ１００％に近い値となっている。透過
率か１００％に近くなる傾斜角θの値は被洗浄物４の材
質によって多少異なるが、とのような材質でもほぼ】０
００ｏの透過率を示す角度のあることか実験により確か
められた。
以上のような現象についてさらに詳しζ述へる。
従来の一般の超音波洗浄装置は、超音波振動子の周波数
か２０〜４０ｋＨ２であり、周波数ｆを２６ｋＨｚとす
ると洗浄液（例えは水）の中を伝達する縦波（疎密波）
の速度Ｃは１４５６＋ｎ／ｓｅｃてありその縦波の波長
λは次式で示されるように約５６ｍｍである。
か２０〜４０ｋＨ２であり、周波数ｆを２６ｋＨｚとす
ると洗浄液（例えは水）の中を伝達する縦波（疎密波）
の速度Ｃは１４５６＋ｎ／ｓｅｃてありその縦波の波長
λは次式で示されるように約５６ｍｍである。
λ＝ Ｃ／ ｆ ＝ １４５６（ｍ／５ｅｃ）／２６（
ｋＨｚ） ＝５６（ｍｍ）この場合、板状被洗浄物の肉
厚は２〜５鮒程度てあり波長λ＝５６Ｉｎ［［ｌに対し
て無視てきる位小さいため洗浄槽の底部の振動子からの
振動エネルギーの歪みの大きい疎の部分と密の部分によ
って被洗浄物に縦波（Ｐ波）と横波（Ｓ波）の振動か誘
起されて振動二ネルキーの殆とか被洗浄物の反対面側に
伝達される。しかし、洗浄対象物のミクロン級の微細な
汚れを落とすために周波数を高くして約５００ ｋＨｚ
〜Ｉ ＭＨｚにすると、洗浄液中の縦波の波長は約１．
４〜２．８ｍｍとなり被洗浄物の肉厚と同程度となるた
め、境界面の影響を大きく受けるようになり縦波や横波
の振動か誘起されず実験で求められたように振動エネル
ギーの７０〜８０Ｑ６か反射して透過率か著し：低下し
約２０〜３００Ｄの振動エネルギーしか反対側に伝達さ
れない。
ｋＨｚ） ＝５６（ｍｍ）この場合、板状被洗浄物の肉
厚は２〜５鮒程度てあり波長λ＝５６Ｉｎ［［ｌに対し
て無視てきる位小さいため洗浄槽の底部の振動子からの
振動エネルギーの歪みの大きい疎の部分と密の部分によ
って被洗浄物に縦波（Ｐ波）と横波（Ｓ波）の振動か誘
起されて振動二ネルキーの殆とか被洗浄物の反対面側に
伝達される。しかし、洗浄対象物のミクロン級の微細な
汚れを落とすために周波数を高くして約５００ ｋＨｚ
〜Ｉ ＭＨｚにすると、洗浄液中の縦波の波長は約１．
４〜２．８ｍｍとなり被洗浄物の肉厚と同程度となるた
め、境界面の影響を大きく受けるようになり縦波や横波
の振動か誘起されず実験で求められたように振動エネル
ギーの７０〜８０Ｑ６か反射して透過率か著し：低下し
約２０〜３００Ｄの振動エネルギーしか反対側に伝達さ
れない。
本発明の原理の詳細を示す第２図において、洗浄槽１の
底部と被洗浄物４とは角度θの傾斜で相対している。洗
浄液は図示を省略した。矢印は洗浄槽１の駆動面（底面
）から洗浄液中を伝達する縦波の方向を示す。被洗浄物
４を傾けることにより、Ａ１点から伝達される縦波は距
離ａにある被洗浄物４のＡ２点に入射角θて到達し、Ｂ
１点からの縦波は距離すにあるＢ２点に到達する。角度
θを加減して図のように（ｂ−ａ）か縦波の１波長λ１
となって被洗浄物４上に誘起する板波の振動の波長λ２
かＡ２とＢ２との距離に一致したとき、被洗浄物４にＬ
ａｍｂ波と呼はれる板波の振動か誘起され振動エネルギ
ーは効率良（反対側へ伝達されることになる。即ち、ｓ
ｉｎθ＝λ１／λ２と表すことかできる。このように傾
斜角（入射角）θを透過率か大きくなる角度に設定すれ
は被洗浄物４を能率良く振動させることかできる。
底部と被洗浄物４とは角度θの傾斜で相対している。洗
浄液は図示を省略した。矢印は洗浄槽１の駆動面（底面
）から洗浄液中を伝達する縦波の方向を示す。被洗浄物
４を傾けることにより、Ａ１点から伝達される縦波は距
離ａにある被洗浄物４のＡ２点に入射角θて到達し、Ｂ
１点からの縦波は距離すにあるＢ２点に到達する。角度
θを加減して図のように（ｂ−ａ）か縦波の１波長λ１
となって被洗浄物４上に誘起する板波の振動の波長λ２
かＡ２とＢ２との距離に一致したとき、被洗浄物４にＬ
ａｍｂ波と呼はれる板波の振動か誘起され振動エネルギ
ーは効率良（反対側へ伝達されることになる。即ち、ｓ
ｉｎθ＝λ１／λ２と表すことかできる。このように傾
斜角（入射角）θを透過率か大きくなる角度に設定すれ
は被洗浄物４を能率良く振動させることかできる。
このＬａｍｂ波は、板の境界面の存在によって長手方向
に導かれる被導波（ｇｕｉｄｅｄ ｗａｖｅ）の一種で
あり、Ｌａｍｂ波（板の波） 、 Ｐｏｃｈａｍｍｅｒ
−Ｃｈｒｅｅ波（棒の波）、Ｌｏｖｅ波（表面層の波）
などと呼はれる板の断面に応した特別な波である。板を
伝搬するこのような被導波は総称して板波と呼はれてい
る。
に導かれる被導波（ｇｕｉｄｅｄ ｗａｖｅ）の一種で
あり、Ｌａｍｂ波（板の波） 、 Ｐｏｃｈａｍｍｅｒ
−Ｃｈｒｅｅ波（棒の波）、Ｌｏｖｅ波（表面層の波）
などと呼はれる板の断面に応した特別な波である。板を
伝搬するこのような被導波は総称して板波と呼はれてい
る。
−例として、洗浄液を水（温度２０°Ｃ）とし周波数＝
Ｉ ＩＩＩ）ｌｚとすると、水中の音速＝ １４５６
ｍ／ｓｅｃとなるから洗浄液内の縦波の波長λ１は次式
となる。
Ｉ ＩＩＩ）ｌｚとすると、水中の音速＝ １４５６
ｍ／ｓｅｃとなるから洗浄液内の縦波の波長λ１は次式
となる。
一方、被洗浄物４か厚さ３ｍｍのガラス板の場合、板波
の音速は３１００ｍ／ｓｅｃとなるので板波の振動の波
長λ２は次式となる。
の音速は３１００ｍ／ｓｅｃとなるので板波の振動の波
長λ２は次式となる。
従って、前記のｓｉｎθ＝λ、／λ２からθを求めると
、 θ＝ｓｉｎ−’ （λ１／λ２）＝Ｓ！ｎ−’（１，
４５６／３．１）＝ｓｉｎ−’０．４７＝２８゜ となり第３図の実測値と一致する。
、 θ＝ｓｉｎ−’ （λ１／λ２）＝Ｓ！ｎ−’（１，
４５６／３．１）＝ｓｉｎ−’０．４７＝２８゜ となり第３図の実測値と一致する。
次に、本発明の実施例について説明する。
第４図〜第８図は本発明の実施例の概略を示す構造図で
ある。
ある。
第４図（Ａ）は従来の超音波洗浄槽１に板状の被洗浄物
４を複数枚、洗浄液２の中へ底面との角度かθになるよ
うに浸した状態を示す縦断面図である。第４図（Ｂ）は
、（Ａ）図の状態を保持するための本発明による板状被
洗浄物４の保持具５の第１の実施例を示す斜視図であり
、複数の板状被洗浄物４か角度θを保つように斜めに挿
抜自在に保持するための溝１０が設けられいる。角度θ
は被洗浄物４の材質により超音波振動の透過率かほぼ最
大となる角度に設定され、６はその角度θを微細調整す
るだめの調節ねし足（高さ調節具）である。前述のよう
に被洗浄物４は超音波振動の透過率かほぼ１００％に近
い角度に保持されるため複数枚の被洗浄物４を同時に、
しかも、それぞれの表裏両面か一度に十分な洗浄か行わ
れる。
４を複数枚、洗浄液２の中へ底面との角度かθになるよ
うに浸した状態を示す縦断面図である。第４図（Ｂ）は
、（Ａ）図の状態を保持するための本発明による板状被
洗浄物４の保持具５の第１の実施例を示す斜視図であり
、複数の板状被洗浄物４か角度θを保つように斜めに挿
抜自在に保持するための溝１０が設けられいる。角度θ
は被洗浄物４の材質により超音波振動の透過率かほぼ最
大となる角度に設定され、６はその角度θを微細調整す
るだめの調節ねし足（高さ調節具）である。前述のよう
に被洗浄物４は超音波振動の透過率かほぼ１００％に近
い角度に保持されるため複数枚の被洗浄物４を同時に、
しかも、それぞれの表裏両面か一度に十分な洗浄か行わ
れる。
第５図（Ａ）は本発明による超音波洗浄装置の第１の実
施例を示す縦断面図であり、洗浄槽１の振動子か配置さ
れる底面か角度θをなしている。
施例を示す縦断面図であり、洗浄槽１の振動子か配置さ
れる底面か角度θをなしている。
（Ｂ）は（Ａ）に示した洗浄槽ｌの中に被洗浄物４を水
平に保つための本発明による保持具７の第２の実施例を
示す斜視図であり、洗浄槽１の斜めの底面に設置したと
き挿抜自在の複数の被洗浄物４か水平になるように調節
ねし足（高さ調節具）８か設けられている。この保持具
７の枠の両側の一方の高さを予め下方に長くしておき、
底部のいずれか一方に高さを微細調節するための高さ調
節具８を設けてもよい。この高さ調節具８によって洗浄
液２中を伝わる超音波振動の伝搬方向か板状被洗浄物４
の面の法線方向に対して透過率か最大となる角度θにな
るようにセットされる。
平に保つための本発明による保持具７の第２の実施例を
示す斜視図であり、洗浄槽１の斜めの底面に設置したと
き挿抜自在の複数の被洗浄物４か水平になるように調節
ねし足（高さ調節具）８か設けられている。この保持具
７の枠の両側の一方の高さを予め下方に長くしておき、
底部のいずれか一方に高さを微細調節するための高さ調
節具８を設けてもよい。この高さ調節具８によって洗浄
液２中を伝わる超音波振動の伝搬方向か板状被洗浄物４
の面の法線方向に対して透過率か最大となる角度θにな
るようにセットされる。
第６図は本発明による超音波洗浄装置の第２の実施例を
示す平面図であり、洗浄槽１の振動子３を固定する側面
か角度θとなるような傾斜を有している。複数の板状被
洗浄物４は従来のウニハキャリア型の保持具（図示は省
略）で保持される。
示す平面図であり、洗浄槽１の振動子３を固定する側面
か角度θとなるような傾斜を有している。複数の板状被
洗浄物４は従来のウニハキャリア型の保持具（図示は省
略）で保持される。
第７図（Ａ）は従来の方形状底面を有する箱型洗浄槽１
の１つの側面に振動子３か固定されている超音波洗浄装
置の平面図であり、洗浄槽ｌ内に複数の板状被洗浄物４
を内壁面に対して斜めに保持した状態を示している。（
Ｂ）図は複数の板状被洗浄物４を（Ａ）図の状態に保持
するための本発明の保持具９の第３の実施例を示す斜視
図である。
の１つの側面に振動子３か固定されている超音波洗浄装
置の平面図であり、洗浄槽ｌ内に複数の板状被洗浄物４
を内壁面に対して斜めに保持した状態を示している。（
Ｂ）図は複数の板状被洗浄物４を（Ａ）図の状態に保持
するための本発明の保持具９の第３の実施例を示す斜視
図である。
この保持具９はその周辺か洗浄槽Ｉの内壁に沿ったよう
に入れたとき複数の板状被洗浄物４の洗浄面の法線方向
と洗浄液２を伝わる超音波振動の方向とか所定の角度θ
になるように溝１０により挿抜自在に保持される。
に入れたとき複数の板状被洗浄物４の洗浄面の法線方向
と洗浄液２を伝わる超音波振動の方向とか所定の角度θ
になるように溝１０により挿抜自在に保持される。
以上述へた第４図〜第７図までの実施例は、いずれも従
来被洗浄物を１枚ずつ表面と裏面を２回に分けて洗浄、
していた枚葉式洗浄方法に代わって本発明により複数枚
しかも表裏両面を同時に洗浄することのできるバッチ式
洗浄方法か実用されることとなり一挙に洗浄作業能率を
向上することかできることを明らかにするものである。
来被洗浄物を１枚ずつ表面と裏面を２回に分けて洗浄、
していた枚葉式洗浄方法に代わって本発明により複数枚
しかも表裏両面を同時に洗浄することのできるバッチ式
洗浄方法か実用されることとなり一挙に洗浄作業能率を
向上することかできることを明らかにするものである。
次に、ベルトコンベア式の流れ作業によって多数の板状
被洗浄物を連続して順次洗浄することのできる本発明の
実施例について説明する。
被洗浄物を連続して順次洗浄することのできる本発明の
実施例について説明する。
第８図は本発明による流れ作業式超音波洗浄装置の実施
例を示す平面図（Ａ）と断面図（Ｂ）である。図におい
て、１１は洗浄槽てあり、洗浄液２は洗浄槽１１の内側
に設けられた壁１２の内部に内部の洗浄液噴出口（図示
は省略する）から供給され板状の被洗浄物４の上面を浸
して壁１２から溢れ出るようになっている。
例を示す平面図（Ａ）と断面図（Ｂ）である。図におい
て、１１は洗浄槽てあり、洗浄液２は洗浄槽１１の内側
に設けられた壁１２の内部に内部の洗浄液噴出口（図示
は省略する）から供給され板状の被洗浄物４の上面を浸
して壁１２から溢れ出るようになっている。
被洗浄物４は２段に設けられたシャフト１３に固定され
たローラ１４によって上下から挟まれ、シャフト１３の
両端に固定された回転用ローラ１５か外部よりベルトで
駆動される（図示は省略した）ことにより矢印ａの方向
に洗浄されながら移動する。
たローラ１４によって上下から挟まれ、シャフト１３の
両端に固定された回転用ローラ１５か外部よりベルトで
駆動される（図示は省略した）ことにより矢印ａの方向
に洗浄されながら移動する。
洗浄槽１１の底面には投げ込み式の超音波振動子３か前
述の所定の角度θて配置されている。１６は角度θを調
節するための足部である。振動子３を振動させるための
駆動電源と接続コードは図示を省略した。この実施例の
図は洗浄槽１１を１つたけ示しであるが、実際には被洗
浄物４の進行方向（矢印ａ）に複数台連設して複数回の
洗浄を行うことにより洗浄効果を上げている。被洗浄物
４を挿入したり洗浄後取り出したりする両端の洗浄槽の
シャフト１３は挿入、取り出しか容易なように進行方向
に沿って上へ傾斜をもたせている。
述の所定の角度θて配置されている。１６は角度θを調
節するための足部である。振動子３を振動させるための
駆動電源と接続コードは図示を省略した。この実施例の
図は洗浄槽１１を１つたけ示しであるが、実際には被洗
浄物４の進行方向（矢印ａ）に複数台連設して複数回の
洗浄を行うことにより洗浄効果を上げている。被洗浄物
４を挿入したり洗浄後取り出したりする両端の洗浄槽の
シャフト１３は挿入、取り出しか容易なように進行方向
に沿って上へ傾斜をもたせている。
（発明の効果）
以上詳細に説明したように、本発明を実施することによ
り、液晶表示器のガラス基板や半導体製造工程で用いら
れるフォトマスクなとの薄い板状の被洗浄物を複数枚し
かも表裏両面を同時に超精密洗浄することかできるので
洗浄作業効果の向上。
り、液晶表示器のガラス基板や半導体製造工程で用いら
れるフォトマスクなとの薄い板状の被洗浄物を複数枚し
かも表裏両面を同時に超精密洗浄することかできるので
洗浄作業効果の向上。
コストダウンに極めて大きい効果がある。
第１図は本発明の原理の概要を示す断面図、第２図は本
発明の原理の詳細を説明する部分断面図、第３図は本発
明の原理を証明する特性図、第４図（Ａ）は本発明の洗
浄状態を示す断面図、（Ｂ）はその状態を保持する保持
具の第１の実施例を示す斜視図、第５図（Ａ）は本発明
の超音波洗浄装置の第１の実施例を示す断面図、（Ｂ）
はその保持具の第２の実施例を示す斜視図、第６図は本
発明の超音波洗浄装置の第２の実施例を示す平面図、第
７図（Ａ）は本発明の洗浄状態を示す平面図、（Ｂ）は
その保持具の第３の実施例を示す斜視図、第８図は本発
明の超音波洗浄装置の第３の実施例を示す平面図と断面
図である。 １．１１・・・洗浄槽、２・・・洗浄液、３・・・超音
波振動子、４・・・被洗浄物、５． ７． ９・・・保
持具、６８．１６・・・高さ調節具、１０・・・溝、１
２・・・壁、１３・・・シャフト、１４． １５・・・
ローラ。 第３図 θ（曳） 第２図 第４図 第５閃 弗７図 第６７ 第８図 手続補正書帽発） 平成３年１月１６
発明の原理の詳細を説明する部分断面図、第３図は本発
明の原理を証明する特性図、第４図（Ａ）は本発明の洗
浄状態を示す断面図、（Ｂ）はその状態を保持する保持
具の第１の実施例を示す斜視図、第５図（Ａ）は本発明
の超音波洗浄装置の第１の実施例を示す断面図、（Ｂ）
はその保持具の第２の実施例を示す斜視図、第６図は本
発明の超音波洗浄装置の第２の実施例を示す平面図、第
７図（Ａ）は本発明の洗浄状態を示す平面図、（Ｂ）は
その保持具の第３の実施例を示す斜視図、第８図は本発
明の超音波洗浄装置の第３の実施例を示す平面図と断面
図である。 １．１１・・・洗浄槽、２・・・洗浄液、３・・・超音
波振動子、４・・・被洗浄物、５． ７． ９・・・保
持具、６８．１６・・・高さ調節具、１０・・・溝、１
２・・・壁、１３・・・シャフト、１４． １５・・・
ローラ。 第３図 θ（曳） 第２図 第４図 第５閃 弗７図 第６７ 第８図 手続補正書帽発） 平成３年１月１６
Claims (5)
- （１）薄い板状の被洗浄物と洗浄液とを収容する有底箱
型洗浄槽の側面または底面に５００ｋＨｚ以上の超音波
振動を発生する超音波振動子が配置された超音波洗浄装
置において、 前記洗浄液内を伝搬する前記超音波振動の伝搬方向が前
記被洗浄物に斜めに交叉しかつ該被洗浄物の受波面の法
線方向に対する傾斜角が該被洗浄物を透過する前記超音
波振動の振動エネルギーの透過率が著しく改善される角
度範囲内になるように構成されたことを特徴とする超音
波洗浄装置。 - （２）薄い板状の被洗浄物と洗浄液とを収容する有底箱
型洗浄槽の側面または底面に５００ｋＨｚ以上の超音波
振動を発生する超音波振動子が配置された超音波洗浄装
置において、 前記洗浄槽の前記側面または前記底面の内側に配置され
る前記超音波振動子が、前記洗浄液内を伝搬する前記超
音波振動の伝搬方向が前記被洗浄物に斜めに交叉しかつ
該被洗浄物の受波面の法線方向に対する傾斜角が該被洗
浄物を透過する前記超音波振動の振動エネルギーの透過
率が著しく改善される角度範囲内になるように傾斜して
配置されたことを特徴とする超音波洗浄装置。 - （３）薄い板状の被洗浄物と洗浄液とを収容する有底箱
型洗浄槽の側面または底面に５００ｋＨｚ以上の超音波
振動を発生する超音波振動子が配置された超音波洗浄装
置において、 前記洗浄槽の超音波振動子が密接して配置された前記側
面または前記底面が、前記洗浄液内を伝搬する前記超音
波振動の伝搬方向が前記被洗浄物に斜めに交叉しかつ該
被洗浄物の受波面の法線方向に対する傾斜角が該被洗浄
物を透過する前記超音波振動の振動エネルギーの透過率
が著しく改善される角度範囲内になるように傾斜して構
成されたことを特徴とする超音波洗浄装置。 - （４）方形状の底面を有し洗浄液を収容する箱型洗浄槽
の側面または底面に５００ｋＨｚ以上の超音波振動を発
生する超音波振動子が密接して配置された超音波洗浄装
置によって薄い板状の被洗浄物を洗浄するために、 外形が前記箱型洗浄槽の内容積より小さく内側に前記薄
い板状の被洗浄物の複数枚を互いに並行して挿抜自在に
保持するための溝を有する立方体の枠からなり、 前記内側の溝が、前記被洗浄物を保持したとき前記洗浄
液内を伝搬する前記超音波振動の伝搬方向が前記被洗浄
物に斜めに交叉しかつ該被洗浄物の受波面の法線方向に
対する傾斜角が該被洗浄物を透過する前記超音波振動の
振動エネルギーの透過率が著しく改善される角度範囲内
になるように構成され、 前記立方体の枠の底部片側に前記被洗浄物の傾斜角を調
節するための高さ調節具を備えた超音波洗浄装置用の被
洗浄物保持具。 - （５）被洗浄物と洗浄液とを収容する有底箱型洗浄槽の
５００ｋＨｚ以上の超音波振動を発生する超音波振動子
が配置された底面が、前記洗浄液内を伝搬する前記超音
波振動の伝搬方向が前記被洗浄物に斜めに交叉しかつ該
被洗浄物の受波面の法線方向に対する傾斜角が該被洗浄
物を透過する前記超音波振動の振動エネルギーの透過率
が著しく改善される角度範囲内になるように傾斜して構
成された超音波洗浄装置によって薄い板状の被洗浄物を
洗浄するために、 外形が前記箱型洗浄槽の内容積より小さく内側の相対す
る両側に前記薄い板状の被洗浄物の複数枚を互いに並行
して挿抜自在に保持するための溝を有し、該溝を有する
片側の下方の脚部が長い立方体の枠からなり、 該立方体の枠の底部片側に、前記保持される薄い板状の
被洗浄物が水平になるように高さを調節するための高さ
調節具を備えた前記超音波洗浄装置用の被洗浄物保持具
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19904990A JPH0669550B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 超音波洗浄装置と被洗浄物保持具 |
| KR1019910001071A KR0150466B1 (ko) | 1990-01-29 | 1991-01-23 | 초음파 세정장치와 피세정물 지지구 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19904990A JPH0669550B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 超音波洗浄装置と被洗浄物保持具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0487675A true JPH0487675A (ja) | 1992-03-19 |
| JPH0669550B2 JPH0669550B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=16401263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19904990A Expired - Lifetime JPH0669550B2 (ja) | 1990-01-29 | 1990-07-30 | 超音波洗浄装置と被洗浄物保持具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0669550B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0634228A2 (de) * | 1993-05-21 | 1995-01-18 | GRUNDIG E.M.V. Elektro-Mechanische Versuchsanstalt Max Grundig GmbH & Co. KG | Anordnung zur Reinigung von Oberflächen oder Oberflächenbereichen von Unterwassergeräten |
| US7040332B2 (en) * | 2003-02-28 | 2006-05-09 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for megasonic cleaning with reflected acoustic waves |
| JP4827971B2 (ja) * | 2007-09-21 | 2011-11-30 | 三菱電機株式会社 | フレキシブル配線基板の固定構造 |
| WO2012043090A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用基板の製造方法およびその製造に用いられる洗浄装置 |
| US8327861B2 (en) | 2006-12-19 | 2012-12-11 | Lam Research Corporation | Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts |
-
1990
- 1990-07-30 JP JP19904990A patent/JPH0669550B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0634228A2 (de) * | 1993-05-21 | 1995-01-18 | GRUNDIG E.M.V. Elektro-Mechanische Versuchsanstalt Max Grundig GmbH & Co. KG | Anordnung zur Reinigung von Oberflächen oder Oberflächenbereichen von Unterwassergeräten |
| EP0634228A3 (en) * | 1993-05-21 | 1995-02-15 | Grundig Emv | Arrangement for cleaning surfaces or surface regions of submerged apparatus. |
| US7040332B2 (en) * | 2003-02-28 | 2006-05-09 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for megasonic cleaning with reflected acoustic waves |
| US8327861B2 (en) | 2006-12-19 | 2012-12-11 | Lam Research Corporation | Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts |
| JP4827971B2 (ja) * | 2007-09-21 | 2011-11-30 | 三菱電機株式会社 | フレキシブル配線基板の固定構造 |
| WO2012043090A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用基板の製造方法およびその製造に用いられる洗浄装置 |
| JPWO2012043090A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2014-02-06 | コニカミノルタ株式会社 | 情報記録媒体用基板の製造方法およびその製造に用いられる洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0669550B2 (ja) | 1994-09-07 |
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