JPH05317820A - 超音波洗浄方法及び装置 - Google Patents

超音波洗浄方法及び装置

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JPH05317820A
JPH05317820A JP15620292A JP15620292A JPH05317820A JP H05317820 A JPH05317820 A JP H05317820A JP 15620292 A JP15620292 A JP 15620292A JP 15620292 A JP15620292 A JP 15620292A JP H05317820 A JPH05317820 A JP H05317820A
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JP
Japan
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cleaning
frequency
low
frequency oscillator
bubbles
Prior art date
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Application number
JP15620292A
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English (en)
Inventor
Mitsugi Sano
貢 佐野
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SPC Electronics Corp
Original Assignee
SPC Electronics Corp
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Publication date
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Publication of JPH05317820A publication Critical patent/JPH05317820A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高帯域で効率的な洗浄を行う。 【構成】 洗浄槽1内の洗浄液5に、低周波振動子4に
よるキャビテーションの発生と、高周波振動子8による
直進流と衝撃力の発生を行わしめて洗浄を行う超音波洗
浄方法及び装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超音波を用いて、キャ
ビテーションと直進流や衝撃力を利用して洗浄を行う超
音波洗浄方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の此種装置は、図3に示す様に洗浄
槽1の平底2に超音波振動子3を固定し、発振器4から
の電気信号を超音波振動子3に供給し、電気−機械振動
に変換され、平底2を通して洗浄液5に音響変換され、
キャビテーションにより高気圧の気泡を発生させる。こ
の気泡が洗浄物6に当り爆発する。この爆発力により洗
浄効果が得られるようになっている。
【0003】次に、図4に示す従来例は洗浄槽1の底を
V字形底2´に形成し、両側に超音波振動子3,3´を
夫々の発振器4,4´からの電気信号で振動させるよう
になっている。この両超音波振動子3,3´は周波数を
異にし、この差の周波数を利用して、サブハーモニはを
発生させて広帯域周波数により洗浄する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の技術にあっ
ては、低周波超音波を用いる場合には、キャビテーショ
ンによる洗浄のみであり、波長が長いので、実在波によ
り、強弱部分か発生し、洗浄槽内の音響度が均一でな
く、洗浄ができる箇所とできない箇所のムラが発生す
る。逆に、高周波超音波を用いる場合には、直進流や衝
撃流による洗浄のみであり、振幅が小さく、強固な汚れ
は取れない。そして、減衰が大きく、又集中洗浄範囲外
は洗浄ができない等の欠点があった。
【0005】そこで、本発明においては、高帯域で効率
的な精密洗浄をすることができる方法及び装置を提供し
ようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、洗浄槽内の洗浄液に、低周波振動によるキ
ャビテーションの発生と、高周波振動子による直進流と
衝撃力の発生を行わしめて洗浄を行う超音波洗浄方法を
構成するものである。
【0007】又、低周波振動子の作動と高周波振動子の
作動を交互に切換えて洗浄を行う超音波洗浄方法を構成
するものである。
【0008】又、低周波振動子と高周波振動子のいずれ
か一方の振動子を継続して作動せしめている途中に他方
の振動子を断続的に作動せしめて洗浄を行う超音波洗浄
方法を構成したものである。
【0009】又、洗浄槽の底に低周波振動子と高周波振
動子とを固定した超音波洗浄装置を構成したものであ
る。
【0010】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、低周波
振動子を作用して洗浄液にキャビテーションを発生させ
て気泡を発生しめて洗浄物に当て破壊により洗浄を行
う。又、高周波振動子を作動して直進流を発生させて衝
撃力により洗浄を行うと同時に気泡を高速で移動せしめ
て洗浄物に当て破壊力を増大せしめて洗浄を行う。
【0011】
【実施例】本発明の構成を図面に示す実施例に基いて詳
細に説明すると、洗浄槽1の平底2に低周波(10KH
z〜100KHz)の振動を行う低周波振動子3を固
定、低周波発振器4に接続する。又、平底2の一方に傾
斜した傾斜底7を形成し、この傾斜底7に高周波(50
0KHz〜10MHz)振動を行う高周波振動子8を固
定し、高周波発振器9に接続する。
【0012】第1実施例は前記のように構成したもの
で、低周波振動子3と高周波振動子8を駆動して低周波
により洗浄液5中のキャビテーションで高気圧の気泡を
発生させ、この気泡が洗浄物6に当り爆発する。この爆
発力により洗浄効果が得られる。又、高周波により直進
流や衝撃力を発生させて洗浄する。
【0013】前記装置を用いて各種の洗浄方法を説明す
る。第1の方法としては低周波発振器4と高周波発振器
9を同時に駆動して低周波振動子3と高周波振動子8に
電気信号を供給し、電気−機械振動に変換され、洗浄槽
1の平底2及び傾斜底7を通して洗浄液に音響変換され
る。この音響変換による低周波振動子3では洗浄液5に
キャビテーションにより高気圧の気泡を発生させ、この
気泡が洗浄物6に衝突して爆発し、その爆発力により洗
浄する。これと同時に高周波振動子8では洗浄液5に直
進流や衝撃力を発生させ、前記気泡を高速で移動させ、
洗浄物6に当てる衝撃力を増大して気泡破壊力を増して
洗浄を行う。
【0014】第2の方法としては、まず低周波振動子を
作動させて、洗浄液にキャビテーションを発生させ、気
泡により洗浄物6を洗浄する。その後、高周波振動子を
作動させて洗浄液に直進流及び衝撃力を発生させて洗浄
を行う。
【0015】第3の方法としては、低周波振動子3と高
周波振動子8とを交互に作動させて、気泡の爆発による
洗浄と直進流及び衝撃力による洗浄とを交互に行う。
【0016】第4の方法としては、まず高周波振動子3
を連続作動させ、その作動中の任意時点において高周波
振動子8を断続的に作動させ、気泡の爆発による洗浄中
に直進流及び衝撃力を与えて、気泡を高速で移動させ、
強力な破壊による洗浄効果の増進を図る。
【0017】第5の方法としては、まず高周波振動子8
を連続作動させ、その作動中の任意時点において低周波
振動子3を断続的に作動させ、高周波による直進流と衝
撃力による洗浄中に気泡を発生させ、気泡を高速で移動
させて洗浄を行う。
【0018】次に装置の第2実施例を図2に基づいて説
明すると、本実施例は洗浄槽1の底をV字形底2´に形
成し、その両傾斜底7,7´に夫々低周波振動子3,3
´を固定して低周波発振器4,4´に接続し、中央の平
底2に高周波振動子8を固定して高周波発信器9に接続
したものである。
【0019】第2実施例は前記のように構成したもの
で、両側の低周波振動子3,3´は同一周波数の場合と
異なった周波数の場合とがあり、更に同時に使用する場
合と切換えて使用する場合とがある。そして、方法とし
ては第1実施例に用いた5つの方法を用いることができ
るものである。
【0020】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るから、洗浄液中にキャビテーションによる気泡を発生
させて洗浄物に当て破壊力で汚物を除去することができ
る。又、洗浄液と汚物との化学反応が促進される。更
に、直進流によってキャビテーションによる気泡を高速
で移動させ、洗浄物に当て衝撃力と気泡破壊力の両者で
洗浄することができる。又、洗浄槽内には低周波と高周
波の二つの周波数が存在するので、サブハーモニも発生
し高帯域の周波数であることや気泡が高速で移動するこ
とから、均一音場となり、サブミクロンの汚物までも除
去し得るので、効果的に洗浄を行うことができ、しかも
多用途に活用できるので、精密洗浄に応用することがで
きる。
【0021】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る超音波洗浄方法及び装置の第1実
施例の断面図。
【図2】第2実施例の断面図。
【図3】従来例の断面図。
【図4】他の従来例の断面図。
【符号の説明】
1 洗浄槽 2 平底 2´ V字形底 3 低周波振動子 3´ 低周波振動子 4 低周波発信器 4´ 低周波発信器 5 洗浄液 6 洗浄物 7 傾斜底 8 高周波振動子 9 高周波発振器

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄槽内の洗浄液に、低周波振動による
    キャビテーションの発生と、高周波振動子による直進流
    と衝撃力の発生を行わしめて洗浄を行うことを特徴とす
    る超音波洗浄方法。
  2. 【請求項2】 低周波振動子の作動と高周波振動子の作
    動を交互に切換えて洗浄を行うことを特徴とする請求項
    1記載の超音波洗浄方法。
  3. 【請求項3】 低周波振動子と高周波振動子のいずれか
    一方の振動子を継続して作動せしめている途中に他方の
    振動子を断続的に作動せしめて洗浄を行うことを特徴と
    する請求項1記載の超音波洗浄方法。
  4. 【請求項4】 洗浄槽の底に低周波振動子と高周波振動
    子とを固定したことを特徴とする超音波洗浄装置。
JP15620292A 1992-05-25 1992-05-25 超音波洗浄方法及び装置 Pending JPH05317820A (ja)

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