JPS59115763A - 超音波フオグ処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （ａｌ　　発明の技術分野 本発明は半導体基板などの電子部品を製造する際に、エ
ソヂングや洗浄などの処理をする処理装置に関する。

（ｂｌ　　従来技術と問題点 例えば、半導体装置を製造する際に、ウェハープロセス
では溶液処理工程が繰り返しおこなわれる。従来、での
ような処理工程は溶液に浸積する方法が用いられていた
が、最近にはスプレーで溶液を注ぐ処理方法が用いられ
るようになってきた。

それは処理液量が少なくて済み、処理ムラが減少するな
どの利点があるからである。

しかしながら、スプレ一式処理法は溶液を噴射した際に
溶媒が蒸発して溶液濃度が変化したり、スプレー圧力や
周囲温度によって処理速度が変わり、処理条件を一定に
することは難しいことである。

従って、例えば半導体ウエノ−−一やフォトマスクにレ
ジスト膜パターンを形成して工・ノチングする際、現像
液をレジスト膜にスプレーで噴射するとレジスト膜にダ
メージを与えてピンホールが発生ずる問題がある。

（ｃｌ　　発明の目的 本発明はこのような問題点を除去し、被処理試料にダメ
ージ（損傷）を与えない処理装置を提案するものである
。

（ｄｌ　　発明の構成 その目的は、　超音波エネルギーによって処理溶液を霧
状にして、被処理試料に該処理溶液を接触させるように
した超音波フォグ処理装置によって達成される。

（Ｑｌ　　発明の実施例 周知のように、超音波とは周波数１０ＫＨ２〜１０ＭＨ
ｚであって、超音波を液体中に発生させると液体が撮動
して攪拌作用が起こり、液体が霧（フォグ：Ｆｏｇ）状
になって蒸発する。このようなフォグは運動エネルギー
が小さくて、被処理試料に損傷を与えないため、本発明
はこの超音波フォグを利用するものである。

第１図は本発明による一実施例の断面構造図で、被処理
試料ｌをガラス基板にクロム膜を被着し、その上のレジ
スト膜を露光処理したフォトマスクとする。これを現像
する場合の実施例であり、処理容器２内で被処理試料１
が保持台３に真空吸着されて保持され、保持台は数１０
０回／分の速度で回転していて、処理容器２内全体は排
気されている。その処理容器２側方にフォグ発生器４が
設けられ、フォグ発生器４では超音波発振器５によって
現像液容器６からフォグを発生して、送入管７によって
処理容器１内にフォグを送り込んで現像を行う。送入管
７にはシャッター８を設けて、処理が済むとフォグを遮
断する。このようにして、処理試料にダメージを与えな
い処理を行うことができる。

また、連続処理する場合には、第２図に示す平面図のよ
うに処理容器２の周囲に複数のフォグ発生器４１，４２
，４３．４４を配置し、送入管１７を用いて交互にフォ
グを送り込む。例えば、上記のフォトマスクを現像、洗
浄、エツチング、洗浄の４処理を連続して行う場合に利
用できる。

ｆｆｌ　　発明の効果 以上の説明から判るように、本発明は被処理試料にダメ
ージを与えることがなくなる処理装置であって、半導体
装置その他の部品の品質向上に役立つものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例のフォグ処理装置の断面
構造図、第２図は本発明にょる他のフォグ処理装置の平
面図である。 図中、１は被処理試料、２は処理容器、３は保持台、４
，４１，４２，４３．４４はフォグ発生器、５は超音波
発振器、６は液容器、７．１７は第１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 超音波エネルギーによって処理溶液を霧状にして、被処
   理試料に該処理溶液を接触させるようにしたことを特徴
   とする超音波フォグ処理装置。