JP3322163B2

JP3322163B2 - 超音波洗浄方法及び装置

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Publication number: JP3322163B2
Application number: JP11780297A
Authority: JP
Inventors: 教尊中曽
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1997-05-08
Filing date: 1997-05-08
Publication date: 2002-09-09
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Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、硝子基板或いはシ
リコン基板（ウエハー）等の板状の被洗浄物の洗浄方法
及び装置に係り、特に、被洗浄物の表面に付着している
極めて微小の粒子或いは化学物質等の汚染物を洗浄する
と共に、これ等の汚染物の再付着を防止し、高清浄度の
洗浄を行なうことのできる超音波洗浄方法及び装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】図１８は従来から使用されている超音波
洗浄装置の一例を示すものである。このものは、洗浄液
３を満たした容器１１内の被洗浄物４ａに超音波を印加
するものである。超音波が液体中を伝搬する際に発生す
る微小な真空の泡がある瞬間に消滅し、その際に発生す
る衝撃波によって被洗浄物４ａの表面に存在する汚染物
を除去するものであり、キャビテーションによる超音波
洗浄と呼ばれるものである。キャビテーションが高周波
では起りにくいことから、この洗浄方法は精々百ｋＨ_Z
以下の低周波で行なわれる。

【０００３】図１９は流水式の洗浄方法と呼ばれるもの
で、矢印で示す搬送方向に直線移動する被洗浄基板４ｂ
上に滝状に純水１２を照射させると共に、該純水に１Ｍ
Ｈ_Z以上の周波数の超音波を伝搬させて被洗浄基板４ｂ
に超音波エネルギーを印加して洗浄するものである。

【０００４】図２０は回転台１０上で回転する被洗浄物
の基板４ｃ上に洗浄液３を供給すると共に超音波を印加
するものである。超音波は図２１に示すように、超音波
発生源となるヘッド２内に設けられた超音波発振体１ａ
から発せられ、洗浄液３は同じくヘッド２内に導入され
て超音波と共に基板４ｃ（図２０）上に供給されるもの
である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】キャビテーション方式
によるものは、前記したように低周波洗浄しか行なえ
ず、微細な粒子の除去や化学的な汚染の除去が十分でな
い問題点を有する。また、図１９や図２０等に示した流
水式のものは、前記したように１ＭＨ_Z以上の超音波を
用いるため、キャビテーション方式に較べて微細な粒子
や化学的な汚染の除去ができる。更に、キャビテーショ
ン方式のように衝撃波による洗浄でないため、被洗浄基
板４ｂ，４ｃ等に対するダメージが少ない利点を有す
る。そのため、エレクトロニックス産業における硝子基
板やシリコンウエハーの洗浄に適するものとして使用さ
れている。然し乍ら、これ等には次のような問題点があ
る。

【０００６】図２２に示すように、洗浄液３は被洗浄物
４の表面に沿って流動するが、部分的に数ミクロン或い
はそれよりも薄い厚さの殆ど流動しない層が界面に沿っ
て存在する。このため、被洗浄物４の表面に付着してい
る汚染物７が十分に除去されない問題点がある。超音波
の印加は、被洗浄物４の表面近傍の水の層を撹乱する手
段として有効であるが、１ＭＨ_Z程度の超音波では強度
不足であり、十二分な洗浄ができない問題点がある。な
お、図２０等に示したものは、基板４ｃの回転による遠
心力の作用により洗浄液３が流動し汚染物７の除去を行
なうが、除去した汚染物が再付着する問題点を解決する
ことはできない。

【０００７】また、図示していないが、同一出願人によ
る出願として特願平８−１３７３１１号に示すように、
被洗浄物の表面にレーザビームを照射し、被洗浄物の表
面に走査干渉縞を形成することで超音波を励起し、表面
に大振幅を発生せしめて洗浄を行なう方法がある。この
ものは汚染物の除去は可能であるが、除去した汚染物の
再付着が問題となる。このため高圧気体を吹き付けては
いるが、この吹き付けにより被洗浄物の周囲に複雑な気
流が発生し、パーティクル状の汚染物の再付着を完全に
防止することができない問題点がある。

【０００８】本発明は、以上の事情に鑑みて創案された
ものであり、エレクトロニックス産業等で使用される高
精密度の基板等に対して高清浄度の洗浄が効率的にで
き、且つ除去された汚染物の再付着が少ない超音波洗浄
方法及び装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、以上の目的を
達成するために、被洗浄物に洗浄液を供給すると共に超
音波を印加し、前記被洗浄物に漏洩弾性表面波及び／又
は漏洩板波及び／又は弾性表面波及び／又は板波を励起
せしめて被洗浄物の表面に流動力を発生せしめて該表面
の汚染物を除去する超音波洗浄方法を特徴とする。更に
具体的に、前記被洗浄物及び／又は洗浄液を連続的に相
対移動させて洗浄を行なうことを特徴とし、前記超音波
の印加と共に、前記被洗浄物の表面に清浄気体を供給す
ることを特徴とする。また、前記洗浄液が超音波の発生
源とは別に又は共に供給されるものであることを特徴と
し、前記超音波が、表裏両面を有する被洗浄物の成膜又
は微細パターンのない裏面側から印加されることを特徴
とする。また、前記超音波を、前記洗浄液により前記被
洗浄物が濡れる領域の上流側から下流側に向かう方向と
６０度以内に一致する方向に向かって印加して漏洩弾性
表面波或いは漏洩板波或いは弾性表面波或いは板波を励
起することを特徴とし、前記超音波が、平行波面を有す
る超音波であることを特徴とする。また、前記漏洩弾性
表面波或いは漏洩板波が被洗浄物を伝搬する伝搬方向と
前記洗浄液を被洗浄物に供給する供給方向との交角が９
０度以内の角度に設定されることを特徴とし、直線移動
する板状の前記被洗浄物の移動方向と前記洗浄液の供給
方向との交角が９０度以上の角度に設定されることを特
徴とする。

【００１０】また、直線移動する板状の前記被洗浄物の
移動方向と前記漏洩弾性表面波或いは漏洩板波の伝搬方
向との交角が１２０度以上に設定される超音波洗浄方法
を特徴とする。また、回転する板状の前記被洗浄物に励
起された漏洩弾性表面波或いは漏洩板波或いは弾性表面
波或いは板波の伝搬する方向と前記洗浄液の移動する遠
心方向との交角が６０度以内であることを特徴とする。
なお、前記漏洩弾性波表面波が漏洩レーリ波であり、前
記漏洩板波が漏洩ラム波であり、前記弾性表面波がレー
リ波であり、前記板波がラム波である。

【００１１】また、本発明は以上の目的を達成するため
に、直線移動又は回転する板状の被洗浄物を洗浄する装
置であって、該被洗浄物に漏洩弾性表面波或いは漏洩板
波或いは弾性表面波或いは板波を励起するために超音波
を入射させる超音波発生源と、前記被洗浄物に洗浄液を
供給する洗浄液供給源と、前記被洗浄物及び／又は洗浄
液供給源および超音波発生源を相対移動させる移動手段
を設ける超音波洗浄装置を構成するものである。更に具
体的に、前記超音波発生源は、前記洗浄液供給源と一体
化され、且つ流動する洗浄液の上流側から下流側に向か
って漏洩弾性表面波或いは漏洩板波或いは表面弾性波或
いは板波が伝搬するように超音波発生源を配置すること
を特徴とし、前記洗浄液供給源の上流側には、高圧気体
供給源が設けられることを特徴とする。また、前記超音
波発生源には、洗浄液供給源及び／又は高圧気体供給源
とが一体化されることを特徴とし、前記超音波発生源
が、超音波発振体，レーザ光源又は圧電材料に簀の子状
の電極を形成してそれに高周波を印加させて超音波を発
生させる手段を利用することを特徴とする。なお、前記
漏洩弾性波表面波が漏洩レーリ波であり、前記漏洩板波
が漏洩ラム波であり、前記弾性表面波がレーリ波であ
り、前記板波がラム波である。

【００１２】物体に超音波を印加するとその表面に弾性
表面波が発生する。この弾性表面波は固体表面にエネル
ギーを集中して伝搬する振動モードの１つである。物体
が液体と接している場合には、液体にエネルギーが放出
されて伝搬され、所謂漏洩弾性表面波が生ずる。漏洩レ
ーリ波はこの漏洩弾性表面波の１つであり、レーリ波は
弾性表面波の１つである。漏洩レーリ波を励起するには
レーリ角と呼ばれる特定の入射角度で超音波を入射する
ことが必要である。一方、板材の振動モードとして漏洩
板波があり、漏洩ラム波はその１つである。ラム波は、
板材を伝搬するもので、被洗浄物や洗浄液の漏洩弾性定
数，板厚および超音波の周波数で決まる特定の入射角度
で超音波を入射することにより発生する。漏洩レーリ波
を励起するか又は漏洩ラム波を励起するかは、一般に超
音波の周波数と被洗浄物の板厚等により決められる。な
お、レーリ波は超音波の波長に対して比較的厚い被洗浄
物に対してしか励起できない。一方、ラム波は厚い材料
でも比較的安定的に励起することができる。また、漏洩
ラム波は対称モードと非対称モードの２種類のタイプに
分けられるが、両者とも被洗浄物の表裏両面に対して表
面振動を励起することができる。なお、被洗浄体に洗浄
液（液体）が表裏の一方に面接触している時は漏洩弾性
表面波や漏洩ラム波と呼び、接していない時は弾性表面
波や板波と呼ばれる。しかし本発明では、特に区別せず
に記述している。漏洩波とそうでない状態の波はその励
起する角度が多少異なるが、洗浄効果の大きい漏洩波を
励起する角度を実験的に求めるのが実際的である。

【００１３】図１３に示すように、被洗浄物４の表面に
付着している汚染物７は表面に接する洗浄液３の流速が
小さいため除去されにくい。然し乍ら、図１４に示すよ
うに、被洗浄物４に前記した漏洩弾性表面波６或いは漏
洩板波を励起することにより、被洗浄物４の表面に接す
る液体が自律的に流動する力が生じ、その水流分布も表
面近傍で大きな流速となる。このため、汚染物７が効果
的に除去される。この状態で図１５に示すように連続的
に洗浄液３を被洗浄物４の表面に供給することにより、
被洗浄物４の表面から剥離された汚染物７が新たな洗浄
液３によって流され、被洗浄物４の洗浄面に再付着する
ことが完全に防止される。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳述する。図１に示す超音波洗浄方法は、図
示のような板材の被洗浄物４の表裏面の洗浄を行なう方
法を示すものである。被洗浄物４は洗浄液槽５から垂直
に上方に向かって引き上げられて移動する。被洗浄物４
の例えば表面側には超音波発振体１を内蔵するヘッド２
が配置される。ヘッド２内には洗浄液３が導入され、ヘ
ッド２の出口側から洗浄液３が被洗浄物４側に供給さ
れ、洗浄液槽５に落下する。図１および図２に示すよう
に超音波発振体１から発生する超音波１ａは入射角度Ｔ
で入射される平面超音波である。入射角度Ｔは被洗浄物
４に例えば漏洩弾性表面波６を励起する入射角度に設定
され、この値は、洗浄液３，被洗浄物４，空気等の物理
的条件や超音波の周波数に対応して理論的に決められ
る。超音波１ａの入射により被洗浄物４には図２に示す
ように漏洩弾性表面波６が励起され、図示のように進行
する。即ち、図１に示すように本例では板状の被洗浄物
４に沿って垂直に下方に向かって伝搬される。ヘッド２
の先端と被洗浄物の表面は可能な限り接近させることで
使用する洗浄液の量を減らすことができる。図２に示す
ように、漏洩弾性表面波６の伝搬方向と洗浄液３の供給
方向は角度θ₁の交角を形成し、角度θ₁の値は９０度以
下に設定される。９０度以下に設定することにより、漏
洩弾性表面波６によって被洗浄物４から剥離された汚染
物７が漏洩弾性表面波６の伝搬方向に押し出され、洗浄
済みの被洗浄物４の表面に汚染物が再付着することを確
実に防止する。

【００１５】図３は図２の状態において、被洗浄物４を
矢印方向に移動させた場合を示すものである。被洗浄物
４の移動方向を漏洩弾性表面波６の伝搬方向と逆にする
と、洗浄液３の供給方向と被洗浄物４の移動方向との交
角θ₂は９０度以上の値に設定することが必要になる。
なお、一般に漏洩弾性表面波６の伝搬方向と被洗浄物４
の移動方向との交角θ₃は１２０度以上に設定される。
以上の角度θ₁，θ₂，θ₃の設定により、被洗浄物４は
その表裏面に励起される漏洩弾性表面波６の作用によっ
て汚染物７が除去され、漏洩弾性表面波６の伝搬方向に
向かって供給される洗浄液３の液流によって汚染物７は
伝搬方向に沿って流され、再付着が除去される。

【００１６】図５は搬送ローラ９上に搭載されて水平方
向に沿って搬送される大型の硝子基板からなる被洗浄物
４の洗浄状態を示す。所定の入射角度で超音波発振体１
から発する超音波により被洗浄物４には搬送方向とは反
対向きの漏洩弾性表面波或いは漏洩板波が発生する。一
方、洗浄液３は超音波発振体１を収納するヘッド２内か
ら超音波と共に供給される。本例の場合、洗浄液３は被
洗浄物４にほぼ垂直方向（９０度）から供給される。以
上の構造により漏洩弾性表面波等の作用で被洗浄物４か
ら剥離された汚染物は搬送方向と逆方向に流動する洗浄
液３により完全に除去される。そのため、汚染物が被洗
浄物４の洗浄面に再付着することが防止される。

【００１７】図６は図５とほぼ同一の構成のものからな
るが、超音波発振体１が収納されるヘッド２内には洗浄
液３のかわりに高圧気体８が導入され、被洗浄物４上に
噴射される。洗浄液３は高圧気体８とは別のノズルによ
り供給される。以上の構造により、漏洩弾性表面波等に
より被洗浄物４から剥離された汚染物は洗浄液３と高圧
気体８によって除去され、再付着の防止と乾燥が行われ
る。

【００１８】図７はウエハー等の被洗浄物４の上面から
洗浄液３を供給し、下方から超音波および洗浄液３を印
加および供給する構造のものからなる。本例は、特に成
膜又は微細パターンが形成された上方側（表面）の汚染
物を下方側（裏面）からの超音波照射により除去する効
果的な洗浄方法である。勿論、図７の構成に加えて上方
側及び／又は下方側から高圧気体８（図６）を供給する
ようにしてもよい。なお、基板の下面（下方）がすべて
洗浄液に満たされたうえで超音波が印加されても同様な
効果が得られるが、被洗浄体に対し搬送方向とは逆向き
に洗浄液が流されて（供給されて）いるのが望ましい。
本例は、ウエハーの表面に形成された微細パターンの損
傷を押えた洗浄であって表面の乾燥が同時になされる。
なお、洗浄液の供給は水滴で供給されてもよく、また、
内部に気泡を含んだ液を供給することで洗浄液の供給量
の節約を行うことも可能である。

【００１９】図８乃至図１０は回転台１０上で回転する
被洗浄物４を洗浄する方法を示す。被洗浄物４の表面上
には超音波発振体１から発した超音波が洗浄液３と共に
印加および供給される。この場合、入射角度Ｔを所定の
値に設定することにより図示のように放射方向（遠心方
向）に向く漏洩弾性表面波６或いは漏洩板波が発生す
る。一方、洗浄液３が供給されるが回転に伴う遠心力に
より、洗浄液３も遠心方向に流動する。一般に、図９に
模式的に示すように、漏洩弾性表面波６或いは漏洩板波
の伝搬する方向に対し洗浄液３の移動する遠心方向は角
度θ₃をなす。なお、θ₃は６０度以内に設定されるのが
望ましい。以上により、被洗浄物４から剥離した汚染物
は洗浄液３により遠心方向に流出され、再付着すること
が防止される。なお、洗浄液３および超音波１ａを供給
するヘッドは、図１０の矢印で示すように基板の回転に
同期して遠心方向に移動して洗浄を行なうことが望まし
い。

【００２０】次に、本発明の洗浄方法における実施例を
説明する。本実施例では、図１１に示すように被洗浄物
４として幅１００［ｍｍ］で厚み０．７［ｍｍ］の溶融
石英板が採用され、洗浄液３としては超純水が採用され
る。搬送方向は水平面に沿って図の右方向に移動され
る。また、超音波は上方から印加される。なお、超音波
発振体は幅１０［ｍｍ］で長さ１００［ｍｍ］の平面板
セラミック製であり、２．５ＭＨ_Zで２００［Ｗ］を印
加し超音波を出力する。なお、裏面にも超純水の洗浄液
３を供給する。上方からの超純水の供給量は１０［ｌ／
ｍｉｎ］，下方からは７［ｌ／ｍｉｎ］とした。また、
被洗浄物４の搬送速度は１［ｍ／ｍｉｎ］とした。以上
の条件において、超音波の入射角度Ｔは理論計算によっ
て求められる。その結果を図１２に示す。図１２はＴ，
ｆ，Ｒの三軸グラフである。ここでＴは入射角度
［度］，ｆは周波数［ＭＨ_Z］，Ｒは反射率である。漏
洩弾性表面波或いは漏洩板波を励起するために必要な入
射角度は、Ｒの値がゼロ又は極小になる条件から求めら
れるものであり、図示ではグラス曲面の谷で示される部
分がそれに相当する。使用する超音波を２．５ＭＨ_Zの
周波数とすると図示のようにＴは約３０［度］として求
められる。そこで、超音波発振体１は被洗浄物４の表面
に対して３０［度］の入射角度で設定し、その位置を洗
浄液の供給口よりも搬送方向の上手に設定して洗浄を行
なった。ちなみに、漏洩弾性表面波や漏洩板波について
励起するに必要な超音波の入射角度は数値計算によって
求めることができ、被洗浄体の表面の振幅や圧力変化も
得られる。その方法については弾性学により公知である
から敢えて説明はしない。また、計算で求められた入射
角度と全く等しい角度にしなくても一般の超音波発振器
は放射角に幅を持つことから数度程度外れても効果があ
る。以上により溶融石英板は高清浄に洗浄され、汚染物
の付着についてはパーティクル数を測定した結果１［μ
ｍ］以上のパーティクル状の汚染物は皆無であり、汚染
物の再付着が完全にないことが確認された。

【００２１】以上の説明では、漏洩弾性表面波或いは漏
洩板波を励起する方法として超音波発振体１を用いた
が、これに限定するものではなく、例えば、レーザ等の
エネルギービームを使用するものや圧電材料に簀の子状
の電極を形成してそれに高周波を印加して高い周波数の
超音波を発生する方法等が挙げられる。

【００２２】図１６はレーザビームを用いた具体例の１
つを示すものである。被洗浄物４の表面に周波数ω′と
ωの２つのレーザビームを照射すると、被洗浄物４の表
面に走査干渉縞が生じ、その干渉縞により周期的に熱膨
脹した縞状の力学的な歪が生ずる。これに応じて被洗浄
物４の表面に沿う漏洩弾性表面波６が生ずる。被洗浄物
４を移動手段１４により上方に引き上げ移動しながら、
図略の洗浄液を供給することにより超音波供給源を利用
した洗浄方法と同様な効果を上げることができる。

【００２３】図１７は簀の子状の電極を用いる場合の具
体例を示すものである。多数個の超音波振動子１５を間
隔Ｐで配置し、超音波振動子１５を駆動すると、傾斜角
θの超音波振動が生じ、被洗浄物側に振動エネルギーが
印加される。この場合、前記傾斜角θは超音波振動子１
５の間隔Ｐによって変る。よつて傾斜角θが前記した入
射角度Ｔに一致するように超音波振動子を配列すること
によって、単一の発振体を用いた洗浄方法とほぼ同様な
効果を上げることができる。

【００２４】

【発明の効果】

１）本発明の請求項１，７，８に記載の超音波洗浄方法
によれば、被洗浄物に洗浄液を供給すると共に超音波を
所定の入射角度で入射することにより漏洩弾性表面波或
いは漏洩板波が発生し、被洗浄物に付着していた汚染物
が剥離されると共に、剥離された汚染物が流出され被洗
浄物に汚染物が再付着することが防止される。これによ
り、高清浄度の洗浄が比較的短縮時間に行なわれる。２）本発明の請求項２，９，１０，１１，１２に記載の
超音波洗浄方法によれば、被洗浄物を所定の方向に移動
することにより、被洗浄物から除去された汚染物の再付
着を確実に防止することができる。３）本発明の請求項３に記載の超音波洗浄方法によれ
ば、被洗浄物から除去された汚染物が高圧気体により吹
き飛ばされるため、更に高い清浄度の洗浄を行なうこと
ができる。４）本発明の請求項４に記載の超音波洗浄方法によれ
ば、洗浄液を超音波と別に又はこれと共に供給すること
により、より確実な洗浄と汚染物の再付着防止を行なう
ことができる。５）本発明の請求項５に記載の超音波洗浄方法によれ
ば、超音波を被洗浄物の成膜又は微細パタンのない側か
ら印加することにより、これ等の損傷を防止し、高品質
で安定性および信頼性のある洗浄を行なうことができ
る。６）本発明の請求項６に記載の超音波洗浄方法によれ
ば、超音波を洗浄液により濡れた被洗浄物の領域より上
流側に印加することにより洗浄と乾燥が同時に行なわれ
る。７）本発明の請求項１３乃至１８に記載の超音波洗浄装
置によれば、比較的簡便な構造により被洗浄物から汚染
物を確実に除去することができると共に、除去された汚
染物を洗浄液により完全に流出することができ、再付着
の防止が確実に行なわれる効果が上げられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基本的な洗浄方法を説明するための模
式図。

【図２】入射角度Ｔの超音波の印加によって生ずる漏洩
弾性表面波の発生と伝搬を示す模式図。

【図３】超音波の入射方向と洗浄液との供給方向および
漏洩弾性表面波の伝搬方向との関係を示す模式図。

【図４】漏洩弾性表面波の伝搬方向と被洗浄物の搬送方
向との関係を説明するための模式図。

【図５】本発明の一実施形態を示す構成図。

【図６】高圧気体を供給する本発明の他の実施形態を示
す構成図。

【図７】被洗浄物の下面側から超音波を印加するように
した本発明の実施形態を示す構成図。

【図８】回転する被洗浄物における本発明の洗浄方法を
示す斜視図。

【図９】図８における主要部を示す模式図。

【図１０】図９をわかり易く示す模式図。

【図１１】本発明の一実施例を示す部分断面図。

【図１２】超音波の入射角度Ｔを求めるためのＴ・ｆ・
Ｒの三軸曲線グラフ。

【図１３】被洗浄物と流動する洗浄液との関係を示す模
式図。

【図１４】漏洩弾性表面波による汚染物の除去を示す模
式図。

【図１５】除去された汚染物の再付着の状態を示す模式
図。

【図１６】超音波発振体の替りにレーザビームを用いて
漏洩弾性表面波を発生させるための手段を示す模式図。

【図１７】簀の子状の電極を用いて漏洩弾性表面波を生
じさせるための手段を示す模式図。

【図１８】従来のキャビテーション方式の洗浄方法を示
す模式図。

【図１９】従来の流下式の洗浄方法を示す斜視図。

【図２０】被洗浄物が回転する従来の洗浄方法の１つを
示す斜視図。

【図２１】図２０に示した超音波発振体の内部構造を示
す断面図。

【図２２】従来の洗浄方法における被洗浄物と流動する
洗浄液との関係を示す模式図。

【符号の説明】

１超音波発振体２ヘッド３洗浄液４被洗浄物５洗浄液槽６漏洩弾性表面波７汚染物８高圧気体９搬送ローラ１０回転台１１容器１２純水１４移動手段１５超音波振動子

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被洗浄物に洗浄液を供給すると共に超音
波を印加し、前記被洗浄物に漏洩弾性表面波及び／又は
漏洩板波及び／又は弾性表面波及び／又は板波を励起せ
しめて被洗浄物の表面に流動力を発生せしめて該表面の
汚染物を除去することを特徴とする超音波洗浄方法。
【請求項２】前記被洗浄物及び／又は洗浄液を連続的
に相対移動させて洗浄を行なうことを特徴とする請求項
１に記載の超音波洗浄方法。
【請求項３】前記超音波の印加と共に、前記被洗浄物
の表面に清浄気体を供給することを特徴とする請求項１
又は２に記載の超音波洗浄方法。
【請求項４】前記洗浄液が超音波の発生源とは別に又
は共に供給されるものであることを特徴とする請求項１
乃至３のいずれかに記載の超音波洗浄方法。
【請求項５】前記超音波が、表裏両面を有する被洗浄
物の成膜又は微細パターンのない裏面側から印加される
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の超
音波洗浄方法。
【請求項６】前記超音波を、前記洗浄液により前記被
洗浄物が濡れる領域の上流側から下流側に向かう方向と
６０度以内に一致する方向に向かって印加して漏洩弾性
表面波或いは漏洩板波或いは弾性表面波或いは板波を励
起することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記
載の超音波洗浄方法。
【請求項７】前記超音波が、平行波面を有する超音波
であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記
載の超音波洗浄方法。
【請求項８】前記漏洩弾性表面波或いは漏洩板波が被
洗浄物を伝搬する伝搬方向と前記洗浄液を被洗浄物に供
給する供給方向との交角が９０度以内の角度に設定され
ることを特徴とする請求項１乃至７に記載の超音波洗浄
方法。
【請求項９】直線移動する板状の前記被洗浄物の移動
方向と前記洗浄液の供給方向との交角が９０度以上の角
度に設定されることを特徴とする請求項２に記載の超音
波洗浄方法。
【請求項１０】直線移動する板状の前記被洗浄物の移
動方向と前記漏洩弾性表面波或いは漏洩板波の伝搬方向
との交角が１２０度以上に設定されることを特徴とする
請求項２に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１１】回転する板状の前記被洗浄物に励起さ
れた漏洩弾性表面波或いは漏洩板波或いは弾性表面波或
いは板波の伝搬する方向と前記洗浄液の移動する遠心方
向との交角が６０度以内であることを特徴とする請求項
２に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１２】前記漏洩弾性波表面波が漏洩レーリ波
であり、前記漏洩板波が漏洩ラム波であり、前記弾性表
面波がレーリ波であり、前記板波がラム波であることを
特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載の超音波
洗浄方法。
【請求項１３】直線移動又は回転する板状の被洗浄物
を洗浄する装置であって、該被洗浄物に漏洩弾性表面波
或いは漏洩板波或いは弾性表面波或いは板波を励起する
ために超音波を入射させる超音波発生源と、前記被洗浄
物に洗浄液を供給する洗浄液供給源と、前記被洗浄物及
び／又は洗浄液供給源および超音波発生源を相対移動さ
せる移動手段を設けることを特徴とする超音波洗浄装
置。
【請求項１４】前記超音波発生源は、前記洗浄液供給
源と一体化され、且つ流動する洗浄液の上流側から下流
側に向かって漏洩弾性表面波或いは漏洩板波或いは表面
弾性波或いは板波が伝搬するように超音波発生源を配置
することを特徴とする請求項１３に記載の超音波洗浄装
置。
【請求項１５】前記洗浄液供給源の上流側には、高圧
気体供給源が設けられることを特徴とする請求項１３又
は１４に記載の超音波洗浄装置。
【請求項１６】前記超音波発生源には、洗浄液供給源
及び／又は高圧気体供給源とが一体化されることを特徴
とする請求項１３及び１５に記載の超音波洗浄装置。
【請求項１７】前記超音波発生源が、超音波発振体，
レーザ光源又は圧電材料に簀の子状の電極を形成してそ
れに高周波を印加させて超音波を発生させる手段を利用
したものである請求項１３乃至１６のいずれかに記載の
超音波洗浄装置。
【請求項１８】前記漏洩弾性波表面波が漏洩レーリ波
であり、前記漏洩板波が漏洩ラム波であり、前記弾性表
面波がレーリ波であり、前記板波がラム波であることを
特徴とする請求項１３乃至１７のいずれかに記載の超音
波洗浄装置。