JPH01293176A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

Info

Publication number
JPH01293176A
JPH01293176A JP1034866A JP3486689A JPH01293176A JP H01293176 A JPH01293176 A JP H01293176A JP 1034866 A JP1034866 A JP 1034866A JP 3486689 A JP3486689 A JP 3486689A JP H01293176 A JPH01293176 A JP H01293176A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waves
plate
phase
transducer
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1034866A
Other languages
English (en)
Inventor
Laszlo J Javorik
ラズロ・ジェイ・ジャボリック
Peter J Puskas
ピーター・ジェイ・パスカス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ultrasonic Power Corp
Original Assignee
Ultrasonic Power Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ultrasonic Power Corp filed Critical Ultrasonic Power Corp
Publication of JPH01293176A publication Critical patent/JPH01293176A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は一般的に洗浄装置に関し、特に液体槽内の部品
が、液体を部品表面に衝突させて該表面の堆積物及び表
面汚染を除去する振動波エネルギによって洗浄される装
置に関する。
上記振動波エネルギの周波数は、いくつかのほんの僅か
の事例では該周波数が低い音響ないし可聴帯域にあるか
も知れないが、通常は超音波帯域にある。筒単及び便宜
上の目的のため、本発明は以下超音波装置との関連で明
細書中で筒単に説明されるが、請求の範囲中では「音響
(Icoustic) Jの語句は音響及び超音波装置
の両者を含むものと考えられるべきである。
(従来技術とその課題) 従来の超音波洗浄装置では、部品用の液体槽はタンク等
の中に包含されている。該タンクの底壁の下側に固定さ
れた平らな振動伝達ベースないし板には、1又はそれ以
上の電気−超音波振動変換器が取り付けられている。こ
の変換器手段が超音波振動発振器によって電気的に刺激
されると、振動波が発生して該振動波がタンクの底部か
ら液体表面へと上方に伝達する。振動波が上の表面に達
すると、エネルギ波のうちいくらかは反射して槽の中に
戻って行く。
変換器手段が本質的に単一で一定な周波数の波を発生し
、且つ変換器手段がタンクの底部に配置されているなら
ば、ほぼ均一なパターンの定在波が液体中に発生する。
タンク内の液体の深さが変化するにつれて、液体の上表
面からの波の反射が強度において変化するが、液体中の
定在波のパターンは実質的に同一である。即ち、全ての
定在波は最大値と零が実質的に同じ垂直位置にある。こ
の結果、波パターンの最大値及び零が液体中のある高さ
レベルに生じ、且つ洗浄サイクル全体を通じてこのレベ
ルに止まり、定在波の最大振幅は液体の深さが一定であ
る限り実質的に一定のままである。これにより、液体中
に配設されたパーツの高さに沿って均一でない洗浄作用
が生ずる。更に、槽内に反射されて戻るエネルギの強さ
は、液体深さが変化するにつれて、1/4波長のスパン
にわたって変化するので、洗浄作用の効率の均一性は液
体高さの変化につれて変化する。液体高さの変化によっ
て装置の機械的な(従って全体的な)共振振動数が変化
し、これにより周波数発生装置の出力電圧が全く変わら
ないのに超音波発生装置の出力パワーと変換器手段への
入力パワーに重大な変化がもたらされる。
本質的に単一な選択された周波数の定在波パターンによ
って生ずる問題は、超音波洗浄の技術分野で知られてい
る。色々な解決法が提案されてきた。この事については
、トムズの米国特許3.254,284、タックの米国
特許3.3月、233、ケネディ他の米国特許4,12
0,699及びラトクリフの米国特許4,554,47
7が参照される。ケネディ他の特許を除いたこれらの解
決法は、槽を複数の周波数で刺激するか、又は時間の経
過と共に刺激周波数を帯域にわたって連続的にさっと変
化させる(sweep)かのいずれかを包含しており、
このため槽は異なった波長の振動波を含む。ケネディ他
の特許の場合は、複数の変換器が互いに多少対向した配
列状態でタンクの周りに間隔をあけて配置され、対向し
た振動を生じさせ得る放射が、単一周波数の定在波の明
言した影響を解消する干渉パターンを生じさせる。複数
周波数又はswe e p周波数の発生装置及び変換器
は単一周波数装置よりもかなり複雑で高価であり、また
対向した変換器も同様にこの問題の高価な解決法である
(発明の目的) 本発明の一般的な目的は、新規で改良された超音波洗浄
装置を提供することにある。この装置は単一の周波数に
おいて本質的に操作するために、従来可能であったより
も簡単で、安価で、効果的な方法で極めて簡単に設計で
きる。しかし、この周波数では定在波の全体パターンに
おける最大値及び零は密な状態で一定の間隔をあけ且つ
均等に広がっている。
本発明の他の重要な目的は、液体の深さが変化するとき
、液体の上面からの波のエネルギ反射の程度が、あった
としてもごく僅かだけ変動するような超音波洗浄装置を
提供することである。故に、変換器に供給され液体内の
全振動パワーに変換される電気パワーの変換効率は、液
体の深さが変化するとき、たとえ楽観的でなくとも本質
的に均一に保持される。それによって、深さの変化は被
洗浄部品の洗浄作用において重大な変化を生じさせない
本発明の更に他の目的は、液体の高さの変化に対するパ
ワー出力の平均レベルが、同一の一般型の従来装置での
場合よりも高くなるように変換器手段の総合パワー出力
を増大させることにある。
更に詳細な目的は、1又はそれ以上の超音波変換器から
液体槽内に伝達され、これにより液体帯域の全体にわた
る定在波の最大及び零都升が互いに相対的に動揺し、永
久的に定在波の最大又は最小値である高さが液体内に存
在しない、差動的に移り変わる単一周波数振動エネルギ
波によって前記の目的を達成することである。
なお詳細な意味においては、本発明の目的は、超音波エ
ネルギを、変換器の面で最初に発生されたときは同一相
であるエネルギ波を、液体中を通過するときは異なった
相にするのに効果的な振動伝達板を介して、変換器手段
から液体槽へと伝達することにある。本発明の好適実施
例では、振動伝達板は、タンク内の液体槽に到達した時
及び該液体槽内を伝達する時に異なった相の波になるよ
うにエネルギ波を発生させるために、徐々に変化する厚
みを有する楔形状をなしている。
(実施例) 本発明の超音波洗浄装置の理解を容易にするため最初に
第1図が参照される。この第1図は、本発明が改良する
ところの典型的な従来技術の洗浄装置を概略的に示して
いる。図示する如く、従来装置はステンレスのような金
属でできた、上端が開放された水槽の形状で示される容
器10を有している。該水槽は任意の所望の洗浄剤又は
添加剤を含む水又は他の液体溶液で一部満たされており
、該溶液の上面はSで示されている。
洗浄される部品は、水槽10内に配置され水中に沈めら
れている。簡単のため、高さHの単一の部品11が水平
な底壁12上に置かれている状態が概略的に示されてい
る。
部品11を洗浄するj;めに、粗密振動を発生するため
の振動エネルギが水の中に向けられ、そして通過される
。この結果、水が部品の表面をキャビテーションを伴い
又は伴わずに打撃し、これにより汚れ又は他の異物がほ
ぐされて除去される。
波エネルギは可聴音ないし音響周波数にしてもよいが、
波エネルギの周波数が超音波の場合に一層効果的な洗浄
作用が発揮される。
超音波を発生させるために、変換器手段が水槽10の底
壁12の真下に配置されている。この場合、変換器手段
は従来公知の型の電気−超音波変換の振動変換器を有し
ている。変換器14は、磁気歪み素子を使用することも
できるが、最も主流の型の単一周波数の圧電クリスタル
14Aを有している。変換器は、ほぼ一定で単一周波数
の交流電圧(本質的に正弦曲線)でクリスタルを発振さ
せる電気的周波数発生装置ないし発振器18によって駆
動される。従ってこの装置は、本質的に一定で単一の周
波数の振動が変換器によって液体に加えられる、基本的
に単一周波数の装置である。簡単のため単一の変換器が
示されているが、2つ又はそれ以上の変換器を水槽の真
下に配置してもよく、又はこれら変換器を水槽の−又は
それ以上の側面に配置してもよい。
変換器14は水平な振動伝達ベースないしプレート1G
の下面に固定され、該プレートの反対側は水槽10の底
壁12の水平な下面に固定されている。慣習上、プレー
ト16はアルミニュウムのような金属でできており、約
3 / 4 ”の均一な厚さを有する。変換器14の上
部エネルギ放射端ないしクリスタル14Aはプレート1
6の下面に面対面で緊密に当接し、一方、プレートの上
面は底壁12の下面に面対面で接着されて当接している
変換器14はクリスタル14Aの真下のセラミック絶縁
体14B及び絶縁体の真下の裏張部材14Cによって仕
上げられている。ねじ15は変換器をプレート16に固
定する。
vg1図に示されている定在波20と22は、変換器1
4によって発生され液体槽に加えられる複合振動波エネ
ルギを象徴的に表している。第1図から明らかなように
2つの定在波20と22は亙いに同一相である。実際上
、変換器14は事実上無数の定在波を発生し、該定在波
のそれぞれ及び全部は波20と22によって代表される
。それら定在波の全ては単一周波数の伝達する振動波で
あって、プレート16の金属及び液体中を同一距離伝達
する振動波によって発生されるので、そのような定在波
の全ては互いに同一相である。
従来の単一周波数超音波洗浄装置に固有の一つの欠点は
、そのような装置が振幅の最大値と零を1/4波長に一
致した均等な距離間隔で液体中に垂直に定在波に生じさ
せるという事実から生ずる。
パワーレベルは最大値の部分で高(最大)で零の部分で
低(最小)であるので、部品上の洗浄作用は不均一であ
る。事実、所定の洗浄処理をした部品上に非常にきれい
な部分とそうでない部分がしばしば見られる。従来の単
一周波数装置では、ほぼ全部の定在波の最大及び掌部分
が水槽中の所定深さに生じ、全洗浄サイクルの間その深
さに止まる。これは第1図に示されており、2つの代表
的波20と22の零Nないし最小パワーレベルが同じ液
体深さ、即ち深さL−1に生じる。同様に、2つの定在
波の最大値Pないし最小パワーレベルか、例えば液体深
さL−2に位置する最大部分Pによって示されるように
、全て同じ液体深さに生じる。従って、部品の洗浄され
るべき部分が位置される液体中の所定深さにおいて、洗
浄作用は、上記特定の深さにおいて定在波パターンがそ
の最大部分に近いか又は最小部分に近い′かによって、
強くなったり弱くなったりする。このパワー密度の変化
によって、液体溶液中に配置された部品の高さHに沿っ
て不均一な洗浄作用が生じる。
従来の単一周波数超音波洗浄装置の他の欠点は、液体の
表面Sに位置して大気から液体中に戻る彼エネルギの反
射に関連している。良好な反射はエネルギを逃がすより
はむしろ溶液に戻すので、電気エネルギを溶液内の有益
な振動エネルギに変換するためのより良い効率が生じる
。振動エネルギ波とその結果として生じる定在波が同一
相のとき、反射されて液体に戻るエネルギは水の深さが
変化するにつれて大幅に変化する。例えば水の表面Sが
第1図に示すようにL−4の高さにあると仮定する。更
に定在波の最大部分が表面Sにあるとき最大エネルギが
反射され、定在波の掌部分が表面にあるとき最小エネル
ギが反射されると仮定する。
第1図では、表面が高さL−4にあるとき相の一致した
定在波の最大部分が表面にある状態で示され、その結果
として最大エネルギが反射される。しかし、水の表面S
が高さL−3にある場合は全ての波の掌部分が表面にあ
り、この結果最小エネルギが反射される。反射エネルギ
の最大と最小レベルとの間の広い揺れは、広範囲にわた
って波動させるために周波数発生装置18から引き出さ
れる有益な出力パワー(即ち、液体振動パワー)を生じ
させる。この結果として液体深さに依存した洗浄作用の
効果の重大な変化が生じ得る。
本発明によれば上記欠点が変換器と液体槽との間に特徴
的に配置され、最初に変換器によって発生される時は同
じ相の振動波であるが、液体槽に入り通過する時には種
々の相の振動波になるようにするのに効果的な手段26
(第2図)の設備により比較的簡単に、安価に、問題な
く緩和される。
相の多様化の結果として、槽内の固定された異なる深さ
位置での高低のパワーレベルが解消される。
実質的に無数の定在波は、そのような定在波の全てがそ
の相を互いに少し変化させてから液体中に出ていくので
、パワーの最大及び掌部分はあたかも振動方向に液体を
通して均等に広がる。それに加えて、表面Sに達するい
くつかの波の相の多様化(即ち、振幅の相違化)により
、種々の水の深さにおける反射エネルギの強さの広い揺
れが減少  。
される。即ち、液体高さが変化する時の平均反射効率が
本質的に変わらない。
この特別の例では、手段26は変換器と水槽の底壁との
間に配置された特別な性質の振動伝達板を有する。第2
図に示すような本発明の洗浄装置は第1図の振動伝達板
16と第2図の振動伝達板26との間の差異を除き全く
同一である。従って第1図の構成要素と同じ第2図中の
構成要素は最初の参照番号が同一番号で示される。
更に詳しくは、振動伝達板26は適当な材料(アルミニ
ュウムのような)で作られ、水平面に配設されて水槽1
0″の底壁12′の水平な下面に面対面で当接している
平らな上面を有する。この板は通常底壁に密な当接状態
で接着されている。
本発明に従って、板26の異なった部分が異なった厚み
を有する。好適な実施例では、これは板を、その下面2
7が板の上面によって占められた水平面に対して角度A
で傾斜した面内に配設されるさうに、ほぼ楔形状に作る
ことにより達成される。
変換器14′はその中心軸が板26の下面27に垂直に
された状態で、且つその上部放射端部が板の下面に密に
当接した状態で配置されている。
振動エネルギは水中を57.528 in、/seeの
速度で伝達し、アルミニュウム中を更に速い200.8
80 in、/seeの速度で伝達する。水槽の底壁の
影響を無視すると、変換器の上面の正弦波振動と、その
結果上じる液体の底から上方に測って距離dの位置での
正弦波振動との間の相の移動の角度メは、 (1)アルミニュウム板16又は26の底面と上面との
間に生じる相の移動角度 及び (2)距離dを通した伝達により槽内に生じる相の移動
角度 との合計に等しい。これを式で表すと、u=2yf (
(t/v)+ (d/V))   (1)ここでfは振
動の周波数、tはアルミニュウムの厚さ、Vはアルミニ
ュウム中での伝達速度、dは水槽の底から水中を通り上
方の任意の垂直位置までの距離、■は水中での伝達速度
である。
以上より、(1)変換器に存在する正弦波と(2〕距離
dの任意点における正弦波との間の相の移動角度メは、
アルミニュウムの厚みt及び距離dの両者の関数として
直接的に変化する。通常の従来技術装置(第1図)の場
合は、アルミニュウム振動伝達板16は均一厚さtを有
し、水の底から入る全ての振動波の相の移動角度は同じ
であり、従って全ての波はそれらが水中を通って上方に
伝達する時同じ相であり、またそのような伝達の間同じ
相で等しく移動する。従来技術装置で全ての定在波(例
えば第1図の波20と22によって代表される波)の対
応する零1(が同一の液体高さ位置(例えば高さ位置L
−1)に生じるようにし、また全ての波の対応する最大
値Pが零の位置から1/4波長だけ置き換えた位置(例
えば位置L−2)に生じるようにするのがこの現象であ
る。定在波パターンのこの左右対称により、部品11の
高さHに沿ったある範囲は最小パワーレベルに従う一方
、他の範囲では最大パワーレベルに従う結果になる。
従って、定在波パワーの均一性は部品11の高さに沿っ
た離れた位置での不均一な洗浄作用という糸吉果になる
本発明(第2図)の洗浄装置では、楔形振動伝達板26
の厚みtは変換器14′ンのエネルギ放射端部に沿って
直線的に変化(左から右へ増加)する。この結果、アル
ミニュウム板26の異なる厚みを通って伝達し水の底に
入る隣接した振動波相互間の相の移動角度の変化は実質
上無限小に小さい。従って、板26の下面27に最初に
入った時は同じ相の波が、板の上面から出て水に入る時
は異なった相の波になる。この結果は第2図中で20′
及び22′で示される2つの定在波によって概略的に図
示されている。即ち、17ii2Gの薄い部分を通して
伝達された振動波により定在波20′が生じるが、厚い
部分を通して伝達された振動波により定在波22′が生
じる。20′に示された定在波は概略的に振動波の間の
相の幅の一端(最小の相移動)を描いているが、22′
に示された定在波は相の幅の他端を描いている。2つの
定在波は一直線に並べられておらず、この反対に定在波
の間の相移動が生じているのが分る。好ましくは、また
引き続き説明される態様では波20′ と22′との間
に90’又は174波長の相の違いがある。
第2図を更に参照すると、深さレベルL−1では定在波
20″が最大部分Pになっているが、定在波22′は零
Nになっている。またレベルL−2では波20′が茎部
分Nになっているが、波22′は最大Pになっている。
図示された定在波20′、22′は所定の幅にわたる特
別の異なった相関的な相の多くの波を表していることを
思い出すと、レベルL−1かL−2のどちらか一方(実
際は両方だが)において、振動エネルギ(すなわちパワ
ー)の強さは、異なる固有の関連の相における定在波群
全体の大きさの合計によって決まる。部品表面の所定高
さにおいて、いくつかの定在波は最大部分を有し、いく
つかの定在波は零部分を有し、また多くの定在波は最大
値の数分の1の異なる大きさを有する。従って部品の表
面の各垂直位置は本質的に同一強度の洗浄作用を受け、
上述の縞が減少される。これは、第1図の場合のように
液体中に全ての定在波が最大値又は最小値となる場所が
ないので、本発明の洗浄装置における部品11の高さに
沿った洗浄の均一性が高められることを意味する。
上述の如く、90°の相の広がりは最大と最小の相の移
動の間で好ましい。そのような広がりは振動伝達板26
の厚み七を板の材料及び変換器14′が駆動されるとき
の周波数rに従って漸増させることによってもたらされ
る。例えば、板26がアルミニュウムで変換器14′が
40kHxで駆動されるとすると、板を通って伝達する
エネルギの波長りは約5.022″であり次式で計算さ
れる。
L=v/f−200,880/40,000−5.02
2                (2)正弦波振動
が174波長に等しい距離、即ち5.022”/4、又
は約1.255”の距離を通って伝達するとき、90°
の相移動がその中に生ずる。従って、楔形の板、例えば
左縁で0.25″の厚みで右縁で0.25″+1.25
5 ” = 1.505”の厚みで楔形の板が作られる
と、無数の伝達波の相移動の広がりないし範囲は90°
の広がりを越える。勿論、相移動の広がりは90°より
大きくても小さくてもどちらでもよい。しかし、90゜
が相変化の理論上の最大値を与え、90’以上はl s
inθl−1−1sin(180θ)1であるから、何
ら理論上の利益を生じない。
第2図の洗浄装置の水中の定在波パワーの変動範囲にわ
たって90°の相移動があるので、液面S″の高さの変
化は表面S′で反射して槽内に戻ってくる波エネルギの
大きさにおける全体の不一致は少ない結果となる。例え
ば、表面S′が第2図に示すレベルL−4のとき、その
表面で定在波20′は最大値を示すが定在波22′は零
を示す。
表面S′がレベルL−3であれば、表面S′で定在波2
0′と22′は零と最大値をそれぞれ有する・0°と9
0°との間の角度で相対的に相が移動する波の連続体中
の全ての他の定在波は、最大と最小の大きさで表面に到
達し、対応する強さで反射される。水のレベルが変わる
につれて、表面S′は定在波のどれかの最大値に向かっ
て接近するが、他の波の最大値から遠ざかるので、全体
のエネルギの全ての反射作用の平均は本質的に一定のま
まである。従って水深の変化の作用としてのエネルギの
最初の反射における不一致は、水のレベルが0.360
”(これは40kHzの周波数で水中を伝達するエネル
ギの波長の1/4に等しい距離である)だけ変わると全
体の反射エネルギが最大から最小へと変化でさる第1図
の従来装置の場合よりも少ない。第2図の装置での反射
されたエネルギには不一致が少ないので、周波数発生装
置18′へのいわゆる「インピーダンス整合」はより均
一のままであり、発生装置にかかる負荷はより一定であ
り、液体槽内の全ての場所での振動パワーの全体は実質
的に同一のままであるので、水深が変化した時の洗浄効
果と均一性が影響される程度が少ない。第1図と第2図
に示されたのと同じ一般型の装置を比較する実験が実演
された。この実験では、水深の変化のため、第1図の装
置の周波数発生装置18のパワー出力(装置18にか 
 ′けられる)が最小の95ワツトから最大の173ワ
ツトまでの範囲とされ、一方第2図の装置の周波数発生
装置18′のパワー出力は最小の200ワツトから最大
の242ワツトまでの範囲とされている。この結果、第
2図の装置では効率が11%改善され、パワー全体が6
5%改善され、パワー要素が86%改善され、最小/最
大のパワー出力の均一性における4の要素による改善が
なされtこ。
本発明は、その長さに沿って厚みが直線的に変化しl;
楔形の振動伝達板26との関係で詳細に示され説明され
てきたが、該技術に関連のある技術で、変換器によって
放射される最初の同一相の振動波の相を変化させるt;
めに、変換器手段14′と液体の槽との間に他の手段を
配設してもよい。
板26は例えば他の形状にしてもよい。この代わりに、
板の物理的厚さを(外見が第1図の板16のように物理
的に見えるように)均一にするが、伝達速度が徐々に変
化するように材質が徐々に変化している均質でない材料
にしてもよい。実際は板を完全に取り去ってもよく、そ
の場合水槽1G’の底壁12″を適当な相の変化を生じ
させるのに必要なように形作るか構成すればよい。複数
の変換器を使用する場合は、変換器を水槽の底壁に垂直
に取り付けるのを可能にしつつ、変換器から変換器へと
相の変化を生じさせるため、階段形状の板を使用するこ
とができる。
(発明の効果) 以上から、本発明が、簡単な機械的構成の板26が振動
エネルギの中に相の移動をもたらす新規で改善された超
音波洗浄装置を技術分野にもたらすことが明らである。
該板を設けた結果として変換器14′超音波発生装置1
8′は標準的な単一周波数型でよく、また均一な定在波
パターンによって生じる問題も除去される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明が改良するを武の公知の通常の単一周波
数超音波洗浄装置の概略図、第2図は本発明の独特の特
徴を組み込んだ新規で改良されI;超音波洗浄装置の概
す図である。 10′・・・水槽容器、11’・・・部品、12′・・
・底壁16′・・・振動伝達板、18′・・・周波数発
生装置20’ 、22’・・・振動波、S′・・・液体
表面(外4′名戸 手続補正書 21発明の名称 洗浄装置 6、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 名 称  ウルトラソニック・パワー・コーポレーショ
ン4、代理人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、液体槽保持用の容器と、上記容器の外側に隣接する
    大気中に配設され上記容器を介して上記溶液中に伝達さ
    れる振動エネルギ波を生じさせるために印加されると作
    動する変換器とを有する装置であって、上記装置は、最
    初に発生された時は同一の相であるエネルギ波を、槽の
    中に伝達する時は異なった相の波になるように上記変換
    器と槽との間に配設された手段であって、上記手段の異
    なった部分は異なった物理的性質を有することを特徴と
    する装置。 2、請求の範囲1記載の装置において、上記手段が上記
    容器と上記変換器との間の振動伝達板を有し、上記板の
    異なった部分は異なった厚さである装置。 3、請求項2記載の音響洗浄装置において、上記変換器
    に隣接した上記板の側面が、上記容器の外側面に対して
    斜めに傾斜している面内に配設されている装置。 4、請求項2記載の洗浄装置において、上記容器に隣接
    した上記板の側面が、ほぼ水平な面内に配設され、上記
    板の他の面が上記水平面に対して斜めに傾斜した面内に
    配設されている装置。 5、請求項4記載の音響洗浄装置において、上記板がほ
    ぼ楔形である装置。 6、請求項1から5のいずれか記載の洗浄装置において
    、上記変換器で発生されたエネルギ波が全て実質的に単
    一で一定の周波数である装置。
JP1034866A 1988-02-18 1989-02-14 洗浄装置 Pending JPH01293176A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/161,457 US4836684A (en) 1988-02-18 1988-02-18 Ultrasonic cleaning apparatus with phase diversifier
US161457 1988-02-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01293176A true JPH01293176A (ja) 1989-11-27

Family

ID=22581249

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1034866A Pending JPH01293176A (ja) 1988-02-18 1989-02-14 洗浄装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4836684A (ja)
JP (1) JPH01293176A (ja)
KR (1) KR890012710A (ja)
DE (1) DE3904658A1 (ja)
GB (1) GB2216219B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005099046A (ja) * 2004-12-06 2005-04-14 Hitachi Ltd 自動分析装置

Families Citing this family (103)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5834871A (en) * 1996-08-05 1998-11-10 Puskas; William L. Apparatus and methods for cleaning and/or processing delicate parts
US6016821A (en) 1996-09-24 2000-01-25 Puskas; William L. Systems and methods for ultrasonically processing delicate parts
SU1835705A1 (ru) * 1989-04-04 1996-08-10 И.А. Левин Способ обработки материалов
FR2663953B1 (fr) * 1990-07-02 1993-07-09 Aubert & Duval Acieries Procede et installation de cementation de pieces en alliage metallique a basse pression.
US5178173A (en) * 1991-08-01 1993-01-12 Robert J. Pace Ultrasonic contact lens cleaning device
DE4126887A1 (de) * 1991-08-14 1993-02-18 Bucher Kirstein Waltraud Schallwellen-reinigungsbad
JP2696017B2 (ja) * 1991-10-09 1998-01-14 三菱電機株式会社 洗浄装置及び洗浄方法
US5289838A (en) * 1991-12-27 1994-03-01 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Ultrasonic cleaning of interior surfaces
EP0619104B1 (en) * 1992-09-16 2002-03-13 Hitachi, Ltd. Ultrasonic irradiation apparatus
US5306981A (en) * 1992-11-19 1994-04-26 Humonics International Inc. Piezoelectric vibrator assembly
US5427622A (en) * 1993-02-12 1995-06-27 International Business Machines Corporation Method for uniform cleaning of wafers using megasonic energy
DE4317068C2 (de) * 1993-05-21 1996-08-29 Grundig Emv Anordnung zur Reinigung von Oberflächen oder Oberflächenbereichen von Unterwassergeräten
JPH0810731A (ja) * 1994-06-27 1996-01-16 Yoshihide Shibano 超音波洗浄装置
US5625249A (en) * 1994-07-20 1997-04-29 Submicron Systems, Inc. Megasonic cleaning system
US5522938A (en) * 1994-08-08 1996-06-04 Texas Instruments Incorporated Particle removal in supercritical liquids using single frequency acoustic waves
US5736100A (en) * 1994-09-20 1998-04-07 Hitachi, Ltd. Chemical analyzer non-invasive stirrer
DE4436054C2 (de) * 1994-10-10 1997-04-03 Wimmer Ulrich Dipl Ing Fh Einrichtung, insbesondere Resonator, zum Abstrahlen von Ultraschall
US7211928B2 (en) * 1996-08-05 2007-05-01 Puskas William L Apparatus, circuitry, signals and methods for cleaning and/or processing with sound
US7211927B2 (en) * 1996-09-24 2007-05-01 William Puskas Multi-generator system for an ultrasonic processing tank
US5927304A (en) * 1996-08-05 1999-07-27 Wen; Sheree H. Food article washer
US6822372B2 (en) * 1999-08-09 2004-11-23 William L. Puskas Apparatus, circuitry and methods for cleaning and/or processing with sound waves
US20060086604A1 (en) * 1996-09-24 2006-04-27 Puskas William L Organism inactivation method and system
US6313565B1 (en) 2000-02-15 2001-11-06 William L. Puskas Multiple frequency cleaning system
US7336019B1 (en) 2005-07-01 2008-02-26 Puskas William L Apparatus, circuitry, signals, probes and methods for cleaning and/or processing with sound
US8075695B2 (en) * 1996-08-05 2011-12-13 Puskas William L Apparatus, circuitry, signals, probes and methods for cleaning and/or processing with sound
US20080047575A1 (en) * 1996-09-24 2008-02-28 Puskas William L Apparatus, circuitry, signals and methods for cleaning and processing with sound
FR2755038B1 (fr) * 1996-10-28 1998-12-24 Forward Technology Ind Procede de nettoyage de pieces metalliques
US6148833A (en) * 1998-11-11 2000-11-21 Applied Materials, Inc. Continuous cleaning megasonic tank with reduced duty cycle transducers
US6098643A (en) * 1998-11-14 2000-08-08 Miranda; Henry R. Bath system for semiconductor wafers with obliquely mounted transducers
DE19921145B4 (de) * 1999-05-07 2008-01-10 Kobra Formen Gmbh Rüttelantrieb für eine Form
EP1128185B8 (en) * 2000-02-25 2009-08-19 Hitachi, Ltd. Mixing device for automatic analyzer
US20020157685A1 (en) * 2000-09-11 2002-10-31 Naoya Hayamizu Washing method, method of manufacturing semiconductor device and method of manufacturing active matrix-type display device
JP2002093765A (ja) * 2000-09-20 2002-03-29 Kaijo Corp 基板洗浄方法および基板洗浄装置
EP1463536A4 (en) * 2001-11-07 2006-06-28 Sheree Wen DISINFECTION DEVICE AND METHOD FOR DISINFECTING ARTICLES
US7156897B2 (en) * 2001-11-27 2007-01-02 Wen Sheree H Anti-infection and toxin elimination device
US6673137B1 (en) 2001-11-27 2004-01-06 Sheree H. Wen Apparatus and method for purifying air in a ventilation system
US6776824B2 (en) * 2002-01-11 2004-08-17 Sheree H. Wen Antiviral and antibacterial filtration module for a vacuum cleaner or other appliance
WO2004112093A2 (en) * 2003-06-06 2004-12-23 P.C.T. Systems, Inc. Method and apparatus to process substrates with megasonic energy
EP1652224A2 (en) * 2003-07-31 2006-05-03 FSI International, Inc. Controlled growth of highly uniform, oxide layers, especially ultrathin layers
KR20060121871A (ko) * 2003-09-11 2006-11-29 에프에스아이 인터내쇼날 인크. 음의 장 균등을 위한 음향 발산기
WO2005027202A1 (en) * 2003-09-11 2005-03-24 Fsi International, Inc. Semiconductor wafer immersion systems and treatments using modulated acoustic energy
US20050252522A1 (en) * 2004-05-11 2005-11-17 Struven Kenneth C Megasonic cleaning with obliquely aligned transducer
KR20100080626A (ko) * 2008-06-26 2010-07-09 파나소닉 주식회사 연삭 장치 및 연삭 방법
US9108232B2 (en) 2009-10-28 2015-08-18 Megasonic Sweeping, Incorporated Megasonic multifrequency apparatus with matched transducers and mounting plate
US8691145B2 (en) * 2009-11-16 2014-04-08 Flodesign Sonics, Inc. Ultrasound and acoustophoresis for water purification
EP2582631A4 (en) 2010-06-16 2016-05-25 Flodesign Sonics Inc PHONONIC CRYSTAL DESALINATION SYSTEM AND METHOD OF USE
US9421553B2 (en) 2010-08-23 2016-08-23 Flodesign Sonics, Inc. High-volume fast separation of multi-phase components in fluid suspensions
EP2515323B1 (en) 2011-04-21 2014-03-19 Imec Method and apparatus for cleaning semiconductor substrates
US9752114B2 (en) 2012-03-15 2017-09-05 Flodesign Sonics, Inc Bioreactor using acoustic standing waves
US9688958B2 (en) 2012-03-15 2017-06-27 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic bioreactor processes
US10967298B2 (en) 2012-03-15 2021-04-06 Flodesign Sonics, Inc. Driver and control for variable impedence load
US9272234B2 (en) 2012-03-15 2016-03-01 Flodesign Sonics, Inc. Separation of multi-component fluid through ultrasonic acoustophoresis
US9796956B2 (en) 2013-11-06 2017-10-24 Flodesign Sonics, Inc. Multi-stage acoustophoresis device
US10370635B2 (en) 2012-03-15 2019-08-06 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic separation of T cells
US10689609B2 (en) 2012-03-15 2020-06-23 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic bioreactor processes
US9458450B2 (en) 2012-03-15 2016-10-04 Flodesign Sonics, Inc. Acoustophoretic separation technology using multi-dimensional standing waves
US10322949B2 (en) 2012-03-15 2019-06-18 Flodesign Sonics, Inc. Transducer and reflector configurations for an acoustophoretic device
US9752113B2 (en) 2012-03-15 2017-09-05 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic perfusion devices
US9745548B2 (en) 2012-03-15 2017-08-29 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic perfusion devices
US9950282B2 (en) 2012-03-15 2018-04-24 Flodesign Sonics, Inc. Electronic configuration and control for acoustic standing wave generation
US9567559B2 (en) 2012-03-15 2017-02-14 Flodesign Sonics, Inc. Bioreactor using acoustic standing waves
US10953436B2 (en) 2012-03-15 2021-03-23 Flodesign Sonics, Inc. Acoustophoretic device with piezoelectric transducer array
US10704021B2 (en) 2012-03-15 2020-07-07 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic perfusion devices
US9783775B2 (en) 2012-03-15 2017-10-10 Flodesign Sonics, Inc. Bioreactor using acoustic standing waves
US11324873B2 (en) 2012-04-20 2022-05-10 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic blood separation processes and devices
US10737953B2 (en) 2012-04-20 2020-08-11 Flodesign Sonics, Inc. Acoustophoretic method for use in bioreactors
US9623347B2 (en) * 2012-09-10 2017-04-18 Thinky Corporation Centrifuge that rotates storage container while applying ultrasonic waves
US9993843B2 (en) * 2013-07-15 2018-06-12 Dukane Ias, Llc Adapter for ultrasonic transducer assembly
US9745569B2 (en) 2013-09-13 2017-08-29 Flodesign Sonics, Inc. System for generating high concentration factors for low cell density suspensions
US9725710B2 (en) 2014-01-08 2017-08-08 Flodesign Sonics, Inc. Acoustophoresis device with dual acoustophoretic chamber
US9744483B2 (en) 2014-07-02 2017-08-29 Flodesign Sonics, Inc. Large scale acoustic separation device
US10106770B2 (en) 2015-03-24 2018-10-23 Flodesign Sonics, Inc. Methods and apparatus for particle aggregation using acoustic standing waves
WO2016176663A1 (en) 2015-04-29 2016-11-03 Flodesign Sonics, Inc. Acoustophoretic device for angled wave particle deflection
US11021699B2 (en) 2015-04-29 2021-06-01 FioDesign Sonics, Inc. Separation using angled acoustic waves
US11420136B2 (en) 2016-10-19 2022-08-23 Flodesign Sonics, Inc. Affinity cell extraction by acoustics
US11708572B2 (en) 2015-04-29 2023-07-25 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic cell separation techniques and processes
US11377651B2 (en) 2016-10-19 2022-07-05 Flodesign Sonics, Inc. Cell therapy processes utilizing acoustophoresis
CA2986238A1 (en) 2015-05-20 2016-11-24 Bart Lipkens Acoustic manipulation of particles in standing wave fields
US10161926B2 (en) 2015-06-11 2018-12-25 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic methods for separation of cells and pathogens
US9663756B1 (en) 2016-02-25 2017-05-30 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic separation of cellular supporting materials from cultured cells
WO2017008066A1 (en) 2015-07-09 2017-01-12 Flodesign Sonics, Inc Non-planar and non-symmetrical piezolectric crystals and reflectors
US11474085B2 (en) 2015-07-28 2022-10-18 Flodesign Sonics, Inc. Expanded bed affinity selection
US11459540B2 (en) 2015-07-28 2022-10-04 Flodesign Sonics, Inc. Expanded bed affinity selection
US10710006B2 (en) 2016-04-25 2020-07-14 Flodesign Sonics, Inc. Piezoelectric transducer for generation of an acoustic standing wave
WO2017192760A1 (en) 2016-05-03 2017-11-09 Flodesign Sonics, Inc. Therapeutic cell washing, concentration, and separation utilizing acoustophoresis
US11214789B2 (en) 2016-05-03 2022-01-04 Flodesign Sonics, Inc. Concentration and washing of particles with acoustics
US11085035B2 (en) 2016-05-03 2021-08-10 Flodesign Sonics, Inc. Therapeutic cell washing, concentration, and separation utilizing acoustophoresis
US10384239B2 (en) 2016-09-27 2019-08-20 Texas Instruments Incorporated Methods and apparatus for ultrasonic lens cleaner using configurable filter banks
US10682675B2 (en) 2016-11-01 2020-06-16 Texas Instruments Incorporated Ultrasonic lens cleaning system with impedance monitoring to detect faults or degradation
US11237387B2 (en) 2016-12-05 2022-02-01 Texas Instruments Incorporated Ultrasonic lens cleaning system with foreign material detection
US10663418B2 (en) 2017-02-03 2020-05-26 Texas Instruments Incorporated Transducer temperature sensing
US10695805B2 (en) 2017-02-03 2020-06-30 Texas Instruments Incorporated Control system for a sensor assembly
US11042026B2 (en) 2017-02-24 2021-06-22 Texas Instruments Incorporated Transducer-induced heating and cleaning
US11420238B2 (en) 2017-02-27 2022-08-23 Texas Instruments Incorporated Transducer-induced heating-facilitated cleaning
US10780467B2 (en) 2017-04-20 2020-09-22 Texas Instruments Incorporated Methods and apparatus for surface wetting control
US11607704B2 (en) * 2017-04-20 2023-03-21 Texas Instruments Incorporated Methods and apparatus for electrostatic control of expelled material for lens cleaners
US10908414B2 (en) 2017-05-10 2021-02-02 Texas Instruments Incorporated Lens cleaning via electrowetting
US11772134B2 (en) * 2017-09-29 2023-10-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Sonic cleaning of brush
CA3085784A1 (en) 2017-12-14 2019-06-20 Flodesign Sonics, Inc. Acoustic transducer driver and controller
WO2020095090A1 (en) * 2018-11-06 2020-05-14 Arcelormittal Cleaning method by ultrasound
AU2020221235B2 (en) 2019-02-13 2021-12-02 Restec Solutions Llc Ultrasonic standing wave nebulization system
US11975358B1 (en) 2021-06-24 2024-05-07 Cleaning Technologies Group, Llc Ultrasonic RF generator with automatically controllable output tuning
CN114472349B (zh) * 2021-12-09 2023-07-14 东莞声索电子有限公司 自适应频率匹配方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2702692A (en) * 1951-11-24 1955-02-22 Gen Electric Apparatus utilizing ultrasonic compressional waves
US3254284A (en) * 1963-05-10 1966-05-31 Giannini Controls Corp Ultrasonic vibration generators
US3371233A (en) * 1965-06-28 1968-02-27 Edward G. Cook Multifrequency ultrasonic cleaning equipment
US4120699A (en) * 1974-11-07 1978-10-17 Alvin B. Kennedy, Jr. Method for acoustical cleaning
US4554477A (en) * 1983-11-25 1985-11-19 Ratcliff Henry K Drive circuit for a plurality of ultrasonic generators using auto follow and frequency sweep

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005099046A (ja) * 2004-12-06 2005-04-14 Hitachi Ltd 自動分析装置

Also Published As

Publication number Publication date
GB2216219A (en) 1989-10-04
GB2216219B (en) 1991-10-02
GB8903280D0 (en) 1989-04-05
US4836684A (en) 1989-06-06
KR890012710A (ko) 1989-09-19
DE3904658A1 (de) 1989-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01293176A (ja) 洗浄装置
US6266836B1 (en) Process and device for continuous ultrasonic washing of textile
MX2008011778A (es) Aparato de procesamiento megasonico con barrido de frecuencia de transductores de modo de espesor.
KR20120098800A (ko) 초음파 세정 장치 및 초음파 세정 방법
WO2003099474A1 (en) Method and apparatus for producing acoustic cavitation
US20200346254A1 (en) Ultrasonic concrete form cleaning method
KR200427508Y1 (ko) 멀티채널 입수형 초음파 세척 장치
JPH0449619A (ja) 超音波洗浄槽
JPH05317820A (ja) 超音波洗浄方法及び装置
EP0268633B1 (en) Ultrasonic field generation
KR102065067B1 (ko) 다중 주파수 동시 구동형 멀티진동자 기반 초음파세척장치
TWI361729B (ja)
JP3309749B2 (ja) 超音波洗浄装置
WO1988006927A1 (en) Ultrasonic instrument
JPS6254557B2 (ja)
JPH0642778Y2 (ja) 投げ込み形超音波洗浄器
JPH0420546Y2 (ja)
JPS61192379A (ja) 超音波洗浄装置
SU1175578A1 (ru) Устройство дл ультразвуковой очистки
RU130602U1 (ru) Ультразвуковое устройство для очистки водоемов
JPS61101283A (ja) 超音波洗浄方法
JPH08131978A (ja) 超音波洗浄装置
RU2184625C2 (ru) Устройство для ультразвуковой очистки
JPH07263397A (ja) 超音波洗浄方法
JPH0334317Y2 (ja)