JP2002273113A - 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法 - Google Patents

濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法

Info

Publication number
JP2002273113A
JP2002273113A JP2001073484A JP2001073484A JP2002273113A JP 2002273113 A JP2002273113 A JP 2002273113A JP 2001073484 A JP2001073484 A JP 2001073484A JP 2001073484 A JP2001073484 A JP 2001073484A JP 2002273113 A JP2002273113 A JP 2002273113A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
storage chamber
chemical
filter
liquid storage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001073484A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeo Yajima
丈夫 矢島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koganei Corp
Original Assignee
Koganei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koganei Corp filed Critical Koganei Corp
Priority to JP2001073484A priority Critical patent/JP2002273113A/ja
Priority to EP01402405A priority patent/EP1240932A3/en
Priority to US09/961,073 priority patent/US6733250B2/en
Priority to KR1020010059669A priority patent/KR20020073372A/ko
Publication of JP2002273113A publication Critical patent/JP2002273113A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D19/00—Degasification of liquids
    • B01D19/0031—Degasification of liquids by filtration
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/60—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor integrally combined with devices for controlling the filtration
    • B01D29/605—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor integrally combined with devices for controlling the filtration by level measuring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/88—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices
    • B01D29/885—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices with internal recirculation through the filtering element
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/88—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices
    • B01D29/90—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices for feeding
    • B01D29/902—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices for feeding containing fixed liquid displacement elements or cores
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/26—Filters with built-in pumps filters provided with a pump mounted in or on the casing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D36/00—Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/001—Filters in combination with devices for the removal of gas, air purge systems
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D37/00—Processes of filtration
    • B01D37/04—Controlling the filtration
    • B01D37/045—Controlling the filtration by level measuring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D37/00—Processes of filtration
    • B01D37/04—Controlling the filtration
    • B01D37/046—Controlling the filtration by pressure measuring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
    • B01D61/18—Apparatus therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
    • B01D61/20—Accessories; Auxiliary operations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D63/00—Apparatus in general for separation processes using semi-permeable membranes
    • B01D63/02—Hollow fibre modules
    • B01D63/024—Hollow fibre modules with a single potted end
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2313/00—Details relating to membrane modules or apparatus
    • B01D2313/50—Specific extra tanks

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い清浄度の薬液を塗布し得るようにするこ
とである。 【解決手段】 液体タンク３から供給される薬液を収容
する液体貯留室８と液体貯留室８の薬液をフィルタ１１
により濾過してポンプ１６に供給する濾過材収容室９と
が一体に形成された濾過器４をポンプ１６と一体に設
け、液体貯留室８と液体タンク３とを連通する液体導入
流路２と液体貯留室８の内部の空気を排気する排気流路
１３と、濾過材収容室９とポンプ１６とを連通するポン
プ入口側流路１５を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、濾過器およびフォ
トレジスト液などの薬液を一定量吐出するようにした薬
液供給装置並びに薬液供給方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ製造技術を始めとして、液
晶基板製造技術、磁気ディスク製造技術および多層配線
基盤製造技術などの種々の技術分野における製造プロセ
スにあっては、フォトレジスト液、スピニオンガラス
液、ポリイミド樹脂液、純水、エッチング液、有機溶剤
などの薬液が使用されており、これらの薬液の塗布には
薬液供給装置が用いられている。
【０００３】たとえば、半導体ウエハの表面にフォトレ
ジスト液を塗布する場合には、半導体ウエハを水平面内
において回転させた状態のもとで、半導体ウエハの表面
にフォトレジスト液を薬液供給装置により一定量滴下す
るようにしている。このような薬液供給装置にあって
は、フォトレジスト液などの薬液を吐出するために、特
開平11-230048号公報や特開平10-61558号公報に示され
るような弾性変形自在のチューブやべローズからなるポ
ンプ部材を有するポンプが用いられている。
【０００４】半導体ウエハの表面に塗布されるフォトレ
ジスト液が気泡や異物を含んでいると、半導体集積回路
装置の製造歩留まりが低下することになる。そのため、
このようなフォトレジスト液の塗布のために用いられる
薬液供給装置にあっては、フォトレジスト液の中の気泡
や異物を除去するためにフィルタが設けられている。
【０００５】フィルタはポンプの１次側もしくは２次側
に配置されており、フォトレジスト液などの薬液はポン
プの吐出圧によってフィルタを透過することにより清浄
度を高めるようになっている。そのため、フィルタの表
面には異物などが徐々に付着して目詰まりが発生するこ
とになり、フィルタの定期的な交換が必要となるが、そ
の際、濾過材を覆う筐体ごと交換するのが近年一般的と
なっている。
【０００６】生産性を向上するためには、フォトレジス
ト液を半導体ウエハに対して連続的に塗布することが望
ましいので、液体タンクの中に収容されたフォトレジス
ト液が空となり、液体タンクを新たな液体タンクに交換
する際にも塗布作業を行うことができるようにすること
が必要である。そのため、液体タンクとポンプとの間に
はバッファタンクが配置されている。
【０００７】バッファタンクの内部には液体タンクから
流入した薬液が満たされており、ポンプはこのバッファ
タンクの底部に接続されたポンプ入口側流路を介してバ
ッファタンク内の薬液を吸入するようになっている。し
たがって、液体タンクを交換する際や液体タンクが空に
なった際にも、ポンプはその間バッファタンク内の薬液
を吸入することになるので、ポンプの中に気泡が吸入さ
れるのを防ぐことができる。液体タンクの交換が終了し
た後には、液体タンクの液面に圧力を加えてバッファタ
ンク内に再度薬液を満たし、バッファタンク内に溜まっ
た気泡を排気流路から排気するようにしている。
【０００８】このような薬液供給装置において、薬液の
清浄度を向上させるためには、その装置内の流路におい
て薬液が接する面つまり接液面を低減することが重要で
ある。そのためには薬液供給装置の構成を簡素化するこ
とが重要である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような薬
液供給装置では、フィルタとバッファタンクとは別体と
なっているため、それぞれを接続する流路が必要であ
り、また、空気抜きのための排気流路もそれぞれに設け
なければならないなど、薬液供給装置の構成を簡素化す
ることが困難であった。
【００１０】また、バッファタンクの内壁は液体タンク
が空になる度に空気にさらされることになるため、内壁
に付着して残っているフォトレジスト液が硬化またはゲ
ル化して異物となり、新たに供給されたフォトレジスト
液の中に混入することがある。これらの異物はフィルタ
での濾過も困難であり、また、バッファタンクはその役
割上容易に交換ができない構造となっているため、バッ
ファタンク内面から発生するフォトレジスト液の変質物
を除去することは困難であった。このため、製品の歩留
まりを低下させることになっていた。
【００１１】本発明の目的は、高い清浄度の薬液を塗布
し得るようにすることにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の濾過器は、底壁
部と側壁部と天壁部とを有し、濾過材が組み込まれる濾
過材収容室と、薬液を収容する液体貯留室とが内部に設
けられたフィルタ容器と、前記液体貯留室に連通して前
記フイルタ容器に設けられる液体流入ポートと、前記フ
ィルタ容器に設けられ、前記濾過材により濾過された液
体を案内する液体流出ポートと、前記液体貯留室に連通
して前記フィルタ容器に設けられ、前記液体貯留室内の
気体を排出する排気ポートとを有することを特徴とす
る。
【００１３】本発明の濾過器は、前記フィルタ容器は前
記濾過材を支持するとともに、前記フィルタ容器内を下
部の濾過材収容室と上部の液体貯留室とに区画するアダ
プターを有し、前記アダプターは濾過された薬液を前記
液体流出ポートに案内する濾過液案内路を有することを
特徴とする。
【００１４】本発明の濾過器は、前記フィルタ容器は前
記液体貯留室と前記濾過材収容室とを区画する仕切壁を
有し、前記仕切壁の下端部に前記液体貯留室と前記濾過
材収容室とを連通させる連通孔を形成したことを特徴と
する。
【００１５】本発明の濾過器は、前記濾過材収容室に連
通して前記フィルタ容器に設けられる排気ポートを有す
ることを特徴とする。
【００１６】本発明の濾過器は、前記液体貯留室内の薬
液の液位を検出する液位検出手段を有することを特徴と
する。
【００１７】本発明の薬液供給装置は、吐出ノズルが設
けられた液体吐出流路が接続される液体吐出口と、液体
流入口とを有するポンプと、濾過材が組み込まれる濾過
材収容室と薬液を収容する液体貯留室とが内部に設けら
れたフィルタ容器と、液体タンクに接続される液体導入
流路が接続され、前記液体貯留室に連通して前記フィル
タ容器に形成された液体流入ポートと、前記フィルタ容
器に形成され、前記液体流入口に接続されるポンプ入口
側流路が接続される液体流出ポートと、前記フィルタ容
器に前記液体貯留室に連通して形成され、前記液体貯留
室内の気体を排出する排気ポートとを有することを特徴
とする。
【００１８】本発明の薬液供給装置は、前記フィルタ容
器を前記ポンプと一体に設けたことを特徴とする。
【００１９】本発明の薬液供給装置は、前記ポンプと前
記液体貯留室とを接続する戻し流路が設けられ、前記ポ
ンプ内の薬液および気体が前記液体貯留室へ移動可能で
あることを特徴とする。
【００２０】本発明の薬液供給装置は、濾過材が組み込
まれる濾過材収容室と薬液を収容する液体貯留室とが内
部に設けられたフィルタ容器と、液体タンクに接続され
る液体導入流路が接続され、前記液体貯留室に連通して
前記フィルタ容器に形成された液体流入ポートと、前記
フィルタ容器に形成され、吐出ノズルが設けられた液体
吐出流路が接続される液体流出ポートと、前記フィルタ
容器に前記液体貯留室に連通して形成され、前記液体貯
留室内の気体を排出する排気ポートと前記液体タンクの
液面を加圧することにより、前記液体貯留室の薬液を前
記吐出ノズルに圧送する圧送手段とを有することを特徴
とする。
【００２１】本発明の薬液供給装置は、前記フィルタ容
器を着脱自在としたことを特徴とする。
【００２２】本発明の薬液供給装置は、前記液体貯留室
内の薬液の液位を検出する液位検出手段を有することを
特徴とする。
【００２３】本発明の薬液供給装置は、前記液体導入流
路に液体が存在するか否かを検出する液体検出手段を有
することを特徴する。
【００２４】本発明の薬液供給装置は、前記排気ポート
に接続された排気流路内に液体が存在するか否かを検出
する液体検出手段を有することを特徴とする。
【００２５】本発明の薬液供給方法は、吐出ノズルが設
けられた液体吐出流路が接続される液体吐出口と、液体
流入口とを有するポンプと、濾過材が組み込まれる濾過
材収容室と薬液を収容する液体貯留室とが内部に設けら
れたフィルタ容器と、前記液体貯留室に液体導入流路を
介して接続される液体タンクと、前記液体貯留室内の薬
液の液位を検出する液位検出手段とを有する薬液供給装
置を用いた薬液供給方法であって、前記液位検出手段に
より前記液体貯留室内の薬液の液位が所定値以下となっ
たときに、前記液体タンクが空となったことを検出する
空検出工程と、前記液体タンクを初期状態に設定する充
填工程と、前記液体タンク内の薬液を前記液体貯留室内
に前記液位が前記所定値以上となるように注入する注入
工程とを有し、前記ポンプを作動させて前記吐出ノズル
からの薬液吐出供給動作を行いながら、前記液体貯留室
に薬液を注入することを特徴とする。
【００２６】本発明の薬液供給方法は、濾過材が組み込
まれる濾過材収容室と薬液を収容する液体貯留室とが内
部に設けられたフィルタ容器と、前記液体貯留室に液体
導入流路を介して接続される液体タンクと、前記液体タ
ンクの液面を加圧することにより、前記液体貯留室の薬
液を前記吐出ノズルに圧送する圧送手段と、前記液体貯
留室内の薬液の液位を検出する液位検出手段とを有する
薬液供給装置を用いた薬液供給方法であって、前記液位
検出手段により前記液体貯留室内の薬液の液位が所定値
以下となったときに、前記液体タンクが空となったこと
を検出する空検出工程と、前記液体タンクを初期状態に
設定する充填工程と、前記液体タンク内の薬液を前記液
体貯留室内に前記液位が前記所定値以上となるように注
入する注入工程とを有し、前記圧送手段により前記吐出
ノズルからの薬液吐出供給動作を行いながら、前記液体
貯留室に薬液を注入することを特徴とする。
【００２７】本発明の薬液供給方法は、吐出ノズルが設
けられた液体吐出流路が接続される液体吐出口と液体流
入口とを有するポンプと、濾過材が組み込まれる濾過材
収容室と薬液を収容する液体貯留室とが内部に設けられ
たフィルタ容器と、前記液体貯留室に液体導入流路を介
して接続される液体タンクと、前記液体貯留室内の薬液
の液位を検出する液位検出手段と、前記液体導入流路内
の液体を検出する液体検出手段とを有する薬液供給装置
を用いた薬液供給方法であって、前記液体検出手段が前
記液体導入流路内に液体が存在しないことを検出したと
きには、前記液体タンク内の薬液が空となったことを検
出する空検出工程と、前記液体タンクを初期状態に設定
する充填工程と、前記液体タンク内の薬液を、前記液位
検出手段により検出される前記液体貯留室内の薬液の液
位が所定値以上となるように前記液体貯留室内に注入す
る注入工程とを有し、前記ポンプを作動させて前記吐出
ノズルからの薬液吐出供給動作を行いながら、前記液体
貯留室に薬液を注入することを特徴とする。
【００２８】本発明の薬液供給方法は、濾過材が組み込
まれる濾過材収容室と薬液を収容する液体貯留室とが内
部に設けられたフィルタ容器と、前記液体貯留室に液体
導入流路を介して接続される液体タンクと、前記液体タ
ンクの液面を加圧することにより、前記液体貯留室の薬
液を前記吐出ノズルに圧送する圧送手段と、前記液体導
入流路内の液体を検出する液体検出手段とを有する薬液
供給装置を用いた薬液供給方法であって、前記液体検出
手段が前記液体導入流路内に液体が存在しないことを検
出したときには、前記液体タンク内の薬液が空となった
ことを検出する空検出工程と、前記液体タンクを初期状
態に設定する充填工程と、前記液体タンク内の薬液を、
前記液位検出手段により検出される前記液体貯留室内の
薬液の液位が所定値以上となるように前記液体貯留室内
に注入する注入工程とを有し、前記圧送手段により前記
吐出ノズルからの薬液吐出供給動作を行いながら、前記
液体貯留室に薬液を注入することを特徴とする。
【００２９】本発明の薬液供給方法は、前記注入工程に
おいて前記薬液貯留室内に入り込んだ気体を排気流路か
ら排気する排気工程を有することを特徴とする。
【００３０】本発明の薬液供給方法は、前記液体貯留室
内の液位が最低液位となったことが最低液位検出手段に
より検出されたときに警報を出力する警報出力工程を有
することを特徴とする。
【００３１】本発明にあっては、フィルタ容器の内部に
液体貯留室と濾過材収容室とを一体に設けたことによ
り、薬液供給装置の構成を簡素化して接液面を減少させ
ることができるため、高い清浄度の薬液を塗布すること
ができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
【００３３】図１は本発明の一実施の形態である薬液供
給装置を示す斜視図であり、図２は図１に示す薬液供給
装置の詳細を示す断面図である。また、図３は図２に示
す濾過器を上部から見た一部切欠断面図である。
【００３４】図１に示す薬液供給装置は半導体ウエハに
対してフォトレジスト液を塗布するために用いられるも
のである。
【００３５】この薬液供給装置の薬液供給装置本体１
は、ポンプ本体部を収容する収容部１ａとポンプ駆動部
を収容する収容部１ｂとにより形成されている。収容部
１ｂには取付部１ｄ，１ｅが設けられており、この薬液
供給装置本体１を所定の場所に固定することができるよ
うになっている。
【００３６】収容部１ａには、流入側開閉弁Ｖ１が設け
られた液体導入流路２を介して液体タンク３に連通する
濾過器４が取り付けられている。この濾過器４は、着脱
機構を有するブラケット５とフィルタ容器６とにより構
成されており、フィルタ容器６は薬液供給装置本体１に
対して着脱自在に装着されてポンプと一体となってい
る。
【００３７】フィルタ容器６は底壁部６ａと円筒状に形
成された側壁部６ｂと天壁部６ｃとにより構成されてお
り、その内部にはアダプタ７が設けられている。このア
ダプタ７によりフィルタ容器６の内部は、その上部に位
置する液体貯留室８と下部に位置する濾過材収容室９と
に区画されている。
【００３８】液体貯留室８は、天壁部６ｃに設けられた
液体流入ポート１０に接続された液体導入流路２を介し
て液体タンク３と連通しており、液体タンク３から供給
されるフォトレジスト液を収容できるようになってい
る。この液体貯留室８に液体を収容することにより、別
途バッファタンクを設ける必要がない。
【００３９】このフォトレジスト液を濾過するために、
液体貯留室８の下部に設けられた濾過材収容室９には、
アダプタ７に支持された濾過材としてのフィルタ１１が
組み込まれている。このフィルタ１１は中空糸膜により
形成されており、フォトレジスト液がこの中空糸膜を透
過することによりフォトレジスト液内に含まれる異物や
気泡がフィルタ１１の表面に捕集されるようになってい
る。また、液体貯留室８と濾過材収容室９との間は連通
されているため、液体貯留室８にフォトレジスト液が満
たされた状態ではフィルタ１１は常にフォトレジスト液
中に浸るようになっている。
【００４０】このように、濾過器４にはバッファ機能を
有する液体貯留室８とフィルタ１１を収容する濾過材収
容室９とが一体に形成されているため、薬液供給装置の
構成を簡素化して接液面を減少させることができ、高い
清浄度の薬液を塗布することができる。また、フィルタ
１１は定期的に交換されることになるが、その際、同時
に液体貯留室８も交換されることになるため、液体貯留
室８の内壁に付着して硬化またはゲル化するフォトレジ
スト液による汚染を最小限に抑えることができる。
【００４１】さらに、天壁部６ｃに設けられた排気ポー
ト１２には排気開閉弁Ｖ２が設けられた排気流路１３が
接続されており、液体貯留室８の内部の気体を外部に排
出できるようになっている。従来、排気流路はバッファ
タンクとフィルタとにそれぞれ設けられていたが、本発
明の薬液供給装置では液体貯留室８と濾過材収容室９と
が一体に形成されているため排気流路１３は１本でよ
く、薬液供給装置の構成を簡素化して接液面を減少さ
せ、また、この薬液供給装置のメンテナンスを容易にす
ることができる。
【００４２】アダプタ７には、天壁部６ｃに設けられた
液体流出ポート１４と濾過材収容室９とを連通する濾過
液案内路７ａが設けられており、この液体流出ポート１
４には、吸入側開閉弁Ｖ３が設けられたポンプ入口側流
路１５が接続されている。また、ポンプ入口側流路１５
の他端はポンプ１６の液体流入口１６ａに接続されてい
る。
【００４３】ポンプ１６の液体吐出口１６ｂには吐出側
開閉弁Ｖ４が設けられた液体吐出流路１７が接続されて
おり、ポンプ１６から吐出された液体を吐出ノズル１８
に案内するようになっている。さらに、ポンプ１６の液
体吐出口１６ｃには戻し開閉弁Ｖ５が設けられた戻し流
路１９の一端が接続されており、この戻し流路１９の他
端は液体導入流路２に接続されている。
【００４４】図１に示すように、液体導入流路２と排気
流路１３と液体吐出流路１７とはそれぞれ収容部１ａに
おいて着脱機構を介して薬液供給装置本体１に接続され
ているため、これらの流路は容易に交換することが可能
であり、この薬液供給装置のメンテナンスが容易とな
る。
【００４５】濾過器４には、ブラケット５に固定されて
液位検出手段としてのセンサ２０と最低液位検出手段と
してのセンサ２１が設けられている。図３に示すよう
に、これらのセンサ２０，２１には濾過器４の側壁部６
ｂに設けられた凸部６ｄを挟むように発光部と受光部と
が設けられており、発光部から照射された光軸の透過ま
たは遮断を受光部で検知することによりフォトレジスト
液の有無を検出するようになっている。センサ２０は液
体貯留室８の内部に供給されるフォトレジスト液の液面
が最高となる位置に配置されており、センサ２１は液体
貯留室８の内部に供給されるフォトレジスト液の液面が
最低となる位置に配置されている。したがって、センサ
２０，２１により液体貯留室８の内部に収容されるフォ
トレジスト液の最高液面と最低液面とを検出することが
できる。本実施の形態にあっては、センサ２０，２１は
それぞれフォトレジスト液の液面が最高もしくは最低と
なる位置に配置されているがこれに限らず、これらの中
間位置に設けてもよい。また、これらのセンサ２０，２
１は光の透過と遮断による検出を行っているがこれに限
らず、光の屈折率を検出するタイプのものや、静電容量
の変化を検出するもの、または超音波の変化を検出する
ものなどを用いてもよい。さらに、本実施の形態にあっ
てはセンサ２０，２１は濾過器４の外部に設けられてい
るが、これを濾過器４の内部に設けるようにしてもよ
く、その場合、浮力を利用した検出手段を用いるように
してもよい。
【００４６】排気流路１３には液体検出手段としてのセ
ンサ２２が設けられており、排気流路１３の内部にフォ
トレジスト液が流入したことを検知できるようになって
いる。
【００４７】図４は、図２に示すポンプの詳細を示す断
面図であり、このポンプ１６のハウジング２３は内部に
収容室を有する円筒形状の本体部２３ａと、この両端に
設けられるジョイント部２３ｂ，２３ｃとを有してい
る。ジョイント部２３ｂには、ポンプ入口側流路１５が
接続される液体流入口１６ａと液体吐出流路１７が接続
される液体吐出口１６ｂとが設けられており、ジョイン
ト部２３ｃには戻し流路１９が接続される液体吐出口１
６ｃが設けられている。ジョイント部２３ｂ，２３ｃと
の間には、弾性材料にて形成された膨張収縮自在の可撓
性チューブ２４が本体部２３ａ内の収容室に位置して固
定されており、この可撓性チューブ２４の内部は膨張収
縮するポンプ室２５となっている。
【００４８】可撓性チューブ２４とハウジング２３との
間の空間は加圧室２６となっており、この中には液体な
どの非圧縮性流体ないし流動体である加圧媒体２７が、
ハウジング２３に形成された供給ポート２８から供給さ
れるようになっている。この加圧室２６の内部に加圧媒
体２７を加圧供給したり吸引排出することによって可撓
性チューブ２４を膨張収縮させるために、べローズポン
プ２９が流路３０により供給ポート２８に接続されてい
る。このべローズポンプ２９のポンプハウジング３１の
内部には、駆動ロッド３２によって膨張収縮自在となっ
たべローズ３３が組み込まれており、収容部１ａに収容
された電動モータやアクチュエータなどの駆動部により
駆動ロッド３２を往復動することにより可撓性チューブ
２４のポンプ室２５が膨張収縮され、ポンプ１６はポン
プ動作するようになっている。
【００４９】ポンプ１６のポンプ動作に伴い、開閉弁Ｖ
１〜Ｖ５の開閉を行いそれぞれの流路を開閉することに
より、この薬液供給装置はフォトレジスト液を塗布する
ための薬液吐出供給動作を行うことができる。なお、こ
れらの開閉弁Ｖ１〜Ｖ５としては、電気信号により作動
する電磁弁、または空気圧により作動するエアオペレー
トバルブなどを用いることができる。
【００５０】次にこの薬液供給装置の動作について説明
する。
【００５１】液体タンク３と液体貯留室８にフォトレジ
スト液を満たし、センサ２０，２１ともにフォトレジス
ト液を検出する初期状態とする。この状態で流入側開閉
弁Ｖ１と吸入側開閉弁Ｖ３とを開き、吐出側開閉弁Ｖ４
と戻し開閉弁Ｖ５と排気開閉弁Ｖ２とを閉じた状態とし
てポンプ１６を吸入動作させる。このポンプ１６の吸入
動作により、液体タンク３に収容されたフォトレジスト
液は液体導入流路２を介して液体貯留室８に供給され、
さらにフィルタ１１によって濾過された後ポンプ入口側
流路１５を介してポンプ１６の内部に吸入される。な
お、このとき液体貯留室８に満たされるフォトレジスト
液の液面はフィルタ１１の上面より上側に位置するため
ポンプ１６は気体を吸入することはない。
【００５２】吸入動作を終えた後、吐出側開閉弁Ｖ４を
開き、流入側開閉弁Ｖ１と吸入側開閉弁Ｖ３と戻し開閉
弁Ｖ５と排気開閉弁Ｖ２とを閉じた状態としてポンプ１
６を吐出動作させる。ポンプ１６の吐出動作により、ポ
ンプ１６の内部に吸入されていたフォトレジスト液は液
体吐出流路１７を介して吐出ノズル１８から吐出され半
導体ウエハの表面に塗布されることになる。なお、この
とき流入側開閉弁Ｖ１は開いていてもよい。このような
吸入動作と吐出動作とを交互に行うことにより、この薬
液供給装置は薬液吐出供給動作を行うことができる。
【００５３】この薬液供給装置は、フォトレジスト液の
清浄度を高めるために薬液の循環濾過を行うことができ
る。循環濾過は、吸入動作においてポンプ１６の内部に
フォトレジスト液を吸入した後、流入側開閉弁Ｖ１と戻
し開閉弁Ｖ５とを開き、吸入側開閉弁Ｖ３と吐出側開閉
弁Ｖ４と排気開閉弁Ｖ２とを閉じた状態でポンプ１６を
吐出動作させることにより行うことができる。この動作
を行うことにより、ポンプ１６の内部に吸入されたフォ
トレジスト液は、流路１９を介して液体導入流路２に戻
され、再度フィルタ１１を透過してポンプ１６に吸入さ
れることになるため、フォトレジスト液の清浄度を高め
ることができる。なお、本実施の形態に示す薬液供給装
置は、循環濾過を行うことができるようになっている
が、戻し流路１９を持たず、濾過器４の２次側に単純に
ポンプ１６が接続される回路としてもよい。
【００５４】薬液吐出供給動作により、液体タンク３に
満たされているフォトレジスト液は液体貯留室８に供給
されることになるため、薬液吐出供給動作を続けると液
体タンク３が空となり、液体貯留室８の内部の液面が低
下することになる。この状態のままさらに薬液吐出供給
動作を続けると、フィルタ１１がフォトレジスト液から
露出してポンプ１６は気体を吸入することになり、半導
体集積回路装置の製造歩留まりが低下することになる。
そのため、空となった液体タンク３にフォトレジスト液
を供給することが必要になる。
【００５５】本発明の薬液供給装置では、薬液吐出供給
動作を続けることにより液体タンク３が空になると、液
体貯留室８の内部の液面が所定値より低下して、空検出
工程として、センサ２０により液体タンク３が空である
ことが検出される。
【００５６】液体タンク３が空であることが検出される
と、液体タンク３にフォトレジスト液を充填する充填工
程を行い、液体タンク３を薬液で満たされた状態とす
る。本実施の形態では、液体タンク３にフォトレジスト
液を充填して初期状態に戻すようにしたが、空の液体タ
ンク３を取り外し、フォトレジスト液に満たされた新た
な液体タンク３と交換するようにしてもよい。
【００５７】フォトレジスト液の充填を完了した後に充
填完了の信号を入力すると、ポンプ１６は薬液吐出供給
動作の空き時間を利用して、本来の薬液吐出供給動作と
は別途に吸入動作を行い、次に排気開閉弁Ｖ２と戻し開
閉弁Ｖ５とを開き、その他の開閉弁を閉じた状態で吐出
動作を行う。この動作を繰り返すことにより、フォトレ
ジスト液が液体貯留室８に導入されるとともに、排気工
程として液体貯留室８の内部の気体が排気流路１３から
排気される。液体貯留室８の内部のフォトレジスト液が
所定値以上となり、排気流路１３からフォトレジスト液
が流出し始めると、センサ２２により初期状態に復帰し
たことが確認され、通常の薬液吐出供給動作を行うこと
になる。このような注入工程を行うことにより、本来の
薬液吐出供給動作を停止することなく液体貯留室８にフ
ォトレジスト液を注入することを可能とする。
【００５８】また、前記の注入工程とは別の方法とし
て、吸入動作においてポンプ１６に吐出予定量より多い
フォトレジスト液を吸入させて、次に排気開閉弁Ｖ２と
戻し開閉弁Ｖ５とを開き、その他の開閉弁を閉じた状態
で吐出動作を行い、吐出予定量より多い分だけを戻し流
路１９を介して液体貯留室８に導入する。その後、吐出
側開閉弁Ｖ４を開き、流入側開閉弁Ｖ１と吸入側開閉弁
Ｖ３と戻し開閉弁Ｖ５と排気開閉弁Ｖ２とを閉じた状態
としてポンプ１６を吐出動作させ、吐出予定量を吐出ノ
ズル１８から吐出するようにすることで、薬液吐出供給
動作を乱すことなく液体貯留室８にフォトレジスト液を
注入するようにしてもよい。
【００５９】また、これらの注入工程を薬液吐出供給動
作を中断した状態で行ってもよい。
【００６０】なお、本実施の形態においては、ポンプ１
６の動作により液体タンク３内のフォトレジスト液を液
体貯留室８に注入するようにしているがこれに限らず、
液体タンク３の液面を加圧することにより行うようにし
てもよい。この場合は、流入側開閉弁Ｖ１と排気開閉弁
Ｖ２とを開いた状態で液体タンク３の液面を窒素ガスに
より加圧して、液体貯留室８の内部にフォトレジスト液
を導入すると同時に排気工程として液体貯留室８の内部
の気体を排気流路１３から排気することになる。なお、
同様な方法により、液体タンク３が空ではなく、フォト
レジスト液中に溶け込んでいた気体が凝集して液体貯留
室８に溜まった場合やフィルタ１１に捕集された気泡が
凝集した場合などにも、これらの気体を排気することが
できる。
【００６１】液体タンク３にフォトレジスト液を充填す
る充填工程が行われず、さらに薬液吐出供給動を続け液
面が低下し続けると、液面の低下がセンサ２１に検出さ
れ、警報出力工程として、液体貯留室８の液位が最低で
あることの警報が出力されると同時に、この薬液供給装
置は停止することになる。
【００６２】上記に示す実施の形態では、空検出工程の
検出手段として濾過器４に設けられたセンサ２０が用い
られているが、これに限らず、液体導入流路２に図２に
破線で示す液体検出手段としてのセンサ３４を設け、こ
のセンサ３４が液体を検出しないことにより液体タンク
３が空であることを検出するようにしてもよい。なお、
このセンサ３４は、薬液供給装置本体１に一体的に設け
られるとは限らず、液体導入流路２上であればいずれの
場所に設けられていてもよく、例えば液体タンク３と液
体導入流路２との接続部に液体タンク３と一体に設ける
ようにしてもよい。
【００６３】図５は、比較例としての薬液供給装置の液
体の流れの概略を示す液体回路図であり、ポンプの１次
側にバッファタンクを有するものである。
【００６４】図５に示す薬液供給装置には、ポンプ１６
と液体タンク３との間にバッファタンク３５が設けられ
ており、液体タンク３の交換の際にはポンプ１６はこの
バッファタンク３５に収容された液体をその底部から吸
入するようになっている。したがって、液体タンク３が
空となることにより液体導入流路２から吸入される気体
はバッファタンク３５の上部に溜まることになるため、
ポンプ１６に空気が吸入されるのを防ぐことができる。
また、液体タンク３にフォトレジスト液を投入して液体
タンク３が液体で満たされると、液体タンク３の内部に
窒素ガスを導入してバッファタンク３５にフォトレジス
ト液を供給し、バッファタンク３５の上部に溜まった気
体を排気流路３６ａから排出するようにしている。
【００６５】しかし、このバッファタンク３５は、図５
に示すようにポンプ１６の２次側もしくは図中一点鎖線
で囲んで示すポンプ１６の１次側のいずれかに設けられ
るフィルタ３７とは別に設置されることになり、また、
バッファタンク３５とフィルタ３７にはそれぞれエア抜
き用の排気流路３６ａ，３６ｂが別々に設けられること
になるため、流路構成が複雑になり、接液面が多く、フ
ォトレジスト液の清浄度を向上することが困難である。
また、バッファタンク３５の内壁は液体タンク３が空に
なる度に空気にさらされることになるため、内壁に付着
して残っているフォトレジスト液が硬化またはゲル化し
て異物となり、新たに供給された液体の中に混入するこ
とになるが、バッファタンク３５はその役割上容易に交
換ができない構造となっているため、バッファタンク３
５の内面から発生するフォトレジスト液の変質物を除去
することは困難である。
【００６６】これに対して本発明の薬液供給装置では、
バッファ機能を有する液体貯留室８とフィルタ１１とを
収容する濾過材収容室９とは一体に形成されているた
め、この薬液供給装置の流路を簡素化して接液面を減少
させフォトレジスト液の清浄度を向上することができ
る。また、液体貯留室８は濾過器４とともに定期的に交
換されることになるため、内部にフォトレジスト液など
のゲル化した異物を蓄積することがないのでフォトレジ
スト液の清浄度を向上することができる。
【００６７】図６は図１に示す薬液供給装置の変形例で
あって、液体貯留室と濾過材収容室とを並列に配置した
場合を示す概略図である。
【００６８】図６に示す薬液供給装置は、基本的な部分
は図１に示すものと同様な構造となっているが、濾過器
３８のフィルタ容器３９の内部には仕切壁４０により液
体貯留室４１と濾過材収容室４２とが並列に区画形成さ
れている。
【００６９】液体貯留室４１と濾過材収容室４２とはそ
れぞれ仕切壁４０の下端部に形成された連通孔４３にお
いて互いに連通されており、液体タンク３から液体貯留
室４１に供給されたフォトレジスト液はこの連通孔４３
を介して濾過材収容室４２に供給され、フィルタ１１に
より濾過された後、ポンプ１６に吸入されるようになっ
ている。
【００７０】また、図２に示す場合と同様に、フィルタ
容器３９の側壁部３９ａの液体貯留室４１側には、液体
貯留室４１の内部に供給されるフォトレジスト液の液面
が最高となる位置に配置されたセンサ２０と、液体貯留
室４１の内部に供給される液体の液面が最低となる位置
に配置されたセンサ２１とが設けられている。なお、こ
れらのセンサ２０，２１に換えて、液体導入流路２に図
６に破線で示すセンサ３４を設けるようにしてもよい。
【００７１】連通孔４３はセンサ２１より下に位置して
設けられているため、液体タンク３が空となって液体貯
留室４１の液面が最低となる位置まで低下してもフィル
タ１１が液体から露出することはない。
【００７２】液体貯留室４１と濾過材収容室４２とが並
列に配置されたこの濾過器３８にあっては、濾過材収容
室４２に混入した気体を液体貯留室４１に連通する排気
ポート１２から排出することができない。そのため、こ
の濾過器３８のフィルタ容器３９の天壁部３９ｂには、
液体貯留室４１に連通する排気ポート１２とは別に濾過
材収容室４２に連通する排気ポート４４が設けられてお
り、濾過材収容室４２に混入した気体を排気ポート４４
から排出するようになっている。
【００７３】図７は図２に示す濾過器の変形例を示す断
面図である。
【００７４】図２に示す濾過器４では、それぞれ液体流
入ポート１０、排気ポート１２、液体流出ポート１４と
に接続される液体導入流路２，排気流路１３，ポンプ入
口側流路１５とはブラケット５により固定されていた
が、この濾過器４５ではそれぞれ液体流入ポート１０、
排気ポート１２、液体流出ポート１４とに切られたテー
パねじによって接続されるようになっている。このよう
に、テーパねじで接続することにより、接続部からの液
漏れを防ぐことができる。
【００７５】なお、これらのポート１０，１２，１４に
配管継手を取り付け、濾過器４と液体タンク３もしくは
ポンプ１６とを配管により接続して、濾過器４を薬液供
給装置本体１と別体に配置するようにしてもよい。
【００７６】また、濾過器４５の濾過材収容室９には、
シート状の膜により形成されたフィルタ４６が用いられ
ている。なお、フィルタとしては、図２に示す濾過器４
に用いられた中空糸膜により形成されたものや、図７に
示す濾過器４５に用いられたシート状の膜により形成さ
れたものに限らず、薬液を濾過することができるもので
あればいずれのものであってもよい。
【００７７】図８は、本発明の他の実施の形態である薬
液供給装置の詳細を示す断面図であり、ポンプの代わり
に圧送手段を用いた場合を示している。
【００７８】図８に示す薬液供給装置に用いられる濾過
器４は、図２に示すものと同一の構造となっており、そ
の機能についても同様となっている。
【００７９】この薬液供給装置の液体タンク３には、圧
送手段としての窒素ガス供給装置４７が、開閉弁Ｖ６が
設けられた流路４８を介して接続されており、開閉弁Ｖ
６を開くことにより、液体タンク３の内部に窒素ガスが
供給され、薬液の液面を加圧するようになっている。な
お、本実施の形態では、圧送手段として窒素ガス供給装
置４７を用いているがこれに限らず、他の気体を供給す
るようにしてもよい。
【００８０】また、液体導入流路２には流入側開閉弁Ｖ
１が設けられておらず、濾過器４のフィルタ容器６に設
けられた液体流出ポート１４には吐出側開閉弁Ｖ４が設
けられた液体吐出流路１７が接続されている。その他の
部分は図２に示す薬液供給装置と同様な構造となってい
る。
【００８１】このような構造により、開閉弁Ｖ６を開
き、液体タンク３の薬液の液面を加圧した状態として、
所定のタイミングで吐出側開閉弁Ｖ４を開くことによ
り、液体タンク３の薬液を濾過器４を介して吐出ノズル
１８から吐出することができる。
【００８２】本発明は前記実施の形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。例えば、本実施の形態では
ポンプ９は特開平11-230048号公報に示すような可撓性
チューブを有するポンプとしたがこれに限らず、例えば
特開平10-61558号公報に示すようなべローズポンプなど
いずれのポンプを用いてもよい。
【００８３】
【発明の効果】本発明によれば、液体貯留室とフィルタ
を収容する濾過材収容室とを一体に形成したことによ
り、薬液供給装置の流路を簡素化して接液面を減少さ
せ、高い清浄度の薬液を塗布することができる。
【００８４】また、従来の薬液供給装置ではバッファタ
ンクとフィルタとにそれぞれ設けられていた排気流路を
１つの排気流路とすることができるため、薬液供給装置
の構成を簡素化して接液面を減少させ、高い清浄度の薬
液を塗布することができる。
【００８５】さらに、濾過器を着脱自在に装着したこと
により、この薬液供給装置のメンテナンスを容易にする
ことができる。
【００８６】さらに、フィルタは定期的に交換されるこ
とになるが、その際、液体貯留室も同時に交換されるこ
とになるため、液体貯留室の内壁に付着して硬化または
ゲル化する薬液による汚染を最小限に抑えることがで
き、薬液の清浄度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態である薬液供給装置を示
す斜視図である。
【図２】図１に示す薬液供給装置の詳細を示す断面図で
ある。
【図３】図２に示す濾過器を上部から見た一部切欠断面
図である。
【図４】図２に示すポンプの詳細を示す断面図である。
【図５】比較例としての薬液供給装置の液体の流れの概
略を示す液体回路図である。
【図６】図２に示す薬液供給装置の変形例であって、液
体貯留室と濾過材収容室とを並列に配置した場合を示す
断面図である。
【図７】図２に示す濾過器の変形例を示す断面図であ
る。
【図８】本発明の他の実施の形態である薬液供給装置の
詳細を示す断面図である。
【符号の説明】
１ 薬液供給装置本体 １ａ，１ｂ 収容部 １ｄ，１ｅ 取付部 ２ 液体導入流路 ３ 液体タンク ４ 濾過器 ５ ブラケット ６ フィルタ容器 ６ａ 底壁部 ６ｂ 側壁部 ６ｃ 天壁部 ６ｄ 凸部 ７ アダプタ ７ａ 濾過液案内路 ８ 液体貯留室 ９ 濾過材収容室 １０ 液体流入ポート １１ フィルタ １２ 排気ポート １３ 排気流路 １４ 液体流出ポート １５ ポンプ入口側流路 １６ ポンプ １６ａ 液体流入口 １６ｂ，１６ｃ 液体吐出口 １７ 液体吐出流路 １８ 吐出ノズル １９ 戻し流路 ２０，２１，２２ センサ ２３ ハウジング ２３ａ 本体部 ２３ｂ，２３ｃ ジョイント部 ２４ 可撓性チューブ ２５ ポンプ室 ２６ 加圧室 ２７ 加圧媒体 ２８ 供給ポート ２９ べローズポンプ ３０ 流路 ３１ ポンプハウジング ３２ 駆動ロッド ３３ べローズ ３４ センサ ３５ バッファタンク ３６ａ，３６ｂ 排気流路 ３７ フィルタ ３８ 濾過器 ３９ フィルタ容器 ３９ａ 側壁部 ３９ｂ 天壁部 ４０ 仕切壁 ４１ 液体貯留室 ４２ 濾過材収容室 ４３ 連通孔 ４４ 排気ポート ４５ 濾過器 ４６ フィルタ ４７ 窒素ガス供給装置 ４８ 流路 Ｖ１ 流入側開閉弁 Ｖ２ 排気開閉弁 Ｖ３ 吸入側開閉弁 Ｖ４ 吐出側開閉弁 Ｖ５ 戻し開閉弁 Ｖ６ 開閉弁
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 4/00 １０３ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１ ４Ｆ０４２ Ｆ０４Ｂ 53/20 Ｂ０５Ｃ 11/10 ４Ｇ０６８ 23/02 Ｂ０１Ｄ 29/42 ５０１Ｃ ５Ｆ０４６ 49/00 ３３１ ５１０ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１ 35/02 Ｚ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｆ０４Ｂ 21/06 Ｂ // Ｂ０５Ｃ 11/10 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ Ｆターム(参考） 2H025 AA18 AB16 AB20 EA04 3H045 AA08 AA12 AA15 BA19 BA25 CA16 DA01 EA34 3H071 AA15 BB01 CC44 DD04 DD31 DD61 DD72 4D064 AA40 EA00 4D066 BB31 EA06 EA08 4F042 AA07 BA09 CA01 CB02 CB11 CB19 CB25 4G068 AA02 AB15 AD21 AF25 AF28 5F046 JA03 JA04

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 底壁部と側壁部と天壁部とを有し、濾過
    材が組み込まれる濾過材収容室と、薬液を収容する液体
    貯留室とが内部に設けられたフィルタ容器と、 前記液体貯留室に連通して前記フイルタ容器に設けられ
    る液体流入ポートと、 前記フィルタ容器に設けられ、前記濾過材により濾過さ
    れた液体を案内する液体流出ポートと、 前記液体貯留室に連通して前記フィルタ容器に設けら
    れ、前記液体貯留室内の気体を排出する排気ポートとを
    有することを特徴とする濾過器。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の濾過器において、前記フ
    ィルタ容器は前記濾過材を支持するとともに、前記フィ
    ルタ容器内を下部の濾過材収容室と上部の液体貯留室と
    に区画するアダプターを有し、前記アダプターは濾過さ
    れた薬液を前記液体流出ポートに案内する濾過液案内路
    を有することを特徴とする濾過器。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の濾過器において、前記フ
    ィルタ容器は前記液体貯留室と前記濾過材収容室とを区
    画する仕切壁を有し、前記仕切壁の下端部に前記液体貯
    留室と前記濾過材収容室とを連通させる連通孔を形成し
    たことを特徴とする濾過器。
  4. 【請求項４】 請求項３記載の濾過器において、前記濾
    過材収容室に連通して前記フィルタ容器に設けられる排
    気ポートを有することを特徴とする濾過器。
  5. 【請求項５】 請求項１から４のいずれか１項に記載の
    濾過器において、前記液体貯留室内の薬液の液位を検出
    する液位検出手段を有することを特徴とする濾過器。
  6. 【請求項６】 吐出ノズルが設けられた液体吐出流路が
    接続される液体吐出口と、液体流入口とを有するポンプ
    と、 濾過材が組み込まれる濾過材収容室と薬液を収容する液
    体貯留室とが内部に設けられたフィルタ容器と、 液体タンクに接続される液体導入流路が接続され、前記
    液体貯留室に連通して前記フィルタ容器に形成された液
    体流入ポートと、 前記フィルタ容器に形成され、前記液体流入口に接続さ
    れるポンプ入口側流路が接続される液体流出ポートと、 前記フィルタ容器に前記液体貯留室に連通して形成さ
    れ、前記液体貯留室内の気体を排出する排気ポートとを
    有することを特徴とする薬液供給装置。
  7. 【請求項７】 請求項６記載の薬液供給装置において、
    前記フィルタ容器を前記ポンプと一体に設けたことを特
    徴とする薬液供給装置。
  8. 【請求項８】 請求項６または７記載の薬液供給装置に
    おいて、前記ポンプと前記液体貯留室とを接続する戻し
    流路が設けられ、前記ポンプ内の薬液および気体が前記
    液体貯留室へ移動可能であることを特徴とする薬液供給
    装置。
  9. 【請求項９】 濾過材が組み込まれる濾過材収容室と薬
    液を収容する液体貯留室とが内部に設けられたフィルタ
    容器と、 液体タンクに接続される液体導入流路が接続され、前記
    液体貯留室に連通して前記フィルタ容器に形成された液
    体流入ポートと、 前記フィルタ容器に形成され、吐出ノズルが設けられた
    液体吐出流路が接続される液体流出ポートと、 前記フィルタ容器に前記液体貯留室に連通して形成さ
    れ、前記液体貯留室内の気体を排出する排気ポートと前
    記液体タンクの液面を加圧することにより、前記液体貯
    留室の薬液を前記吐出ノズルに圧送する圧送手段とを有
    することを特徴とする薬液供給装置。
  10. 【請求項１０】 請求項６〜９のいずれか１項に記載の
    薬液供給装置において、前記フィルタ容器を着脱自在と
    したことを特徴とする薬液供給装置。
  11. 【請求項１１】 請求項６〜１０のいずれか１項に記載
    の薬液供給装置において、前記液体貯留室内の薬液の液
    位を検出する液位検出手段を有することを特徴とする薬
    液供給装置。
  12. 【請求項１２】 請求項６〜１１のいずれか１項に記載
    の薬液供給装置において、前記液体導入流路に液体が存
    在するか否かを検出する液体検出手段を有することを特
    徴する薬液供給装置。
  13. 【請求項１３】 請求項６〜１２のいずれか１項に記載
    の薬液供給装置において、前記排気ポートに接続された
    排気流路内に液体が存在するか否かを検出する液体検出
    手段を有することを特徴とする薬液供給装置。
  14. 【請求項１４】 吐出ノズルが設けられた液体吐出流路
    が接続される液体吐出口と、液体流入口とを有するポン
    プと、濾過材が組み込まれる濾過材収容室と薬液を収容
    する液体貯留室とが内部に設けられたフィルタ容器と、
    前記液体貯留室に液体導入流路を介して接続される液体
    タンクと、前記液体貯留室内の薬液の液位を検出する液
    位検出手段とを有する薬液供給装置を用いた薬液供給方
    法であって、 前記液位検出手段により前記液体貯留室内の薬液の液位
    が所定値以下となったときに、前記液体タンクが空とな
    ったことを検出する空検出工程と、 前記液体タンクを初期状態に設定する充填工程と、 前記液体タンク内の薬液を前記液体貯留室内に前記液位
    が前記所定値以上となるように注入する注入工程とを有
    し、 前記ポンプを作動させて前記吐出ノズルからの薬液吐出
    供給動作を行いながら、前記液体貯留室に薬液を注入す
    ることを特徴とする薬液供給方法。
  15. 【請求項１５】 濾過材が組み込まれる濾過材収容室と
    薬液を収容する液体貯留室とが内部に設けられたフィル
    タ容器と、前記液体貯留室に液体導入流路を介して接続
    される液体タンクと、前記液体タンクの液面を加圧する
    ことにより、前記液体貯留室の薬液を前記吐出ノズルに
    圧送する圧送手段と、前記液体貯留室内の薬液の液位を
    検出する液位検出手段とを有する薬液供給装置を用いた
    薬液供給方法であって、 前記液位検出手段により前記液体貯留室内の薬液の液位
    が所定値以下となったときに、前記液体タンクが空とな
    ったことを検出する空検出工程と、 前記液体タンクを初期状態に設定する充填工程と、 前記液体タンク内の薬液を前記液体貯留室内に前記液位
    が前記所定値以上となるように注入する注入工程とを有
    し、 前記圧送手段により前記吐出ノズルからの薬液吐出供給
    動作を行いながら、前記液体貯留室に薬液を注入するこ
    とを特徴とする薬液供給方法。
  16. 【請求項１６】 吐出ノズルが設けられた液体吐出流路
    が接続される液体吐出口と液体流入口とを有するポンプ
    と、濾過材が組み込まれる濾過材収容室と薬液を収容す
    る液体貯留室とが内部に設けられたフィルタ容器と、前
    記液体貯留室に液体導入流路を介して接続される液体タ
    ンクと、前記液体貯留室内の薬液の液位を検出する液位
    検出手段と、前記液体導入流路内の液体を検出する液体
    検出手段とを有する薬液供給装置を用いた薬液供給方法
    であって、 前記液体検出手段が前記液体導入流路内に液体が存在し
    ないことを検出したときには、前記液体タンク内の薬液
    が空となったことを検出する空検出工程と、 前記液体タンクを初期状態に設定する充填工程と、 前記液体タンク内の薬液を、前記液位検出手段により検
    出される前記液体貯留室内の薬液の液位が所定値以上と
    なるように前記液体貯留室内に注入する注入工程とを有
    し、 前記ポンプを作動させて前記吐出ノズルからの薬液吐出
    供給動作を行いながら、前記液体貯留室に薬液を注入す
    ることを特徴とする薬液供給方法。
  17. 【請求項１７】 濾過材が組み込まれる濾過材収容室と
    薬液を収容する液体貯留室とが内部に設けられたフィル
    タ容器と、前記液体貯留室に液体導入流路を介して接続
    される液体タンクと、前記液体タンクの液面を加圧する
    ことにより、前記液体貯留室の薬液を前記吐出ノズルに
    圧送する圧送手段と、前記液体導入流路内の液体を検出
    する液体検出手段とを有する薬液供給装置を用いた薬液
    供給方法であって、 前記液体検出手段が前記液体導入流路内に液体が存在し
    ないことを検出したときには、前記液体タンク内の薬液
    が空となったことを検出する空検出工程と、 前記液体タンクを初期状態に設定する充填工程と、 前記液体タンク内の薬液を、前記液位検出手段により検
    出される前記液体貯留室内の薬液の液位が所定値以上と
    なるように前記液体貯留室内に注入する注入工程とを有
    し、 前記圧送手段により前記吐出ノズルからの薬液吐出供給
    動作を行いながら、前記液体貯留室に薬液を注入するこ
    とを特徴とする薬液供給方法。
  18. 【請求項１８】 請求項１４〜１７のいずれか１項に記
    載の薬液供給方法において、前記注入工程において前記
    薬液貯留室内に入り込んだ気体を排気流路から排気する
    排気工程を有することを特徴とする薬液供給方法。
  19. 【請求項１９】 請求項１４〜１８のいずれか１項に記
    載の薬液供給方法において、前記液体貯留室内の液位が
    最低液位となったことが最低液位検出手段により検出さ
    れたときに警報を出力する警報出力工程を有することを
    特徴とする薬液供給方法。
JP2001073484A 2001-03-15 2001-03-15 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法 Pending JP2002273113A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001073484A JP2002273113A (ja) 2001-03-15 2001-03-15 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法
EP01402405A EP1240932A3 (en) 2001-03-15 2001-09-19 Filter unit, chemical liquid supply system, and chemical liquid supply method
US09/961,073 US6733250B2 (en) 2001-03-15 2001-09-21 Filter unit, chemical liquid supply system, and chemical liquid supply method
KR1020010059669A KR20020073372A (ko) 2001-03-15 2001-09-26 여과기, 약액공급장치 및 약액공급방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001073484A JP2002273113A (ja) 2001-03-15 2001-03-15 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002273113A true JP2002273113A (ja) 2002-09-24

Family

ID=18930900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001073484A Pending JP2002273113A (ja) 2001-03-15 2001-03-15 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6733250B2 (ja)
EP (1) EP1240932A3 (ja)
JP (1) JP2002273113A (ja)
KR (1) KR20020073372A (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007010794A1 (ja) * 2005-07-19 2007-01-25 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置およびレジスト組成物
JP2008072096A (ja) * 2006-08-15 2008-03-27 Tokyo Electron Ltd バッファタンク、中間貯留装置、液処理装置及び処理液の供給方法
JP2008303808A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Nippon Pillar Packing Co Ltd 液体ポンプシステム
JP2009131811A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Horiba Ltd 濾過方法及び濾過装置
US7708880B2 (en) * 2001-12-28 2010-05-04 Koganel Corporation Chemical liquid supply apparatus and a chemical liquid supply method
JP2013516319A (ja) * 2010-01-06 2013-05-13 アドバンスド テクノロジー マテリアルズ，インコーポレイテッド 気体除去および検出能力を有する液体分配システム
JP2014093507A (ja) * 2012-11-07 2014-05-19 Sokudo Co Ltd 処理液供給装置およびこれを備えた基板処理装置
JP2015088702A (ja) * 2013-11-01 2015-05-07 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置及び処理液供給方法
JP2015106656A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 東京エレクトロン株式会社 フィルター装置
JP2017506838A (ja) * 2014-01-27 2017-03-09 東京エレクトロン株式会社 フォトレジストディスペンスシステムのためのアクティブフィルタ技術
JP2019044672A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス ポンプ装置、処理液供給装置、基板処理装置、液抜き方法および液置換方法
JP2020129671A (ja) * 2015-04-03 2020-08-27 キヤノン株式会社 インプリント材吐出装置

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6378907B1 (en) * 1996-07-12 2002-04-30 Mykrolis Corporation Connector apparatus and system including connector apparatus
ATE446800T1 (de) * 2000-05-12 2009-11-15 Pall Corp Filter
US6846409B2 (en) * 2000-09-13 2005-01-25 Mykrolis Corporation Liquid filtration device
JP4731811B2 (ja) * 2001-09-13 2011-07-27 インテグリス・インコーポレーテッド 分離モジュールおよび固定レセプターを備えたシステムならびに分離モジュール
US7469932B2 (en) * 2001-09-13 2008-12-30 Entegris, Inc. Receptor for a separation module
JP3890229B2 (ja) 2001-12-27 2007-03-07 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給装置の脱気方法
JP4454350B2 (ja) * 2004-03-23 2010-04-21 株式会社コガネイ 薬液供給装置
JP4511868B2 (ja) * 2004-04-26 2010-07-28 株式会社コガネイ 可撓性タンクとこれを用いた薬液供給装置
KR100772844B1 (ko) * 2005-11-30 2007-11-02 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 감광액 공급장치
KR100841085B1 (ko) * 2007-02-01 2008-06-24 세메스 주식회사 액체 공급 장치
EP2060310A1 (en) * 2007-11-14 2009-05-20 Delphi Technologies, Inc. Filter for fluid
SG10201405659QA (en) 2009-07-09 2014-11-27 Advanced Tech Materials Substantially rigid collapsible liner and flexible gusseted or non-gusseted liners and methods of manufacturing the same and methods for limiting choke-off in liners
JP5038378B2 (ja) * 2009-11-11 2012-10-03 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給方法
JP5114527B2 (ja) * 2010-04-20 2013-01-09 株式会社コガネイ 液体供給装置
EP2643094A4 (en) 2010-11-23 2017-05-24 Advanced Technology Materials, Inc. Liner-based dispenser
BR112013022316A2 (pt) 2011-03-01 2017-05-30 Advanced Tech Materials sistema baseado em revestimento interno, e, método para prover um sistema baseado em revestimento interno
US8911552B2 (en) * 2011-08-12 2014-12-16 Wafertech, Llc Use of acoustic waves for purging filters in semiconductor manufacturing equipment
JP5741549B2 (ja) * 2012-10-09 2015-07-01 東京エレクトロン株式会社 処理液供給方法、処理液供給装置及び記憶媒体
KR20150129647A (ko) * 2012-11-19 2015-11-20 카스트롤 리미티드 교체가능한 유체 콘테이너
US10132309B2 (en) 2013-03-15 2018-11-20 Integrated Designs, L.P. Apparatus and method for the remote monitoring, viewing and control of a semiconductor process tool
US20140370439A1 (en) * 2013-06-14 2014-12-18 Globalfoundries Inc. Methods and systems for reducing bubbles in layers of photoresist material
GB201316347D0 (en) * 2013-09-13 2013-10-30 Cancer Rec Tech Ltd Biological fluid filtration assembly
US10533932B2 (en) * 2013-09-13 2020-01-14 Cancer Research Technology Limited Apparatus and methods for liquid separation and capture of biologics
DE102016117639B4 (de) * 2016-09-19 2021-12-09 Sartorius Stedim Biotech Gmbh Einweg-Filterkapsel mit kontaktloser Flüssigkeitskontrolle und Verfahren zum kontaktlosen Kontrollieren der Flüssigkeitsfüllung einer Einweg-Filterkapsel
JP6966260B2 (ja) * 2017-08-30 2021-11-10 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス ポンプ装置、処理液供給装置および基板処理装置
CN109569081B (zh) 2018-12-04 2021-02-26 惠科股份有限公司 过滤装置和光阻涂布系统
CN114653136A (zh) * 2022-04-21 2022-06-24 四川科伦药业股份有限公司 一种用于脂肪乳注射液的过滤方法、过滤装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6115729A (ja) * 1984-06-29 1986-01-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 薬液供給方法および装置
JPH021211U (ja) * 1988-06-13 1990-01-08
JPH0230971A (ja) * 1988-07-20 1990-02-01 Nippon Denso Co Ltd 車両用燃料供給装置
JPH10281022A (ja) * 1997-04-08 1998-10-20 Toyota Motor Corp 内燃機関の制御装置
JPH11114329A (ja) * 1997-10-15 1999-04-27 Totoku Electric Co Ltd ろ過装置および残留原液回収ろ過方法
JP2000015082A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Kanto Chem Co Inc 安全検出型薬液供給装置
JP2000223393A (ja) * 1999-01-28 2000-08-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液供給装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6461558A (en) 1987-08-28 1989-03-08 Koseino Jushi Shinseizo Gijuts Apparatus for producing fiber reinforced resin sheet
US5762789A (en) * 1996-06-28 1998-06-09 Millipore Corporation Disposable membrane module with low-dead volume
US6378907B1 (en) * 1996-07-12 2002-04-30 Mykrolis Corporation Connector apparatus and system including connector apparatus
JP3554115B2 (ja) 1996-08-26 2004-08-18 株式会社コガネイ 薬液供給装置
US5792237A (en) * 1996-12-13 1998-08-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd Method and apparatus for eliminating trapped air from a liquid flow
US6048454A (en) * 1997-03-18 2000-04-11 Jenkins; Dan Oil filter pack and assembly
US5900045A (en) * 1997-04-18 1999-05-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.Ltd. Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line
US6171367B1 (en) * 1997-06-05 2001-01-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Method and apparatus for delivering and recycling a bubble-free liquid chemical
JP3865920B2 (ja) 1998-02-13 2007-01-10 株式会社コガネイ 薬液供給装置
JP4011210B2 (ja) * 1998-10-13 2007-11-21 株式会社コガネイ 薬液供給方法および薬液供給装置
JP3718118B2 (ja) * 2000-10-05 2005-11-16 株式会社コガネイ 液体吐出装置および液体吐出方法
US6554579B2 (en) * 2001-03-29 2003-04-29 Integrated Designs, L.P. Liquid dispensing system with enhanced filter

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6115729A (ja) * 1984-06-29 1986-01-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 薬液供給方法および装置
JPH021211U (ja) * 1988-06-13 1990-01-08
JPH0230971A (ja) * 1988-07-20 1990-02-01 Nippon Denso Co Ltd 車両用燃料供給装置
JPH10281022A (ja) * 1997-04-08 1998-10-20 Toyota Motor Corp 内燃機関の制御装置
JPH11114329A (ja) * 1997-10-15 1999-04-27 Totoku Electric Co Ltd ろ過装置および残留原液回収ろ過方法
JP2000015082A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Kanto Chem Co Inc 安全検出型薬液供給装置
JP2000223393A (ja) * 1999-01-28 2000-08-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液供給装置

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7708880B2 (en) * 2001-12-28 2010-05-04 Koganel Corporation Chemical liquid supply apparatus and a chemical liquid supply method
WO2007010794A1 (ja) * 2005-07-19 2007-01-25 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置およびレジスト組成物
JP2007025341A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置およびレジスト組成物
KR100982151B1 (ko) 2005-07-19 2010-09-14 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 조성물의 제조 방법, 여과 장치, 레지스트조성물의 도포 장치 및 레지스트 조성물
JP2008072096A (ja) * 2006-08-15 2008-03-27 Tokyo Electron Ltd バッファタンク、中間貯留装置、液処理装置及び処理液の供給方法
JP2008303808A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Nippon Pillar Packing Co Ltd 液体ポンプシステム
JP4610582B2 (ja) * 2007-06-08 2011-01-12 日本ピラー工業株式会社 液体ポンプシステム
JP2009131811A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Horiba Ltd 濾過方法及び濾過装置
JP2013516319A (ja) * 2010-01-06 2013-05-13 アドバンスド テクノロジー マテリアルズ，インコーポレイテッド 気体除去および検出能力を有する液体分配システム
JP2016163877A (ja) * 2010-01-06 2016-09-08 アドバンスド テクノロジー マテリアルズ，インコーポレイテッド 気体除去および検出能力を有する液体分配システム
US10676341B2 (en) 2010-01-06 2020-06-09 Entegris, Inc. Liquid dispensing systems with gas removal and sensing capabilities
JP2014093507A (ja) * 2012-11-07 2014-05-19 Sokudo Co Ltd 処理液供給装置およびこれを備えた基板処理装置
JP2015088702A (ja) * 2013-11-01 2015-05-07 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置及び処理液供給方法
JP2015106656A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 東京エレクトロン株式会社 フィルター装置
JP2017506838A (ja) * 2014-01-27 2017-03-09 東京エレクトロン株式会社 フォトレジストディスペンスシステムのためのアクティブフィルタ技術
JP2020129671A (ja) * 2015-04-03 2020-08-27 キヤノン株式会社 インプリント材吐出装置
JP2019044672A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス ポンプ装置、処理液供給装置、基板処理装置、液抜き方法および液置換方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6733250B2 (en) 2004-05-11
EP1240932A3 (en) 2002-11-06
KR20020073372A (ko) 2002-09-26
US20020131875A1 (en) 2002-09-19
EP1240932A2 (en) 2002-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002273113A (ja) 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法
TWI281702B (en) Chemical supplying device and chemical supplying method
KR100874564B1 (ko) 약액 공급장치 및 약액 공급장치의 탈기방법
JP4011210B2 (ja) 薬液供給方法および薬液供給装置
JP5038378B2 (ja) 薬液供給装置および薬液供給方法
KR100643494B1 (ko) 반도체 제조용 포토레지스트의 디스펜싱장치
US7887305B2 (en) Flexible tank and a chemical liquid supply apparatus using the same
TWI621472B (zh) 處理液供給裝置及處理液供給方法
KR101750647B1 (ko) 액 공급 장치 및 기판 처리 장치
KR20140129040A (ko) 액 처리 장치 및 액 처리 방법
JP2008072096A (ja) バッファタンク、中間貯留装置、液処理装置及び処理液の供給方法
JP3952771B2 (ja) 塗布装置
JP2007027764A (ja) フォトスピナー設備の噴射不良制御装置
JP2007303402A (ja) チューブフラムポンプ
JP7224906B2 (ja) モジュール基板の洗浄方法
JPH04122403A (ja) 液体供給装置及び脱泡方法
JP2007117787A (ja) 液体供給装置
KR20090059691A (ko) 약액 공급 장치
KR20070007450A (ko) 케미컬 필터상태 검출장치
JPH0719555Y2 (ja) 流体滴下供給装置
JP2017212359A (ja) フィルタユニットと薬液供給装置
KR20030082752A (ko) 감광액 공급펌프
KR20060036555A (ko) 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 필터링 장치
KR20120065896A (ko) 코팅 장치의 배관 장치 및 그 세정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070405

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080728

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090203

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090721