JPH0283926A - ウェーハ上の静電気除去方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ウェーハ表面に帯電した静電気の除去に関す
るものである。

〔従来の技術〕

従来より、ウェーハを次処理工程へ投入する際は、特開
昭５７−１５４８３６号公報に記載のように、比抵抗値
の高い純水を、ウェーハ表面に吹き付けて、異物を除去
する方法がとられていた。

しかし、帯電したウェーハの静電気の除去をすると云う
点には配慮されていなかった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の目的は、ウェーハ表面に帯電した静電気の影響
による、回路形成のための処理装置の搬送テーブル等に
吸着するトラブルを防止し、装置停止時間を短くすると
共に、静電気による回路形成途上の回路欠陥の発生を防
止する方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、Ｓｉ（シリコン）、ガラス、水晶。

セラミックス、タンタル酸リチウム等のウェーハ基板上
に１回路形成を目的として、処理装置導入前に、酢酸、
ギ酸、修酸、あるいは、アンモニアガス、水酸化アンモ
ニウムを超純水中に溶解させてｐＨを４．０〜９．０に
調整した液中に、浸漬あるいは、スプレー吹き付けを行
ない乾燥することにより、ウェーハに帯電した静電気の
除去が達成される。

〔作用〕

酢酸等の物質は、水溶液中で、イオンに解離し。

このイオンが静電気を除去する役目をする。

例、　酢酸の場合水溶液中で Ｉρ ＣＨ，・Ｃ＋Ｈ” ゝＣ に解離する。

〔実施例〕

以下１本発明の詳細を実施例により説明する。

第１図のように、ウェーハＬにアルミニウム及びアルミ
ニュウム合金薄膜による電極を形成するため１表面にレ
ジスト塗布して加熱したため帯電したウェーハを、パタ
ーンを焼き付ける露光装置へ投入前に、酢酸を添加して
ｐＨ６，０に調整した。

１８℃の超純水中に浸漬、乾燥を行なった後、同装置で
、露光を行なったところ、静電気障害による回路欠陥の
発生、装置への吸着による装置停止がなくなった。

〔発明の効果〕

本発明による、静電気除去液により、ウェーハに帯電し
た静電気を除去することができるので。

静電気による回路欠陥発生防止、装置稼動率の向上、の
効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例のウェーハ上の静電気除去
方法を説明する系統図、第２図は他の実施例の説明図で
ある。 １・・・供給源、２・・・コントロール弁、３，４．８
・・・ポンプ５５・・・超純水、６・・・混合槽、７・
・・フィルター、９．１１・・・静電気除去液、１０・
・・浸漬槽。 １２・・・排水、１３・・・ウェハ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、ウェーハを回路形成工程の各装置へ導入前に酢酸等
   の酸性物質あるいは、水酸化アンモニウム等のアルカリ
   性物質を超純水液中に溶解させ、ｐＨ５．０〜９．０に
   調整した液中に浸漬あるいは、スプレーすることを特徴
   とするウェーハ上の静電気除去方法。