JPS6115729A - 薬液供給方法および装置 - Google Patents
薬液供給方法および装置Info
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- JPS6115729A JPS6115729A JP13611484A JP13611484A JPS6115729A JP S6115729 A JPS6115729 A JP S6115729A JP 13611484 A JP13611484 A JP 13611484A JP 13611484 A JP13611484 A JP 13611484A JP S6115729 A JPS6115729 A JP S6115729A
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- chemical solution
- container
- chemical
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/008—Feed or outlet control devices
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薬液の供給方法および装置に関する。
特に薬液を収容した密閉容器に不活性ガスを圧入し、該
容器に連通した管路に薬液を送り出すよ・うにした薬液
供給方法および装置に関する。
容器に連通した管路に薬液を送り出すよ・うにした薬液
供給方法および装置に関する。
たとえば、フオＩ−レジス１〜液、現像液、あるいはエ
ツチング液等を貯蔵容器から回転式基板処理装置の薬液
ノズルに供給する手段としては、特開昭５５−７８５２
９号公報や、特開昭５７−１１３２２６号公報に開示さ
れているように、加圧された窒素ガスを密閉された薬液
貯蔵容器に導入して、そのガス圧により薬液を管路に送
り出すようにした装置が知られている。第３図に、その
従来技術の概要を示す。
ツチング液等を貯蔵容器から回転式基板処理装置の薬液
ノズルに供給する手段としては、特開昭５５−７８５２
９号公報や、特開昭５７−１１３２２６号公報に開示さ
れているように、加圧された窒素ガスを密閉された薬液
貯蔵容器に導入して、そのガス圧により薬液を管路に送
り出すようにした装置が知られている。第３図に、その
従来技術の概要を示す。
薬液１を収容した、密閉容器であるタンク２に薬液送出
管である薬液供給管３を挿入し、その薬液供給管３の管
路の中間に自動弁４を、末端にノズル５をそれぞれ設置
する。該ノズル５の下方には、回転チャック７に被処理
基板６を保持し、所要回転数で回転させる。また、タン
ク２の」二面には気体送入管である加圧ガス圧入管８を
接続し、レギュレータ９を経て、窒素等のような不活性
ガスを加圧してタンク２に供給する。
管である薬液供給管３を挿入し、その薬液供給管３の管
路の中間に自動弁４を、末端にノズル５をそれぞれ設置
する。該ノズル５の下方には、回転チャック７に被処理
基板６を保持し、所要回転数で回転させる。また、タン
ク２の」二面には気体送入管である加圧ガス圧入管８を
接続し、レギュレータ９を経て、窒素等のような不活性
ガスを加圧してタンク２に供給する。
窒素ガスはレギュレータ９によって、所要の圧力に調整
されてタンク２内に圧入され、その圧力により密閉され
たタンク２内の薬液１を、薬液供給管３および自動開閉
弁４を経てノズル５から被処理基板６の面に撒布し、被
処理基板６に所要の表面処理、たとえば、現像処理、ま
たはエツチング処理等を行う。
されてタンク２内に圧入され、その圧力により密閉され
たタンク２内の薬液１を、薬液供給管３および自動開閉
弁４を経てノズル５から被処理基板６の面に撒布し、被
処理基板６に所要の表面処理、たとえば、現像処理、ま
たはエツチング処理等を行う。
」二連の加圧ガスにより、薬液を供給する従来装置にお
いては、一般的に不活性ガスである窒素ガスが使用され
るが、窒素ガスを空気中より分離するためには、−８、
空気を液化させた上で、他のガスとの茄宛温度の差を利
用して分層しているため、液体窒素を充填したボンへよ
り供給される窒素ガスの絶対湿度は、はとんど零に近い
。第３図示装置において、かかる乾燥した不活性ガスを
タンク２に供給すると、薬液１の溶媒または、蒸気圧の
高い成分が気化してガス中に吸収され薬液１の組成が変
化するという問題がある。
いては、一般的に不活性ガスである窒素ガスが使用され
るが、窒素ガスを空気中より分離するためには、−８、
空気を液化させた上で、他のガスとの茄宛温度の差を利
用して分層しているため、液体窒素を充填したボンへよ
り供給される窒素ガスの絶対湿度は、はとんど零に近い
。第３図示装置において、かかる乾燥した不活性ガスを
タンク２に供給すると、薬液１の溶媒または、蒸気圧の
高い成分が気化してガス中に吸収され薬液１の組成が変
化するという問題がある。
これは、純水のように単一成分の液の場合は、単にタン
ク２内の液量の変化にすぎないので問題となることは少
ないが、蒸気圧が異なる複数成分を有する薬液や、溶質
の含有パーセンテージを−１・定値に維持する必要があ
る薬液の場合には問題が生じる。
ク２内の液量の変化にすぎないので問題となることは少
ないが、蒸気圧が異なる複数成分を有する薬液や、溶質
の含有パーセンテージを−１・定値に維持する必要があ
る薬液の場合には問題が生じる。
また、加圧ガスの圧力によって、薬液を供給すル場合の
ほかに、薬液の酸化防止のため、タンク２内の空気を不
活性ガスで置換する場合にも、同様の問題がある。
ほかに、薬液の酸化防止のため、タンク２内の空気を不
活性ガスで置換する場合にも、同様の問題がある。
特に、近年、基板の加工精度の高度化にともない、従来
無視されていた薬液の僅少な質的変化が問題となってき
ており、上述の現象による薬液の組成変化を防止する手
段の実現が要望されている。
無視されていた薬液の僅少な質的変化が問題となってき
ており、上述の現象による薬液の組成変化を防止する手
段の実現が要望されている。
本発明は、タンクに圧入される不活性ガスをあらかじめ
、その薬液の蒸気に飽和させておくことにより、上述問
題点を解決するものである。
、その薬液の蒸気に飽和させておくことにより、上述問
題点を解決するものである。
本発明の構成は、タンクに接続した不活性ガス圧入管の
中間に、タンク内の薬液と実質的に同一組成の薬液を入
れた容器を接続し、タンクに圧入する不活性ガスを、そ
の容器内にて、薬液蒸気で飽和状態にし、その飽和状態
の不活性ガスをタンクに圧入するようにしたものである
。
中間に、タンク内の薬液と実質的に同一組成の薬液を入
れた容器を接続し、タンクに圧入する不活性ガスを、そ
の容器内にて、薬液蒸気で飽和状態にし、その飽和状態
の不活性ガスをタンクに圧入するようにしたものである
。
〔第１実施例〕
第１図は、本装置発明の１実施例装置の概略構成を示す
。
。
管路の途中に、レギュレータ９および気密容器である薬
液容器１０を介在した不活性ガス圧入管８および前記第
３図示の従来装置に準する構成の薬液供給管３をタンク
２に接続し、該不活性ガス圧入管８はタンク２の−Ｌ部
、薬液供給管３はタンク２の底部に結合しである。薬液
容器ＩＯの不活性ガス入口側管８゛ は、第２図示のよ
うに薬液容器１０の薬液中に没入し、圧入されるガスが
薬液に充分接触するようにしである。出口側の不活性ガ
ス圧入管８は薬液容器１０の−Ｌ部に接続しである。
液容器１０を介在した不活性ガス圧入管８および前記第
３図示の従来装置に準する構成の薬液供給管３をタンク
２に接続し、該不活性ガス圧入管８はタンク２の−Ｌ部
、薬液供給管３はタンク２の底部に結合しである。薬液
容器ＩＯの不活性ガス入口側管８゛ は、第２図示のよ
うに薬液容器１０の薬液中に没入し、圧入されるガスが
薬液に充分接触するようにしである。出口側の不活性ガ
ス圧入管８は薬液容器１０の−Ｌ部に接続しである。
本実施例装置の作用は、次の通りである。不活性ガスは
、レギュレータ９により所要の圧力に調整され、薬液容
器１０に圧入され、薬液に接触して完全乾燥状態の不活
性ガス中に薬液の蒸気圧の高い成分が気化してとりこま
れ、はぼ飽和した状態のガスとなって不活性ガス圧入管
８を介して、タンク２に圧入される。タンク２内の薬液
１には、常時、レギュレータ９で調整した圧力が加わる
が、薬液容器１０では不活性ガスは、はぼ飽和されて、
薬液の蒸気、特に蒸気圧の高い成分を含んでいるため、
タンク２内での薬液の蒸発量はきわめて小さくなり従来
装置に比してほとんど無視できる程度になる。
、レギュレータ９により所要の圧力に調整され、薬液容
器１０に圧入され、薬液に接触して完全乾燥状態の不活
性ガス中に薬液の蒸気圧の高い成分が気化してとりこま
れ、はぼ飽和した状態のガスとなって不活性ガス圧入管
８を介して、タンク２に圧入される。タンク２内の薬液
１には、常時、レギュレータ９で調整した圧力が加わる
が、薬液容器１０では不活性ガスは、はぼ飽和されて、
薬液の蒸気、特に蒸気圧の高い成分を含んでいるため、
タンク２内での薬液の蒸発量はきわめて小さくなり従来
装置に比してほとんど無視できる程度になる。
所要のシーケンスにより自動弁４を開閉すれば被処理基
板６に薬液１を不活性ガスの圧力により供給することが
できる。薬液１の供給した容積骨だけタンク２に不活性
ガスが圧入されてくるが、いずれも事前に薬液容器１０
で飽和されるため、タンク２内の薬液１の質的変化は、
無視できる程度に小さくなる。
板６に薬液１を不活性ガスの圧力により供給することが
できる。薬液１の供給した容積骨だけタンク２に不活性
ガスが圧入されてくるが、いずれも事前に薬液容器１０
で飽和されるため、タンク２内の薬液１の質的変化は、
無視できる程度に小さくなる。
〔第２実施例〕
第２図は、本装置発明の他の実施例装置の概略構成を示
し、第１図示装置と共通の構成要素には、同一符号を付
しである。
し、第１図示装置と共通の構成要素には、同一符号を付
しである。
本実施例装置が、第１図示装置と異なる主な点は、薬液
供給管３に自動弁４がなく、その代わりに送液ポンプ１
１を設けたことである。すなわち、本実施例では、ポン
プ１１により、薬液をノズル５から高圧で噴射し、より
高速で処理を行いうるようにしたものである。しかし
、単に薬液供給管３にポンプ１１を設けると、ポンプ１
１が作動している間は、所要の薬液噴射が得られるが、
ポンプ１１が停止してときも、薬液が流れつづけること
が生じる。これは、とくにダイヤフラム式ポンプや遠心
ポンプなどを使用した場合、レギュレータ９の調整圧力
によって押出される薬液は、これらのポンプを自由に通
過しうるためである。
供給管３に自動弁４がなく、その代わりに送液ポンプ１
１を設けたことである。すなわち、本実施例では、ポン
プ１１により、薬液をノズル５から高圧で噴射し、より
高速で処理を行いうるようにしたものである。しかし
、単に薬液供給管３にポンプ１１を設けると、ポンプ１
１が作動している間は、所要の薬液噴射が得られるが、
ポンプ１１が停止してときも、薬液が流れつづけること
が生じる。これは、とくにダイヤフラム式ポンプや遠心
ポンプなどを使用した場合、レギュレータ９の調整圧力
によって押出される薬液は、これらのポンプを自由に通
過しうるためである。
そこで、第２図示装置では、ポンプ１１の吐出側に背圧
弁１２を、また、タンク２に逆止弁１３を付設して、こ
の不都合を防くようにしである。
弁１２を、また、タンク２に逆止弁１３を付設して、こ
の不都合を防くようにしである。
背圧弁１２は、ポンプ１１により吐出される薬液は通過
させるが、レギュレータ９の調整圧力に対しては、管路
を閉止するように作動圧が設定されている。また、逆止
弁１３は、タンク２の内圧が過大となることを防くため
に、ガスを放出するためのもので、その作動圧は、背圧
弁１２よりも低く、レギュレータ９による調整圧力とほ
ぼ同程度に設定する。
させるが、レギュレータ９の調整圧力に対しては、管路
を閉止するように作動圧が設定されている。また、逆止
弁１３は、タンク２の内圧が過大となることを防くため
に、ガスを放出するためのもので、その作動圧は、背圧
弁１２よりも低く、レギュレータ９による調整圧力とほ
ぼ同程度に設定する。
第２図示装置は、上述構成であるため、ポンプ１１が作
動した場合、タンク２の薬液は、背圧弁１２を通ってノ
ズル５から噴射され、一方、容器２内の薬液が減少した
量だけ不活性ガス圧入管８から不活性ガスが圧入される
。この圧入ガスは、薬液容器１０において、薬液蒸気に
よってほぼ飽和されているので、タンク２内の薬液組成
に影響を及ばずことがないことは、前述第１実施例と同
様である。
動した場合、タンク２の薬液は、背圧弁１２を通ってノ
ズル５から噴射され、一方、容器２内の薬液が減少した
量だけ不活性ガス圧入管８から不活性ガスが圧入される
。この圧入ガスは、薬液容器１０において、薬液蒸気に
よってほぼ飽和されているので、タンク２内の薬液組成
に影響を及ばずことがないことは、前述第１実施例と同
様である。
また、第２図示装置において、逆止弁１３を設けない比
較的小径の管をタンク２に接続し、背圧弁１２を介在さ
セずにノズル５へ供給してもよい。
較的小径の管をタンク２に接続し、背圧弁１２を介在さ
セずにノズル５へ供給してもよい。
本発明の効果を列挙すれば以下のとおりである。
（１）加圧された不活性ガスにより、液を供給する場合
や不活性ガスより薬液の酸化防止のため空気を置換する
場合に、その不活性ガスを事前に、その薬液と気液平衡
状態にして薬液の１成分の蒸発による薬液の質的変化を
防止できる。
や不活性ガスより薬液の酸化防止のため空気を置換する
場合に、その不活性ガスを事前に、その薬液と気液平衡
状態にして薬液の１成分の蒸発による薬液の質的変化を
防止できる。
（２）構造がきわめて簡単である。
（３）ノズルから噴射する薬液量が比較的少ない場合に
は、不活性ガスが容器を通過する速度も、それにともな
って低くなり、充分に飽和されるために、と（にＭＪ果
が大きい。
は、不活性ガスが容器を通過する速度も、それにともな
って低くなり、充分に飽和されるために、と（にＭＪ果
が大きい。
第１図は本発明装置の第１の実施例の概念図、第２図は
別の実施例の概念図、第３図は従来例の概念図。
別の実施例の概念図、第３図は従来例の概念図。
Claims (11)
- （１）気体送入管と薬液送出管とを接続した容器に収容
した薬液を、必要に応じて該薬液を用いる処理装置へ送
出し、かつ、薬液送出量に対応する容積の気体を、前記
容器へ送りこむ薬液供給方法において、前記気体を、前
記薬液と同等の薬液の蒸気によつて、あらかじめほぼ飽
和させておくことを特徴とする薬液供給方法。 - （２）気体が不活性ガスである特許請求の範囲第（１）
項に記載の薬液供給方法。 - （３）不活性ガスが窒素ガスである特許請求の範囲第（
２）項に記載の薬液供給方法。 - （４）容器が気密容器であり、該気密容器に加圧気体を
送りこむことにより、薬液を送りだすようにした特許請
求の範囲第（１）項に記載の薬液供給方法。 - （５）薬液を収容する気密容器と、該気密容器に加圧気
体を送りこむ気体送入管と、前記加圧気体の送りこみに
ともなつて前記薬液を前記気密容器から送りだす薬液送
出管と、前記気体送入管に付設され前記加圧気体に前記
薬液と同等の薬液の蒸気を添加する加湿手段とを備えて
なる薬液供給装置。 - （６）加湿手段が、薬液を収容し、その液面下に開口す
る気体流入管と液面より上部に開口する気体流出管とが
接続された気密容器である特許請求の範囲第（５）項に
記載の薬液供給装置。 - （７）薬液を収容する容器と、該容器から薬液を薬液送
出管に送出すポンプ手段と、前記容器に加圧気体を送り
こむ気体送入管と、該気体送入管に付設され、前記加圧
気体に前記薬液と同等の薬液の蒸気を添加する加湿手段
と、前記容器から過剰の気体を排出する排気手段とを備
えてなる薬液供給装置。 - （８）排気手段が、容器外に開口する比較的小径の管を
容器に接続したものである特許請求の範囲第（７）項に
記載の薬液供給装置。 - （９）排気手段が、容器外へ排気する方向のみ気体を通
過させる逆止弁である特許請求の範囲第（７）項に記載
の薬液供給装置。 - （１０）ポンプ手段の吐出側に背圧弁を付設し、逆止弁
の作動圧が送りこまれる気体の圧力とほぼ同等で、背圧
弁の作動圧がそれより高く設定されている特許請求の範
囲第（９）項に記載の薬液供給装置。 - （１１）加湿手段が、薬液を収容し、その液面下に開口
する気体流入管と液面より上部に開口する気体流出管と
が接続された気密容器である特許請求の範囲第（７）項
ないし第（１０）項のいずれかに記載の薬液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13611484A JPS6115729A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薬液供給方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13611484A JPS6115729A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薬液供給方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115729A true JPS6115729A (ja) | 1986-01-23 |
| JPH0212139B2 JPH0212139B2 (ja) | 1990-03-19 |
Family
ID=15167621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13611484A Granted JPS6115729A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薬液供給方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115729A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11244683A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-14 | Japan Atom Energy Res Inst | 湿式造粒方法及び装置 |
| JP2000015082A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-18 | Kanto Chem Co Inc | 安全検出型薬液供給装置 |
| JP2002273113A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-24 | Koganei Corp | 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法 |
| JP2004174319A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Showa Tansan Co Ltd | 超低温窒素ガス供給装置 |
| JP2005246064A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Ethicon Inc | 液体滅菌剤を滅菌器に送達する方法 |
| JP2007069436A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | マンドレル処理液の攪拌供給装置 |
| US8440139B2 (en) | 2004-03-04 | 2013-05-14 | Ethican, Inc. | Method of delivering liquid sterilant to a sterilizer |
| WO2021181730A1 (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-16 | 栗田工業株式会社 | 希薄薬液供給装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022176057A (ja) * | 2022-01-11 | 2022-11-25 | 株式会社西村ケミテック | 薬液供給装置及び薬液供給方法 |
Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5739180A (en) * | 1980-08-18 | 1982-03-04 | Kawasaki Steel Corp | Method for adding hydrogen peroxide in continuously pickling stainless steel strip |
| JPS57171414A (en) * | 1981-04-14 | 1982-10-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas scrubbing apparatus |
| JPS58193725A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-11-11 | Nec Kyushu Ltd | 半導体製造装置への有機薬品の供給方法 |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP13611484A patent/JPS6115729A/ja active Granted
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| JP4558538B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2010-10-06 | エシコン・インコーポレイテッド | 液体滅菌剤を滅菌器に送達する方法 |
| US8440139B2 (en) | 2004-03-04 | 2013-05-14 | Ethican, Inc. | Method of delivering liquid sterilant to a sterilizer |
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| WO2021181730A1 (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-16 | 栗田工業株式会社 | 希薄薬液供給装置 |
| JP2021144986A (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-24 | 栗田工業株式会社 | 希薄薬液供給装置 |
| US12030024B2 (en) | 2020-03-10 | 2024-07-09 | Kurita Water Industries Ltd. | Dilute chemical supply device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0212139B2 (ja) | 1990-03-19 |
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