JP4263536B2 - 超音波基板洗浄装置 - Google Patents

超音波基板洗浄装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4263536B2
JP4263536B2 JP2003155688A JP2003155688A JP4263536B2 JP 4263536 B2 JP4263536 B2 JP 4263536B2 JP 2003155688 A JP2003155688 A JP 2003155688A JP 2003155688 A JP2003155688 A JP 2003155688A JP 4263536 B2 JP4263536 B2 JP 4263536B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
wedge
ultrasonic
cleaned
shaped member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003155688A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004356592A (ja
Inventor
年昭 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honda Electronics Co Ltd
Original Assignee
Honda Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Honda Electronics Co Ltd filed Critical Honda Electronics Co Ltd
Priority to JP2003155688A priority Critical patent/JP4263536B2/ja
Publication of JP2004356592A publication Critical patent/JP2004356592A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4263536B2 publication Critical patent/JP4263536B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は、半導体デバイス形成に用いられる基板の洗浄をする超音波基板洗浄装置に関するもので、特に、基板表面に形成される回路に接触せず、発振した音圧の高い超音波振動を基板表面に供給した洗浄液に供給することにより、洗浄液にキャビテーションを発生し、基板の表面の回路にダメージを与えることなく洗浄を行う超音波基板洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体製造工程における基板洗浄装置としては、基板にスポンジなどを接触されて接触を行うスクラブ洗浄装置が最も一般的であるが、近年、半導体製造において、回路形成面に低誘電率膜などの柔らかい材質で被覆したり、回路の微細化が進んで、回路が非常に小さくなっていることにより、スクラブ洗浄では、回路形成面が破壊されるという問題があり、又、スポンジを使用したスクラブ洗浄では、フラットな基板面を洗浄する能力には長けているが、凹凸のある回路形成面などをスクラブ洗浄する場合は、スクラブによって逆に凹凸の段差にパーティクルを溜め込んでしまうという問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
この欠点を解消するために、現在公知の非接触方式の洗浄装置として、ノズルに流れる洗浄液に超音波を載せ、洗浄液とともに超音波を照射する洗浄装置も知られているが、この超音波洗浄装置では、超音波振動子から発生した超音波振動が基板に到達するまでに、ノズル内で減衰してしまうので、基板表面の洗浄能力が小さくなってしまうため、凹凸に挟まっているパーティクルを洗浄することは困難である。又、ノズル式の超音波洗浄装置における超音波の減衰を避けるために、基板表面に対向した位置に超音波振動子を設置し、基板表面に載っている洗浄液に超音波振動を伝達する洗浄装置も知られているが、この洗浄装置は洗浄能力が向上して要るものの、基板からの反射波の影響を超音波振動子が受けるために、振動子自体に負荷がかかり振動子の劣化が速いという問題があつた。
【0004】
【課題を解決しようとする手段】
本発明は、被洗浄基板と、該被洗浄基板の洗浄面に微小間隙を設けてほぼ平行な平行面を持ち、該平行面に対して鋭角な上面を有し、前記平行面の端部と前記上面の端部を結んだ背面が前記平行面に対して所定の角度を有する超音波伝達物質からなるくさび型部材と、該くさび型部材の前記背面に接着した超音波振動子と、前記被洗浄基板と前記くさび型部材の平行面との間に洗浄液を流す洗浄液供給装置とからなり、前記超音波振動子に前記発振器から発振出力を印加し、前記くさび型部材の背面に接着した超音波振動子から伝達された超音波を、前記洗浄液供給装置から供給された洗浄液を介して前記くさび型部材の前記平行面から前記被洗浄基板の洗浄面に照射することにより、前記被洗浄基板の洗浄面を洗浄することを特徴とする超音波基板洗浄装置において、前記くさび型部材の側面に前記背面とほぼ平行に横貫通穴を設けたものであり、又、前記くさび型部材の前記上面と前記平行面との間に、前記背面と平行に縦貫通穴を設けたものであり、さらに、前記くさび型部材の前記側面に設けた横貫通穴に回動軸を挿入して、支持部材を装着するものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
本発明は、くさび型部材の背面に超音波振動子を接着し、被洗浄基板の表面にほぼ平行に設けたくさび型部材の平行面と背面とに僅かな角度を設け、超音波振動子から発生した超音波をくさび型部材を通って平行面から被洗浄基板とくさび型部材の平行面との間に介在させた洗浄液を介して被洗浄基板に超音波を照射するようにしたことにより、洗浄液にキャビテーションを発生させる効果により基板表面を洗浄することができ、又、このくさび型部材の側面に背面と平行に横貫通穴又は縦貫通穴を設けることにより、超音波振動子から発生した超音波振動は均一な振動となり、殆ど減衰することなくくさび型部材に伝達され、又、基板全体を短時間で洗浄することが可能である。
【0006】
【実施例】
図1は本発明の実施例の超音波基板洗浄装置の構成図、図2は図1の超音波基板洗浄装置の側面図で、くさび型部材1の平行面1aが被洗浄基板2の表面に平行に支持され、くさび型部材1の平行面1aに対して僅かに角度を設けて上面1bが形成され、さらに、平行面1aの端部と上面1bの端部を結ぶ背面1cは平行面1aに対して僅かな角度を設けて形成され、さらに、くさび型部材1の側面1dに背面1cと平行に横貫通穴1eが形成され、背面1cに板状の超音波振動子3が接着され、この超音波振動子3に発振器4から発振出力が印加され、又、くさび型部材1の平行面1aと被洗浄基板2の表面の間に洗浄液6を供給するノズル5aを接続した洗浄液供給装置5が設けられている。
【0007】
このように構成した本実施例の超音波基板洗浄装置では、くさび型部材1又は被洗浄基板2のいずれかが移動され、くさび型部材1の平行面1aと被洗浄基板2の表面の間に洗浄液供給装置5からノズル5aを介して洗浄液6が供給され、又、くさび型部材1の背面1cに接着された超音波振動子3に発振器4から発振出力が印加されると、超音波振動子3で発生した超音波は横貫通穴1eによって均一な振動(縦波・横波・進行波)となり、くさび型部材1の背面1cからくさび型部材1の平行面1aを通って被洗浄基板2の表面の洗浄液6に効率よく伝達され、この伝達された超音波振動によって洗浄液6にキャビテーションを発生させ、それによって被洗浄基板2の表面が洗浄される。
【0008】
本実施例では、このように、超音波振動子3で発生した超音波はくさび型部材1を介して被洗浄基板2の表面の洗浄液に伝達されるが、超音波振動は横貫通穴1eによって均一な振動となり、又、被洗浄基板2の洗浄液と接触している面積が大きいために、超音波振動も被洗浄基板2の表面に強く行き届き、被洗浄基板2の表面全体を短時間で洗浄することが可能であり、さらに、超音波振動子3からの超音波振動は殆ど減衰することなく、被洗浄基板2の表面洗浄液伝達され、又、超音波振動子3と被洗浄基板2は対向していないので、超音波振動子3に被洗浄基板2の反射波が影響することはない。
【0009】
図3は本発明の他の実施例の超音波基板洗浄装置の構成図で、1はくさび型部材、1aは平行面、1bは上面、1cは背面、3は超音波振動子で、これらの構成は上記実施例と同じであるので、説明は省略するが、本実施例では、くさび型部材1の上面1bと平行面1aの間に背面1cと平行に縦貫通穴1fを形成している。
【0010】
このように構成した本実施例においても、上記実施例と同様に超音波振動子3で発生した超音波振動は縦貫通穴1fによって均一な振動(縦波・横波・進行波)となり、被洗浄基板2の洗浄液と接触している面積が大きいために、超音波振動も被洗浄基板2の表面に強く行き届き、被洗浄基板2の表面全体を短時間で洗浄することが可能であり、さらに、超音波振動子3からの超音波振動は殆ど減衰することなく、被洗浄基板2の表面の洗浄液に伝達される。
【0011】
なお、上記実施例では、ノズル5aをくさび型部材1の側部に設けて、くさび型部材1の平行面1aと被洗浄基板2の表面の間に洗浄液供給装置5から洗浄液6を供給するように構成しているが、くさび型部材1の上面1bから平行面1aにノズル5aを貫通し、このノズル5aからくさび型部材1の平行面1aと被洗浄基板2の表面の間に洗浄液供給装置5から洗浄液6を供給するように構成してしてもよいし、又、横貫通穴1e又は縦貫通穴1fは丸穴以外に三角、四角のように多角形でもよいし、楕円でもよいし、さらに、図4に示すように、横貫通穴1dに回動軸7を挿入し、この回動軸7に支持部材8を装着して、くさび型部材1を支持するようにすることができる。
【0012】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の超音波基板洗浄装置では、くさび型部材の平行面と上面とを僅かな角度で形成し、又、側面に背面と平行に横貫通穴を形成するか、上面と平行面との間に縦貫通穴を形成し、さらに、くさび型部材の背面に超音波振動子を接着し、被洗浄基板の表面にほぼ平行に設けた平行面から被洗浄基板とくさび型部材の平行面との間に介在させた洗浄液に超音波を照射するようにしたので、超音波振動子から発振した超音波振動は横貫通穴又は縦貫通穴によって均一な振動となり、殆ど減衰することなく、くさび型部材から被洗浄基板表面の洗浄液に伝達し、洗浄液にキャビテーションを発生させる効果により被洗浄基板の表面を洗浄することができ、基板全体を短時間で洗浄することが可能であるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は本発明の実施例の超音波基板洗浄装置の構成図である。
【図2】 図2は図1の超音波基板洗浄装置の側面図である。
【図3】 図3は本発明の実施例の超音波基板洗浄装置の構成図である。
【図4】 図4は本発明の実施例の超音波基板洗浄装置の構成図である。
【符号の説明】
1 くさび型部材
2 被洗浄基板
3 超音波振動子
4 発振器
5 洗浄液供給装置
6 洗浄液
7 回動軸
8 支持部材

Claims (3)

  1. 被洗浄基板と、該被洗浄基板の洗浄面に微小間隙を設けてほぼ平行な平行面を持ち、該平行面に対して鋭角な上面を有し、前記平行面の端部と前記上面の端部を結んだ背面が前記平行面に対して所定の角度を有する超音波伝達物質からなるくさび型部材と、該くさび型部材の前記背面に接着した超音波振動子と、前記被洗浄基板と前記くさび型部材の平行面との間に洗浄液を流す洗浄液供給装置とからなり、前記超音波振動子に前記発振器から発振出力を印加し、前記くさび型部材の背面に接着した超音波振動子から伝達された超音波を、前記洗浄液供給装置から供給された洗浄液を介して前記くさび型部材の前記平行面から前記被洗浄基板の洗浄面に照射することにより、前記被洗浄基板の洗浄面を洗浄することを特徴とする超音波基板洗浄装置において、前記くさび型部材の側面に前記背面とほぼ平行に横貫通穴を設けたことを特徴とする超音波基板洗浄装置。
  2. 前記くさび型部材の前記上面と前記平行面との間に、前記背面と平行に縦貫通穴を設けたことを特徴とする請求項1記載の超音波基板洗浄装置。
  3. 前記くさび型部材の前記側面に設けた横貫通穴に回動軸を挿入して、支持部材を装着することを特徴とする請求項1記載の超音波基板洗浄装置。
JP2003155688A 2003-05-30 2003-05-30 超音波基板洗浄装置 Expired - Fee Related JP4263536B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003155688A JP4263536B2 (ja) 2003-05-30 2003-05-30 超音波基板洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003155688A JP4263536B2 (ja) 2003-05-30 2003-05-30 超音波基板洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004356592A JP2004356592A (ja) 2004-12-16
JP4263536B2 true JP4263536B2 (ja) 2009-05-13

Family

ID=34050001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003155688A Expired - Fee Related JP4263536B2 (ja) 2003-05-30 2003-05-30 超音波基板洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4263536B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101033815B1 (ko) * 2008-08-01 2011-05-13 주식회사 듀라소닉 초음파 진동기와 이를 이용한 초음파 세정장치 및 그세정방법
JP5453582B2 (ja) * 2009-12-03 2014-03-26 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 超音波洗浄装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004356592A (ja) 2004-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4934739B2 (ja) 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法
JP4036287B2 (ja) 超音波洗浄装置
JP4263536B2 (ja) 超音波基板洗浄装置
KR20190062526A (ko) 반도체 웨이퍼를 세정하는 장치 및 방법
KR100979568B1 (ko) 초음파 정밀세정장치
US3829328A (en) Method for cleaning resilient webs
JPH0234923A (ja) 超音波洗浄装置
KR101017104B1 (ko) 초음파 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치
JP2789178B2 (ja) 超音波洗浄装置
JPH10309548A (ja) 超音波洗浄方法及び装置
JP4144201B2 (ja) ウエット洗浄処理装置
JP5517227B2 (ja) 超音波精密洗浄装置
KR101033815B1 (ko) 초음파 진동기와 이를 이용한 초음파 세정장치 및 그세정방법
JP2004356589A (ja) 超音波基板洗浄装置
JP2004356590A (ja) 超音波基板洗浄装置
JP2002159922A (ja) 超音波洗浄装置
JP2004356591A (ja) 超音波基板洗浄装置
JPS59142885A (ja) 超音波処理方法およびその装置
JPH0487675A (ja) 超音波洗浄装置と被洗浄物保持具
KR20070077100A (ko) 초음파 세정장치 및 초음파 세정방법
JP3367336B2 (ja) 洗浄物の乾燥装置及び方法
JP4123746B2 (ja) 流体処理装置
JP3309749B2 (ja) 超音波洗浄装置
JP2005019722A (ja) 超音波基板洗浄装置
JP2004273623A (ja) ブラシ洗浄装置及びブラシ洗浄方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060523

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090106

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090119

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090210

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090212

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees