JP3103774B2 - 超音波洗浄方法およびその洗浄装置 - Google Patents

超音波洗浄方法およびその洗浄装置

Info

Publication number
JP3103774B2
JP3103774B2 JP08246158A JP24615896A JP3103774B2 JP 3103774 B2 JP3103774 B2 JP 3103774B2 JP 08246158 A JP08246158 A JP 08246158A JP 24615896 A JP24615896 A JP 24615896A JP 3103774 B2 JP3103774 B2 JP 3103774B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
cleaning
cleaned
ultrasonic
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP08246158A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09321010A (ja
Inventor
伸樹 松崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Mechatronics Corp filed Critical Shibaura Mechatronics Corp
Priority to JP08246158A priority Critical patent/JP3103774B2/ja
Publication of JPH09321010A publication Critical patent/JPH09321010A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3103774B2 publication Critical patent/JP3103774B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は被洗浄物を超音波
振動が付与された洗浄液によって洗浄するための超音波
洗浄方法およびその洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば液晶製造装置や半導体製造装置
には、被洗浄物としての液晶用ガラス基板や半導体ウエ
ハを高い清浄度で洗浄する工程がある。このような被洗
浄物を洗浄する方式としては、洗浄液中に複数枚の被洗
浄物を浸漬するデイップ方式や被洗浄物に向けて洗浄液
を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では
高い清浄度が得られるとともに、コスト的に有利な枚葉
方式が採用されることが多くなってきている。
【0003】枚葉方式の1つとして被洗浄物に噴射され
る洗浄液に超音波振動を付与し、その振動作用によって
上記被洗浄物から微粒子を効率よく除去するようにした
洗浄方式が実用化されている。
【0004】洗浄液に超音波振動を付与する洗浄方式に
おいて、従来は20〜50kHz程度の超音波が用いられて
いたが、最近では600 〜2000kHz程度の極超音波帯域
の音波を用いる超音波洗浄装置が開発されている。
【0005】超音波振動が付与された洗浄液を被洗浄物
に噴射すると、その超音波振動の作用によって被洗浄物
に付着した微粒子の結合力が低下するため、超音波振動
を付与しない場合に比べて洗浄効果を向上させることが
できる。
【0006】従来、上記超音波洗浄装置は、図7に示す
ように紙面に対して直交する方向に細長い装置本体1を
有する。この装置本体1には本体1の長手方向に沿う空
間部2が上下方向に貫通して形成されている。上記空間
部2は上端側から下端側にゆくにつれて狭幅となるテ−
パ状に形成されていて、下端は装置本体1の下面に開口
したノズル口3となっている。
【0007】上記空間部2の上端開口はシ−ル材4を介
してタンタルなどの金属板からなる振動板5で閉塞され
ている。この振動板5の上面には上記空間部2の上端開
口と対応する部位に沿って細長い矩形状の複数の超音波
振動子6が取着されている。この超音波振動子6は図示
し内超音波発信器によって駆動されるようになってい
る。それによって、超音波振動子6は超音波振動するか
ら、その超音波振動によって上記振動板5も振動する。
【0008】上記装置本体1の上記空間部2の両側には
それぞれ長手方向に沿って供給路7が貫通して形成され
ている。一対の供給路7にはその両端にそれぞれ図示し
ない洗浄液の供給管が接続され、それら供給管から洗浄
液が上記空間部2に供給されるようになっている。
【0009】上記空間部2に供給された洗浄液は振動板
5を介して上記超音波振動子6によって超音波振動が付
与され、上記ノズル口3から被洗浄物に向けて噴射す
る。超音波振動が付与された洗浄液が被洗浄物に衝突す
ると、この被洗浄物にも超音波振動が付与されるから、
その超音波振動によって被洗浄物に付着した微粒子が遊
離し、除去されることになる。
【0010】ところで、このような従来構造によると、
上記ノズル口3から洗浄液を常時噴出させなければなら
ず、しかもその量は液晶用ガラス基板などに超音波振動
を確実に伝達できる量でなければならないから、その洗
浄液の使用量が非常に多くなるということがあった。
【0011】被洗浄物が液晶用ガラス基板や半導体ウエ
ハのように高い清浄度が要求される場合、洗浄液として
は純水が用いられる。純水は高価であるため、洗浄時の
ランンニングコストが増大するということがあった。
【0012】また、装置本体1に形成された空間部2の
上部に振動板5を設け、下部にノズル口3を設け、洗浄
液を下方に向かって噴出させる構成であると、洗浄液に
超音波振動を付与することで発生する気泡(洗浄液に含
まれる気体が気泡となる。)が上記空間部2を上昇して
上記振動板5の下面に付着し、除々に成長する。その気
泡によって、振動板5には洗浄液が接触しない部分がで
きるから、その部分が、いわゆる空だき状態で超音波振
動することで温度上昇し、振動板5の変形や損傷を招く
原因となることがあった。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は洗
浄液の使用量が多くなるため、洗浄時のランニングコス
トの増大を招くということがあったり、振動板の下面に
気泡が付着し易いため、その気泡によって空だき状態と
なり、振動板の熱変形や損傷を招くなどのことがあっ
た。
【0014】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、洗浄液の使用量を減少さ
せることができるとともに、振動板に気泡が付着するこ
とがないようにした超音波洗浄方法およびその洗浄装置
を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、所定
方向に搬送される被洗浄物を洗浄するための洗浄方法に
おいて、上面が開口した発振容器内に供給された洗浄液
に振動板を介して超音波振動子から発振される超音波振
動を付与することで、その洗浄液を上記発振容器内の上
記洗浄液の水平面上から押し上げ、押し上げられた洗浄
液を上記被洗浄物の下面に接触させるとともに、上記超
音波振動の進行波を、所定方向に搬送される上記被洗浄
物の板面に対して傾斜しかつ被洗浄物からの反射波が上
記振動板に干渉しない角度で入射させることを特徴とす
る。
【0016】
【0017】請求項2の発明は、所定方向に搬送される
被洗浄物を洗浄するための洗浄装置において、上面が開
口し内部に洗浄液が供給される発振容器と、この発振容
器の底部に設けられ内部に供給された上記洗浄液に振動
板を介して超音波振動を付与する超音波振動子とを具備
し、上記発振容器は、超音波振動が付与されて発振容器
内の上記洗浄液の水平面上から押し上げられる上記洗浄
液が上記被洗浄物の下面に接触する状態で配置され、
記振動板を介して上記超音波振動子から発振される超音
波振動の進行波は、所定方向に搬送される上記被洗浄物
の板面に対して傾斜しかつ被洗浄物からの反射波が上記
振動板に干渉しない角度で入射する構成であることを特
徴とする。
【0018】
【0019】請求項3の発明は、請求項2の発明におい
て、上記被洗浄物の上面側には、この上面に洗浄液を供
給するノズル体が配置されていることを特徴とする。
【0020】請求項4の発明は、請求項2または請求項
3の発明において、上記発振容器には、洗浄液をその底
部から供給し上面開口からオ−バフロ−させる供給管が
接続されていることを特徴とする。
【0021】
【0022】
【0023】
【0024】請求項1と請求項2の発明は、振動板を介
して上記超音波振動子からの超音波振動の進行波が被洗
浄物の板面に対して傾斜させかつ被洗浄物からの反射波
が振動板に干渉しない角度で入射させることで、この進
行波が上記被洗浄物から反射する反射波と干渉して減衰
したり、反射波が振動板に作用してこの振動板の振動を
減衰させるなどのことが防止される。
【0025】請求項3の発明は、被洗浄物の上面にノズ
ル体から洗浄液を供給することで、超音波振動が付与さ
れた洗浄液の振動が被洗浄物に伝播されることで、その
上面に付着した微粒子が遊離され、ついで上記ノズル体
からの洗浄液によって被洗浄物の上面から微粒子が確実
に除去される。請求項4の発明は、洗浄液が発振容器か
らオ−バフロ−させられることで、発振容器内を浮遊す
る微粒子をその内部から流出させることができる。
【0026】
【発明の実施形態】以下、この発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図1と図2はこの発明の第1の実施
形態を示し、図1に示すこの発明の洗浄装置は外底面に
脚体10が設けられた断面矩形状の発振容器11を備え
ている。この発振容器11は上面が開口した有底直方体
に形成されていて、その内底部の幅方向両側部には仕切
り壁12によって一対の供給空間部13が区画形成され
ている。
【0027】各供給空間部13には純水などの洗浄液L
を供給する供給管14の一端がそれぞれ接続されてい
る。この供給管14の他端は図示しない上記洗浄液Lの
供給源に連通している。上記供給空間部13を区画した
仕切り壁12には複数の通孔12aが形成されている。
したがって、上記供給管14から上記供給空間部13に
供給された洗浄液Lは上記通孔12aから発振容器11
内へ供給されるようになっている。
【0028】上記供給管14から発振容器11内へは所
定量の洗浄液Lが連続して供給される。それによって、
洗浄液Lは上記発振容器11の上面開口11aからオ−
バフロ−する。
【0029】上記発振容器11の底部の幅方向中央部分
には、開口部15がその長手方向に沿って形成されてい
る。この開口部15はシ−ル材16aを介して振動板1
6によって液密に閉塞されている。この振動板16の下
面には超音波振動子17が接合固定されていて、この振
動子17は超音波発振器18により駆動されるようにな
っている。振動子17が超音波振動すると振動板16も
超音波振動するから、その超音波振動が振動板16の上
面側の洗浄液Lに伝播される。
【0030】発振容器11の幅方向中央部分において、
上記振動板16から洗浄液Lに伝播される超音波振動が
ある程度の強度を有すると、図1に示すように上記振動
板16上に位置する洗浄液Lを洗浄液Lの水平面から上
方へ押し上げるキャピラリ−波Wが発生する。つまり、
キャピラリ−波Wによって発振容器11の幅方向中央部
分において、その長手方向ほぼ全長にわたり洗浄液Lが
上記発振容器11内の洗浄液Lの水平面から所定の高さ
で押し上げられることになる。
【0031】上記構成の発振容器11は、図2に示すよ
うに搬送機構21によって搬送される被洗浄物としての
液晶用ガラス基板22の下面側に配置される。上記搬送
機構21は回転駆動されるとともに軸線を平行にして所
定間隔で配置された複数のロ−ラ23からなる。上記発
振容器11は隣り合う一対のロ−ラ23間に配置され
る。
【0032】つまり、発振容器11は、その上面開口1
1aの長手方向を液晶用ガラス基板22の搬送方向に対
して直交させるとともに、キャピラリ−波Wによって押
し上げれた洗浄液Lが搬送される液晶用ガラス基板22
の下面に接触する状態で配設されている。この発振容器
11の長手方向の寸法は、上記液晶用ガラス基板22の
幅寸法よりも大きく設定されている。それによって、キ
ャピラリ−波Wによって押し上げれた洗浄液Lは液晶用
ガラス基板22の幅方向全長に接触することになる。
【0033】上記搬送機構21によって搬送される液晶
用アラス基板22の上面側にはノズル体24が配置され
ている。このノズル体24からは上記液晶用ガラス基板
22の上面に向けて洗浄液Lが噴射されるようになって
いる。
【0034】つぎに、上記構成の洗浄装置の作用につい
て説明する。発振容器11に洗浄液Lを供給するととも
に超音波振動子17を超音波発振器18によって駆動す
ることで、発振容器11内の洗浄液Lに超音波振動を付
与する。それによって、発振容器11内の洗浄液Lの水
平面上の幅方向中央部分にはキャピラ−リ波Wが発生
し、そのキャピラリ−波Wによって内部の洗浄液Lがそ
の水平面上よりも上方へ押し上げられる。
【0035】洗浄液Lがその水平面上よりも上方へ押し
上げられると、その洗浄液Lは搬送機構21によって搬
送される液晶用ガラス基板22の下面の幅方向全長に接
触する。洗浄液Lには超音波振動が付与されているか
ら、その超音波振動が洗浄液Lから液晶用ガラス基板2
2に伝播される。
【0036】それによって、超音波振動の大部分は洗浄
液Lを通じて液晶用ガラス基板22を透過し、その上面
に付着した微粒子に超音波振動を付与するから、液晶用
ガラス基板22の洗浄液Lが接触する下面側に付着した
微粒子は勿論のこと、上面側に付着した微粒子も遊離す
る。液晶用ガラス基板22の下面側から遊離した微粒子
はその下面に接触する洗浄液Lによって除去され、上面
側から遊離した微粒子はその上面側にノズル体24によ
って噴射される洗浄液Lによって除去される。そのた
め、液晶用ガラス基板22はその上下両面が洗浄される
ことになる。
【0037】液晶用ガラス基板22の上面側にノズル体
24によって洗浄液Lを噴射しなくとも、下面側に接触
する洗浄液Lによって超音波振動が上面側にも付与され
るから、液晶用ガラス基板22の上面側に付着した微粒
子は遊離するとともに、この液晶用ガラス基板22が振
動することでその上面を移動して落下する。
【0038】したがって、ノズル体24から洗浄液Lを
噴射しなくとも、その下面だけでなく、上面も洗浄する
ことができるが、洗浄液Lを噴射させた方が洗浄効率を
高めることができる。洗浄液Lにかわり、ナイフエッジ
によって液晶用ガラス基板22の上面にエア−を吹き付
け、その上面から遊離した微粒子を除去するようにして
もよい。
【0039】超音波振動の大部分が液晶用ガラス基板2
2を透過してその透過する超音波振動が液晶用ガラス基
板22の上面に付着した微粒子に作用することで、液晶
用ガラス基板22をあまり振動させずに微粒子を除去す
ることができる。
【0040】そのため、液晶用ガラス基板22が搬送機
構21上で振動すると、損傷する虞があるが、超音波振
動の大部分が液晶用ガラス基板22を透過することで、
洗浄時に液晶用ガラス基板22を振動させて損傷するの
を防止できる。
【0041】液晶用ガラス基板22の下面および上面か
ら除去された微粒子は発振容器11内に落下し、その内
部で浮遊して液晶用ガラス基板22の下面に再付着する
虞がある。しかしながら、上記発振容器11内には供給
管14から洗浄液Lが連続して供給されることで、その
上面開口11aからオ−バフロ−させている。そのた
め、発振容器11内に落下した微粒子はオ−バフロ−す
る洗浄液Lとともに流出するから、液晶用ガラス基板2
2に再付着するのが防止される。
【0042】しかも、発振容器11の上面開口11aか
ら流出させる洗浄液Lの量は、その発振容器11内を浮
遊する微粒子をオ−バフロ−させるだけの量でよいか
ら、わずかですみ、さらにはノズル体24によって液晶
用ガラス基板22の上面に噴射する洗浄液Lも、その上
面に浮遊した微粒子を除去できるだけの量でよいから、
超音波振動が付与された洗浄液Lを液晶用ガラス基板2
2の上下両面に噴射させて洗浄する場合に比べて十分に
少なくすることができる。
【0043】以上のことから、従来に比べて少ない洗浄
液Lの使用量で液晶用ガラス基板22の上下両面を洗浄
できるから、ランニングコストの低減が計れる。発明者
は、図3(a)〜(d)に示す種々の洗浄形態での洗浄
液Lの音圧を音圧測定器30を用いて測定した。つま
り、図3(a)は図7に示す従来の洗浄装置を用いた場
合で、装置本体1のノズル口3を下方に向け、そこから
噴出させた洗浄液Lの音圧を測定した。その場合の音圧
と超音波振動子17を駆動する超音波発振器18の出力
との関係は図4の曲線Aに示す。
【0044】図3(b)は図3(a)に示す装置本体1
のノズル口3を上方に向け、そこから噴出させる洗浄液
Lの音圧を測定した場合で、その場合の音圧と超音波振
動子17を駆動する超音波発振器18の出力との関係は
図4の曲線Bに示す。
【0045】図3(c)はこの発明の発振容器11を用
い、キャピラリ−波Wによって上方に押し上げられた洗
浄液Lに、上記発振容器11の上面開口に傾斜して保持
された液晶用ガラス基板22の下面を接触させ、上面に
水を流しながらその上面側における音圧を測定した場合
で、その場合の音圧と超音波振動子17を駆動する超音
波発振器18の出力との関係は図4の曲線Cに示す。
【0046】図3(d)はこの発明の発振容器11にお
いて、キャピラリ−波Wによって上方に押し上げられた
洗浄液Lの音圧を測定した場合で、その場合の音圧と超
音波振動子17を駆動する超音波発信器18の出力との
関係は図4の曲線Dに示す。
【0047】以上の測定結果より、曲線Dで示す図3
(d)の場合の音圧が最も高く、しかも図3(c)の測
定結果として曲線Cで示す液晶用ガラス基板22の上面
側においても、図3(a)に示す従来の場合とほとんど
変わらない音圧を測定することができた。
【0048】以上の実験結果から、キャピラリ−波Wに
よって押し上げられた洗浄液Lに液晶用ガラス基板22
の下面を接触させれば、その下面だけでなく上面にも音
圧が発生し、それによって被洗浄物の上下両面が超音波
振動によって洗浄できることが確認された。
【0049】図5と図6はそれぞれこの発明の他の実施
形態を示す。なお、上記第1の実施形態と同一部分には
同一記号を付して説明を省略する。図5はこの発明の第
2の実施形態を示し、この実施形態は発振容器11の外
底部に設けられる脚体10の長さを異ならせることで、
上記発振容器11を所定の傾斜角度θ、たとえば5度以
上の角度で傾斜させたものである。
【0050】なお、傾斜角度θは、反射波W2 が進行波
1 や振動板16と干渉せず、かつ発振容器11の一方
の側端部がキャピラリ波Wによって押し上げられた洗浄
液Lが液晶用ガラス基板22の下面に接触しているとき
に、液晶用ガラス基板22の下面に接触しない位置に保
持する傾斜角度とする。
【0051】それによって、振動板16から発振される
超音波振動の進行波W1 は垂直方向に対して角度θで傾
斜して進行するから、搬送機構21によって水平に搬送
される液晶用ガラス基板22の下面に角度θで傾斜して
入射する。
【0052】進行波W1 は大部分が上記液晶用ガラス基
板22を透過するが、その一部は反射して反射波W2
なる。反射波W2 は液晶用ガラス基板22の下面で、こ
の板面への入射角度θと同じ角度で反射し、進行波W1
と干渉することなく反射方向へ進行するから、上記進行
1 が反射波W2 によって減衰されることがない。
【0053】しかも、反射波W2 が進行波W1 に対して
2θの角度で反射していることで、上記反射波W2 が振
動板16に干渉するのを防止することができる。つま
り、反射波W2 が振動板16に干渉しないよう、進行波
1 の傾斜角度θを設定すれば、反射波W2 によって振
動板16の振動が減衰されることもない。
【0054】したがって、発振容器11を所定の傾斜角
度θで傾斜させることで、液晶用ガラス基板22で反射
した反射波W2 が進行波W1 や振動板16と干渉してこ
れらの振動を減衰させるのを防止できるから、上記液晶
用ガラス基板22に対する洗浄を効率よく行なうことが
できる。
【0055】図6はこの発明の第3の実施形態を示す。
この実施形態は振動板16からの進行波W1 を傾斜角度
θで液晶用ガラス基板22に入射させるために、発振容
器11は第1の実施形態と同様、進行波W1 が垂直に進
行するよう設置し、それに代わり、搬送機構21によっ
て搬送させれる液晶用ガラス基板22を水平状態から傾
斜角度θで傾斜させて搬送するようにした。このような
構成であっても、第2の実施形態と同様、反射波W2
進行波W1や振動板16と干渉するのを防止することが
できる。
【0056】
【発明の効果】以上述べたように請求項1と請求項2の
発明によれば、上面が開口した発振容器の底部に振動板
を設け、この発振容器に供給される洗浄液を上記超音波
振動子を駆動して上記振動板を超音波振動させることで
洗浄液を上記発振容器内の洗浄液の水平面上から押し上
げ、その押し上げられた洗浄液に被洗浄物を接触させる
とともに、振動板を介して超音波振動子からの超音波振
動の進行波を被洗浄物の板面に対して傾斜させかつ被洗
浄物からの反射波が振動板に干渉しない角度で傾斜させ
るようにした。
【0057】そのため、超音波振動が付与された洗浄液
を被洗浄物に向けて噴射して洗浄する場合に比べて洗浄
液の使用量を十分に少なくすることができるから、ラン
ニングコストの低減を計ることができる。
【0058】しかも、上記超音波振動子を駆動すること
で振動板を介して超音波振動が付与された洗浄液から気
泡が発生しても、その気泡は発振容器を上昇してその上
面開口から大気中に放散されるため、従来のように振動
板に付着して成長し、その振動板の温度上昇を招いた
り、熱損を招くなどのことがない。
【0059】
【0060】さらに、振動板を介して超音波振動子から
の進行波が、被洗浄物で反射することで発生する反射波
と干渉したり、反射波が振動板と干渉するのを防止でき
るから、被洗浄物に入射する超音波振動が減衰されて洗
浄効率が低下するのを防止できる。
【0061】請求項3の発明によれば、被洗浄物の上面
側にノズル体によって洗浄液を供給したことで、被洗浄
物の上面側で浮遊する微粒子を確実に除去することがで
きるから、その上面の洗浄効果を高めることができる。
【0062】請求項4の発明によれば、発振容器の上面
開口から洗浄液をオ−バフロ−させるようにしたから、
上記発振容器内に浮遊する微粒子を除去することができ
る。それによって、被洗浄物の下面から除去されて発振
容器内に落下した微粒子が上記被洗浄物の下面に再付着
するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態を示す発振容器の断
面図。
【図2】同じく搬送される液晶用ガラス基板の下面側に
発振容器を配置した状態の構成図。
【図3】(a)〜(d)はそれぞれ洗浄液の音圧を測定
する形態の説明図。
【図4】同じく図3(a)〜(d)の測定結果を示すグ
ラフ。
【図5】この発明の第2の実施形態を示す発振容器と被
洗浄物との関係の説明図。
【図6】この発明の第3の実施形態を示す発振容器と被
洗浄物との関係の説明図。
【図7】従来の超音波洗浄装置の断面図。
【符号の説明】
11…発振容器 14…供給管 16…振動板 17…超音波振動子 22…液晶用ガラス基板(被洗浄物) 24…ノズル体

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定方向に搬送される被洗浄物を洗浄す
    るための洗浄方法において、 上面が開口した発振容器内に供給された洗浄液に振動板
    を介して超音波振動子から発振される超音波振動を付与
    することで、その洗浄液を上記発振容器内の上記洗浄液
    の水平面上から押し上げ、押し上げられた洗浄液を上記
    被洗浄物の下面に接触させるとともに、上記超音波振動
    の進行波を、所定方向に搬送される上記被洗浄物の板面
    に対して傾斜しかつ被洗浄物からの反射波が上記振動板
    に干渉しない角度で入射させることを特徴とする洗浄方
    法。
  2. 【請求項2】 所定方向に搬送される被洗浄物を洗浄す
    るための洗浄装置において、 上面が開口し内部に洗浄液が供給される発振容器と、 この発振容器の底部に設けられ内部に供給された上記洗
    浄液に振動板を介して超音波振動を付与する超音波振動
    子とを具備し、 上記発振容器は、超音波振動が付与されて発振容器内の
    上記洗浄液の水平面上から押し上げられる上記洗浄液が
    上記被洗浄物の下面に接触する状態で配置され、上記振
    動板を介して上記超音波振動子から発振される超音波振
    動の進行波は、所定方向に搬送される上記被洗浄物の板
    面に対して傾斜しかつ被洗浄物からの反射波が上記振動
    板に干渉しない角度で入射する構成であることを特徴と
    する洗浄装置。
  3. 【請求項3】 上記被洗浄物の上面側には、この上面に
    洗浄液を供給するノズル体が配置されていることを特徴
    とする請求項2記載の洗浄装置。
  4. 【請求項4】 上記発振容器には、洗浄液をその底部か
    ら供給し上面開口からオ−バフロ−させる供給管が接続
    されていることを特徴とする請求項2または請求項3
    記載の洗浄装置。
JP08246158A 1996-03-29 1996-09-18 超音波洗浄方法およびその洗浄装置 Expired - Fee Related JP3103774B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08246158A JP3103774B2 (ja) 1996-03-29 1996-09-18 超音波洗浄方法およびその洗浄装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8-76100 1996-03-29
JP7610096 1996-03-29
JP08246158A JP3103774B2 (ja) 1996-03-29 1996-09-18 超音波洗浄方法およびその洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09321010A JPH09321010A (ja) 1997-12-12
JP3103774B2 true JP3103774B2 (ja) 2000-10-30

Family

ID=26417247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP08246158A Expired - Fee Related JP3103774B2 (ja) 1996-03-29 1996-09-18 超音波洗浄方法およびその洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3103774B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW464970B (en) 1999-04-21 2001-11-21 Sharp Kk Ultrasonic cleaning device and resist-stripping device
US7943526B2 (en) 2004-03-22 2011-05-17 Rena Sondermaschinen Gmbh Process for the wet-chemical treatment of one side of silicon wafers
JP5734394B2 (ja) * 2013-11-11 2015-06-17 株式会社カイジョー 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法
CN107755353A (zh) * 2017-10-11 2018-03-06 珠海格力电器股份有限公司 一种过滤部件的清洗装置
KR102616585B1 (ko) * 2022-04-01 2023-12-21 세메스 주식회사 기판처리장치 및 기판처리방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09321010A (ja) 1997-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI464019B (zh) Ultrasonic cleaning device and ultrasonic cleaning method
JP3948960B2 (ja) 超音波洗浄装置
JPH05102119A (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
KR101429483B1 (ko) 세정 장치 및 세정 방법
JP6763843B2 (ja) 超音波洗浄装置及び超音波洗浄システム
JPH0855827A (ja) ウェーハカセットおよびこれを使用した洗浄装置
JP3103774B2 (ja) 超音波洗浄方法およびその洗浄装置
JPH10296200A (ja) 超音波洗浄方法およびその洗浄装置
JP4036815B2 (ja) 洗浄装置
KR100952087B1 (ko) 패터닝된 기판의 메가소닉 세정을 위한 방법 및 장치
JP3322163B2 (ja) 超音波洗浄方法及び装置
JP2004190043A (ja) 基板製造装置および製造方法
JP3839527B2 (ja) 超音波処理方法および超音波処理装置
JP2001340820A (ja) 超音波洗浄装置
JP4144201B2 (ja) ウエット洗浄処理装置
JPH06106144A (ja) 超音波洗浄方式及び超音波洗浄装置
JPH07263397A (ja) 超音波洗浄方法
JP2002086068A (ja) 超音波振動ユニット、超音波洗浄装置、および超音波洗浄方法
JPH0487675A (ja) 超音波洗浄装置と被洗浄物保持具
JP2001327900A (ja) 液体噴射装置
JP2006198525A (ja) 基板洗浄装置
JP3808951B2 (ja) 超音波振動装置およびそれを用いた超音波洗浄装置
JP2887114B2 (ja) 超音波洗浄装置
JP3665153B2 (ja) 超音波洗浄装置
JP2718648B2 (ja) 超音波洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080825

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080825

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090825

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090825

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100825

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110825

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110825

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120825

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120825

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130825

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees