KR100874564B1 - 약액 공급장치 및 약액 공급장치의 탈기방법 - Google Patents

약액 공급장치 및 약액 공급장치의 탈기방법 Download PDF

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Abstract

펌프(11)는 액체 탱크(46)내에 수용된 액체를 방출한다. 필터(41)는 유로를 개폐하는 펌프 방출측 밸브(V2)가 설치된 펄프 출구유로(42)를 통해 펌프(11)에 접속된다. 액체 방출부(50)는 유로를 개폐하는 방출밸브(V4)가 설치된 액체 방출유로(48)을 통해 필터(41)에 접속된다. 진공원(8)은 유로를 개폐하는 탈기밸브(V3)이 설치된 배기유로(51)를 통해 필터(41)에 연통된다.
약액 공급장치, 탈기방법, 액체탱크, 필터

Description

약액 공급장치 및 약액 공급장치의 탈기방법{Liquid Medicine Supplying Device and Method for Venting Air from Liquid Medicine Supplying Device}
본 발명은 약액(chmical liquid) 등의 액체를 소정량 방출하는 약액 공급장치에 관한 것으로, 예컨대 반도체 웨이퍼의 표면에 포토레지스트액을 도포하기 위해 바람직하게 사용되는 약액 공급장치(chemical liquid supply appratus) 및 그 탈기방법(deaerating method)에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼 제조기술, 액정기판 제조기술, 자기 디스크 제조기술 및 다층배선기판 제조기술 등의 다양한 기술분야에서의 제조 공정에 있어서, 포토레지스트액, 스핀-온 유리액(spin-on glass liquid), 폴리이미드 수지액, 순수(purified water), 현상액, 에칭액, 세정액, 유기용제 등의 화학 약액(chemical liquid)이 사용되고 있고, 이들 약액의 도포에 약액 공급장치가 사용되고 있다. 이와 같은 약액 공급장치는 예컨대, 미국특허 제5,061,156호 공보에 개시되어 있는 것이 이미 개발되고 있다.
예컨대, 반도체 웨이퍼의 표면에 포토레지스트액을 도포하는 경우에는, 반도체 웨이퍼를 수평면 내에 두고 회전시킨 상태의 것으로, 반도체 웨이퍼의 표면에 포토레지스트액을 도포노즐로부터 적하하도록 하고 있다. 이와 같은 약액 공급장 치에서, 포토레지스트액 중의 이물질을 제거하기 위해 필터가 설치되어 있다.
포토레지스트액 등의 약액을 방출할 때, 장치내에 기포가 혼입하면, 약액을 방출하려고 하는 압력을 기포가 흡수해 버려 약액의 방출량(dispense amount)이 불안정하게 되며, 방출 정확도(dispense accuracy)가 저하한다. 이 때문에, 반도체 웨이퍼에 형성되는 집적회로를 고품질 고수율로 제조하기 위해서는 기포의 제거가 필요하다.
펌프의 방출압(dispense pressure)에 의해 약액을 방출시키고 있는 약액 공급장치의 경우, 펌프 용적(pump volume)내에 모인 기포는 통상, 필터의 벤트포트 (vent port)에 접속된 배기유로(exhaust flow path)에 탈기밸브(deaeration valve)를 부착하고, 이 탈기밸브를 개방함으로써 약액 공급장치의 외부로 배출시키고 있다. 이 방법에 의해 필터에 모인 기포를 어느 정도는 제거할 수 있다.
그러나, 이와 같은 종래의 약액 공급장치에서는 여과막의 저항(flow resistance), 약액의 삼투압(osmotic pressure) 등의 문제에 의해 필터의 여과막내에 모여 있는 기포까지는 완전하게 제거할 수 없다는 것이 판명되었다. 기포를 필터의 여과막 내부로부터 완전하게 배출할 수 없는 한, 약액을 안정적으로 방출하고, 방출 정확도(dispense accuracy)를 향상시키는 것은 어려우며, 따라서 제품의 제조 수율 향상은 기대할 수 없다.
본 발명의 목적은 약액 공급장치로부터 방출되는 약액의 양을 안정시키고, 방출 정확도(dispense accuracy)를 비약적으로 향상시키는 것에 있다.
본 발명의 다른 목적은 반도체 집적회로를 고품질 고수율로 제조하는 것에 있다.
본 발명의 약액 공급장치는 액체 탱크 내에 수용된 액체를 방출하는 펌프; 유로를 개폐하는 펌프 방출측 밸브(pump discharge-side valve)가 설치된 펌프 출구 유로(pump outlet flow path)를 통해 상기 펌프에 접속되는 필터; 유로를 개폐하는 방출밸브(discharge valve)가 설치된 액체 방출유로(liquid discharge flow path)를 통해 상기 필터에 접속되는 액체 방출부(liquid discharge portion); 유로를 개폐하는 탈기밸브(deaeration valve)가 설치된 배기유로(exhaust flow path)를 통해 상기 필터에 연통하는 진공원(vaccum source)을 포함한다.
본 발명의 약액 공급장치는 상기 진공원이 작동하고 있는 상태의 것으로, 상기 펌프 방출측 밸브와 상기 방출밸브를 닫고, 상기 탈기밸브를 여는 제어수단을 더 포함한다. 또한, 상기 배기유로는 상기 필터에 형성된 벤트포트 또는 상기 필터의 1차측(primary side) 또는 2차측(secondary side) 중 어느 것인가에 접속된다.
또한, 본 발명의 약액 공급장치의 탈기방법은 액체 탱크 내에 수용된 액체를 방출하는 펌프; 유로를 개폐하는 펌프 방출측 밸브가 설치된 펌프 출구 유로를 통해 상기 펌프에 접속되는 필터; 유로를 개폐하는 방출밸브가 설치된 액체 방출유로를 통해 상기 필터에 접속되는 액체 방출부를 포함하는 상기 액체 탱크 내의 액체를 상기 액체 방출부로부터 방출함에 있어서,
배기유로를 통해 상기 필터에 접속된 진공원을 작동한 상태에서, 상기 배기 유로에 설치된 탈기밸브를 열고, 상기 펌프 방출측 밸브와 상기 방출밸브를 닫아 상기 필터 내의 기체를 상기 배기 유로에 배출하는 배기공정을 포함한다.
본 발명의 약액 공급장치의 다른 탈기방법은 유로를 개폐하는 펌프 입구측 밸브(pump inlet-side valve)가 설치된 액체 도입로를 통해 액체 탱크 내에 수용된 액체에 연통하여 액체를 방출하는 펌프; 유로를 개폐하는 펌프 방출측 밸브(pump discharge-side valve)가 설치된 펌프 출구유로(pump oulet flow path)를 통해 상기 펌프에 접속되는 필터; 유로를 개폐하는 방출밸브(discharge valve)가 설치된 액체 방출유로를 통해 상기 필터에 접속되는 액체 방출부를 포함하는 상기 액체 탱크 내의 액체를 상기 액체 방출부로부터 방출함에 있어서,
상기 필터의 입구측에 연통되는 배기유로(exhaust flow path)에 설치된 탈기밸브와 상기 펌프 입구측 밸브와 상기 방출밸브를 닫고, 상기 펌프 방출측 밸브를 연 상태에서 상기 펌프를 흡입동작을 수행하는 공정; 및 상기 탈기밸브와 상기 펌프 방출측 밸브를 열고 상기 펌프 입구측 밸브와 상기 방출밸브를 닫은 상태로 상기 펌프를 방출동작을 수행하는 공정을 포함한다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태의 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도(liquid circuit diagram)이다.
도 2a는 도 1에 나타낸 약액 공급장치에 의해 약액을 도포하는 경우의 기본 동작을 나타낸 공정도로서, 흡입동작을 나타내는 도면이고,
도 2b는 도 1에 나타낸 약액 공급장치에 의해 약액을 도포하는 경우의 기본 동작을 나타낸 공정도로서, 방출동작을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 약액 공급장치의 탈기방법을 설명하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시형태의 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시형태의 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시형태의 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시형태의 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시형태의 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시형태의 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다.
도 10a는 도 9에 나타낸 약액 공급장치에서 탈기방법을 설명하는 도면으로서, 흡입동작을 나타내는 도면이고,
도 10b는 도 9에 나타낸 약액 공급장치에서 탈기방법을 설명하는 도면으로서, 배기동작을 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 기초하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태인 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 이 약액 공급장치는 액체 탱크(46) 내에 수용된 액체를 방출하는 펌프(11); 유로를 개폐하는 펌프 방출측 밸브(V2)가 설치된 펌프출구유로(42)를 통해 펌프(11)에 접속되는 필터(41); 유로를 개폐하는 방출밸브(V4)가 설치된 액체 방출유로(48)을 통해 필터(41)에 접속되는 액체 방출부(50); 및 유로를 개폐하는 탈기밸브(V3)가 설치된 배기유로(51)을 통해 필터(41)에 연통하는 진공원(8)을 포함한다. 약액 공급장치 및 이를 구성하는 펌프(11), 필터(41) 등의 구체적인 구조에 대해서는 본 출원인이 제안한 일본 특개평 제10-61558호 공보에 기재된 것과 기본적으로 동일하다.
펌프(11)는 확장수축하는 펌프실(17), 펌프 입구(15a), 펌프 출구(16a)를 포함한다. 액체 도입 유로(45)에는 이 유로를 개폐하기 위한 펌프 입구측 밸브(V1)가 설치되어 있고, 일단이 펌프(11)의 펌프 입구(15a)에 접속되며, 타단부가 포토레지스트액을 수용하는 액체 탱크(46)의 내부에 위치하도록 배치되어 있다. 따라서, 펌프(11)와 액체 탱크(46)는 액체 도입 유로(45)를 통해 접속된다.
펌프(11)는 액체 탱크(46) 내에 수용된 액체를 액체 도입 유로(45)를 경유하여 펌프실(17)의 확장시에 펌프 입구(15a)로부터 펌프실(17) 내로 흡입하고, 수축시에 펌프 출구(16a)로부터 방출한다.
펌프(11)는 공급되는 액체가 포토레지스트액이기 때문에 약액과 반응하지 않도록 불소 수지인 테트라 플루오로 에틸렌 퍼플루오로 알킬 비닐 에테르(tetra fluoro ethylene perfluoro alkyl vinyl ether) 공중합체(PFA) 등의 수지재료에 의해 형성되어 있다. 그러나, 수지재료는 PFA에 한정되지 않고, 탄성변형하는 재료이면 다른 수지재료를 사용해도 좋다.
또한, 펌프(11)의 형식은 용적변화식(displacement type)의 펌프이면 다이아프람 형식(diaphragm)의 펌프라도 좋다.
필터(41)는 펌프 출구유로(42)가 접속되는 필터 입구(41a), 액체 방출유로 (48)가 접속되는 필터 출구(41b), 배기유로(51)가 접속되는 벤트포트(41c)를 포함한다.
필터(41)는 중공 섬유막(hollow fiber film)에 의해 형성된 것이나, 시트형 막(sheet-shaped film)에 의해 형성된 것이 사용될 수 있지만, 약액을 여과할 수 있는 것이면 이들에 한정되는 것은 아니다.
도 1에 나타낸 실시형태에는 액체방출부(50)는 액체 방출유로(48)의 선단부에 설치되어 있다.
진공원(8)은 상호 방식(reciprocal type)이나 밴 방식(van type)의 진공 펌프, 또는 이젝터(ejector) 등을 사용할 수 있다.
액체 방출유로(48)에는 이 유로를 개폐하기 위한 반환밸브(return valve)(V5)가 설치되어 있다. 또한, 이들의 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브 (V5)는 상기신호에 의해 작동하는 솔레노이드 밸브(solenoid valve), 또는 공기압에 의해 작동하는 공기조절 밸브(air operated valve) 등을 사용할 수 있다.
도 1에 나타낸 실시형태에서는 펌프(11), 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸 브(V5) 및 진공원(8)의 작동을 제어하기 위해서 시스템 제어부(9)가 설치되어 있고, 이 시스템 제어부(9)로부터 펌프(11), 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브 (V5) 및 진공원(8)에 작동신호가 보내진다.
도 2a 및 도 2b는 도 1에 나타낸 약액 공급장치에 의해 약액을 도포할 때의 기본 동작을 나타내는 공정도이다. 도면에서, 부호 "OP"는 밸브가 열린 상태를 나타내고, 부호 "CL"은 밸브가 닫힌 상태를 나타낸다.
액체를 도포하는 것은 우선, 도 2a에 나타낸 바와 같이, 펌프 방출측 밸브(V2), 탈기밸브(V3), 방출밸브(V4) 및 반환밸브(V5)를 닫고, 펌프 출구 유로 (42), 배기유로(51) 및 액체 방출유로(48)가 닫힌 상태에서, 펌프 입구측 밸브(V1)을 열어 액체 도입 유로(45)만 열린 상태로 펌프(11)을 흡입동작시킨다. 이 펌프(11)의 흡입동작에 의해 펌프실(17)이 확장되고, 액체 탱크(46)내에 포토레지스트액이 펌프실(17)로 흡입된다.
이어서, 도 2b에 나타낸 바와 같이, 펌프입구측 밸브(V1)를 닫고, 액체 도입유로(45)가 닫힌 상태에서, 펌프 방출측 밸브(V2), 방출밸브(V4) 및 반환밸브(V5)를 열고 펌프 출구 유로(42) 및 액체 방출유로(48)가 열린 상태에서 펌프(11)을 방출동작시킨다. 이 펌프(11)의 방출동작에 의해 펌프실(17)이 수축되고, 펌프실(17) 내의 포토레지스트액이 액체 방출부(50)로부터 방출되며, 반도체 웨이퍼(W)의 표면에 도포된다.
이와 같이, 펌프(11)의 흡입, 방출 동작에 따라 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브(V5)를 개폐하고, 각각의 유로를 개폐함으로써 이 약액 공급 장치는 약액 을 도포하기 위한 약액 방출 공급 동작을 수행할 수 있다.
약액의 방출 동작이 종료하면, 방출밸브(V4)를 닫는 것과 함께 펌프(11)의 작동이 정지되고, 후방흡입 동작(suck-back operation)이 실행된다(도시하지 않음). 이 후방흡입 동작은 반환밸브(V5)를 작동시킴으로써 수행된다. 이에 따라, 액체 방출부(50)의 중앙에 포토레지스트액이 도입되고 드립핑 (dripping)이 방지된다.
도 3은 본 발명의 약액 공급장치의 탈기방법을 설명하는 도면이다. 먼저, 펌프 방출밸브(V2), 방출밸브(V4) 및 반환밸브(V5)를 닫고, 펌프 출구 유로(42) 및 액체 방출유로(48)가 닫힌 상태에서, 탈기밸브(V3)을 열고, 액체 도입 유로(45)가 닫힌 상태로 한다. 이 상태에서 진공원(8)을 작동시킨다. 이에 따라, 필터(41)의 여과막 내부에 모여있는 기포를 완전하게 제거할 수 있다. 따라서, 액약을 안정적으로 방출하고, 방출 정확도(dispense accuracy)를 비약적으로 향상시킬 수 있으며, 결과적으로 반도체 집적회로를 고품질 고수율로 제조할 수 있다.
이하, 도 1에 나타낸 실시형태와는 다른 약액 공급장치를 나타낸다. 도면에서, 도 1에 나타낸 구성부분과 동일한 구성부분에는 동일한 참조부호를 달았다.
도 4는 본 발명의 다른 실시형태인 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다. 도 4에 나타낸 약액 공급장치는 필터(41)와 진공원(8) 사이에 버퍼 탱크(buffer tank)(57)가 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 버퍼탱크(57)는 내부에 포토레지스트액이 충전되어 있고, 바닥(bottom)에 액체 배출로(55)가 설치되어 있다. 필터(41)의 벤트포트 (41c)로부터 연장되는 배기유로(51)는 그 선단부가 버퍼탱크(57) 내부의 포토레지스트액의 액면 아래에 위치하도록 배치되어 있다. 배기유로(54)는 그 일단이 버퍼탱크(57) 내부의 포토레지스트액의 액면 위에 위치하도록 배치되고, 그 타단이 진공원(8)에 접속되어 있다.
따라서, 필터(41)와 버퍼탱크(57)는 배기유로(51)를 통해 접속되고, 버퍼탱크(57)와 진공원(8)은 배기유로(54)를 통해 접속된다. 진공원(8)을 동작시킴으로써 버퍼탱크(57) 내부가 포토레지스트액으로 충전된 경우도 방출밸브(V6)를 열고 포토레지스트액을 배출한다.
도 4에 나타낸 실시형태의 경우도 벤트포트(41c)에 접속된 배기유로(51)로부터 필터(41) 내부의 기포를 제거하는 점에서 도 1에 나타낸 것과 기본적인 구조는 동일하고, 동일한 작용효과를 갖는다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시형태인 약액 공급장치를 개략적으로 나타낸 액체 회로도이다. 도 5에 나타낸 실시형태는 진공원(8)이 필터(41)의 하류측 (downstream side), 즉 2차측(secondary side)에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다. 배기유로(58)는 그 일단이 액체 방출유로(48)의 필터 출구(41b)와 방출밸브(V4) 사이의 단소(portion)에 접속되어 있고, 타단이 진공원(8)에 접속되어 있다. 즉, 진공원(8)과 필터(41)는 유로를 개폐하는 탈기밸브(V7)가 설치된 배기유로(58)를 통해 연통하고 있다.
이 실시형태의 경우도, 도 1에 나타낸 실시형태와 동일하게 펌프(11)의 흡입, 방출동작에 따라 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브(V5) 및 탈기밸브(V7)를 개폐하고, 각각의 유로를 개폐함으로써 이 약액 공급장치는 약액을 도포하기 위한 약액 방출 공급동작을 실시할 수 있다.
또한, 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브(V5)를 닫고, 펌프 출구유로(42), 액체 방출유로(48) 및 배기유로(51)가 닫힌 상태에서, 탈기밸브(V7)를 열어 배기유로(58)이 닫힌 상태로 진공원(8)을 작동시킨다. 이에 따라, 도 5에 나타낸 실시형태는 필터(41)의 내부에 모여있는 기포를 완전히 제거할 수 있기 때문에, 도 1에 나타낸 약액 공급장치와 동일한 작용효과를 갖는다
도 6은 본 발명의 또 다른 실시형태인 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다. 도 6에 나타낸 실시형태의 형우는 진공원(8)이 필터(41)의 하류측 즉, 2차측에 설치되어 있는 점에서 도 5에 나타낸 실시형태와 동일하고, 진공원(8)의 1차측(primary side)에 버퍼탱크(57)을 구비하는 점에서 도 4에 나타낸 실시형태와 동일하다. 따라서, 도 6에 나타낸 실시형태의 경우도 도 1에 나타낸 약액 공급장치와 동일한 작용효과를 갖는다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시형태인 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다. 도 7에 나타낸 실시형태는 진공원(8)이 필터(41)의 상류측 (upstream side) 즉, 1차측(primary side)에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다. 배기유로(59)는 그 일단이 펌프 출구유로(42)의 필터 입구(41a)와 펌프 방출측 밸프(V2) 사이의 단소(portion)에 접속되어 있고, 타단이 진공원(8)에 접속되어 있다. 즉, 진공원(8)과 필터(41)는 배기유로(59)를 통해 연통되어 있다.
이 실시형태의 경우도 도 1에 나타낸 실시형태와 동일하게, 펌프(11)의 흡 입, 방출동작에 따라 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브(V5) 및 탈기밸브(V8)를 개폐한다. 각각의 유로를 개폐함으로써 이 약액 공급장치는 약액을 도포하기 위한 약액 방출 공급동작을 실시할 수 있다.
또한, 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브(V5)를 닫고, 펌프 출구유로(42), 액체 방출유로(48) 및 배기유로(51)가 닫힌 상태에서, 탈기밸브(V8)를 열고 배기유로(59)가 열린 상태로 진공원(8)을 작동시킨다. 이에 따라, 도 7에 나타낸 실시형태는 필터(41)의 여과막에 모여 있는 기포를 완전히 제거할 수 있기 때문에 도 1에 나타낸 약액 공급장치와 동일한 작용효과를 갖는다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시형태인 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다. 도 8에 나타낸 실시형태의 경우는 진공원(8)이 필터(41)의 상류측 즉, 1차측에 설치되어 있는 점에서 도 7에 나타낸 실시형태와 동일하고, 진공원(8)이 1차측에 버퍼탱크(57)를 구비하는 점에서 도 4 및 도 6에 나타낸 실시형태와 동일하다. 따라서, 도 8에 나타낸 실시형태의 경우도 도 1에 나타낸 약액 공급장치와 동일한 작용효과를 갖는다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시형태인 약액 공급장치를 개략적으로 나타내는 액체 회로도이다. 도 9에 나타낸 실시형태는 진공원을 사용하지 않고, 펌프(11)의 흡입동작 및 배기동작, 펌프 출구유로(42), 액체 방출유로(48) 및 배기유로(51)의 개폐 시간을 시스템 제어부(9)에 의해 제어함으로써 의해 필터(41) 내의 기포를 제거하는 것을 특징으로 한다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 벤트포트(41c)는 필터(41)의 필터입구(41a)측에 설치되고, 배기유로(51)이 필터(41)에 접속되어 있다. 펌프(11) 및 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브(V5)의 작동은 시스템 제어부(9)에서의 신호에 의해 제어된다.
도 10a 및 도 10b는 도 9에 나타낸 약액 공급장치에서 탈기방법을 설명하는 도면이다. 도 9에 나타낸 약액 공급장치의 기포제거 동작은 이하의 4개 공정에 의해 실시된다.
제 1 공정에서는 약액 방출동작을 수행한다. 도 9의 실시형태는 도 1에 나타낸 실시형태와 기본적으로 동일한 구성을 갖기 때문에 펌프(11) 및 펌프 입구측 밸브(V1) 내지 반환밸브(V5)의 작동수단은 도 2a 및 도 2b에 나타낸 것과 동일하다.
이 때, 약액 공급장치는 전체가 약액으로 충전된 상태이다. 필터(41)의 내부 또는 각 유로내에 모여 있는 기포는 탈기밸브(V3)을 열어 배기유로(51)로부터 배출하거나, 액체 방출부(50)로부터 배출된다.
제 2 공정에서는 도 10a에 나타낸 바와 같이, 펌프 입구측 밸브(V1), 탈기밸브(V3) 및 방출밸브(V4)를 닫고, 액체 도입 유로(45), 배기유로(51) 및 액체 방출유로(48)가 닫힌 상태에서, 펌프 방출측 밸브(V2)를 열고 펌프 출구유로(42)만 연 상태에서 펌프(11)을 흡입동작시킨다. 이 펌프(11)의 흡입동작에 의해 부압(negative pressure)이 발생하고, 필터(41)의 여과막에 모여있는 기포가 여과막으로부터 단리하여, 필터(41)의 내부에서 필터 입구(41a)측으로 이동한다.
제 3 공정에서는 도 10b에 나타낸 바와 같이, 펌프입구측 밸브(V1) 및 방출 밸브(V4)를 닫고, 액체 도입유로(45) 및 액체 방출유로(48)가 닫힌 상태에서 펌프 방출측 밸브(V2) 및 탈기밸브(V3)을 열고, 펌프 출구 유로(42) 및 배기유로(51)가 열린 상태에서 펌프(11)을 방출동작시킨다. 이 펌프(11)의 방출동작에 의해 필터(41a)측으로 이동한 필터(41) 내부의 기포를 벤트포트(41c)로부터 배기유로 (51)로 배출한다. 이에 따라, 필터(41)의 여과막의 내부에 모여있는 기포를 제거할 수 있다.
제 4 공정에서는 필요에 따라 약액 방출동작을 수행하고, 공급장치의 내부를 항상 약액으로 충전시키는 상태로 유지한다. 기포는 약액과 동시에 방출되기 때문이다.
상술한 제 2 공정 내지 제 4 공정은 필터(41)의 여과막 내의 기포가 없어지게 될때까지 반복된다.
이와 같이 도 9에 나타낸 실시형태에 의해서도 도 1에 나타내 것과 동일하게 본 발명의 목적을 달성할 수 있다.
본 발명은 상술한 실시형태에 한정되는 것을 아니고, 그 요지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변경이 가능하다.
예컨대, 상기 설명에서는 약액 공급장치를 반도체 웨이퍼에 포토레지스액을 도포하기 위해 사용한 경우에 대해서 설명하였지만, 레지스트액에 한정되지 않고, 다양한 액체를 공급하기 위해 본 발명을 적용하는 것이 가능하며, 특히 기포가 발생하기 쉬운 액을 필터(41)에 투과시켜 방출하는 경우에 사용하는데 유용하다.
상기와 같이, 본 발명에 관한 약액 공급장치 및 그 탈기방법은 반도체 웨이퍼 제조기술, 액정기판 제조기술, 자기디스크 제조기술 및 다층 배선기판 제조기술 등의 다양한 기술분야의 제조 공정에 있어서, 포토레지스트액, 스핀-온 유리액, 폴리이미드 수지액, 순수, 에칭액, 유기용제 등의 정정성(cleaning characteristics)이 요구되는 약액의 공급에 바람직하다.

Claims (5)

  1. 유로(flow path)를 개폐하는 펌프 입구측 밸브가 설치된 액체도입로를 통해 액체 탱크 내에 수용된 액체에 연통하여 액체를 방출하는 펌프; 유로를 개폐하는 펌프 방출측 밸브(pump discharge-side valve)가 설치된 펌프 출구 유로(pump outlet flow path)를 통해 상기 펌프에 접속되는 필터; 유로를 개폐하는 방출밸브(discharge valve)가 설치된 액체 방출 유로(liquid discharge flow path)를 통해 상기 필터에 접속되는 액체방출부(liquid discharge portion)를 포함하는 상기 액체 탱크 내의 액체를 상기 액체 방출부로부터 방출하는 약액 공급 장치로서,
    상기 필터의 입구측에 연통하는 배기유로(exhaust flow path)가 설치되고
    상기 펌프 입구측 밸브와 상기 방출밸브를 닫고 상기 펌프 방출측 밸브가 열린 상태에서 상기 펌프를 흡입 동작시킬 때에 상기 배기유로를 닫고, 상기 펌프 방출측 밸브를 열고 상기 펌프 입구측 밸브와 상기 방출밸브가 닫힌 상태에서 상기 펌프를 방출 동작시킬 때에 상기 배기유로를 여는 탈기밸브(deaeration valve)가 상기 배기유로에 설치된 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 유로를 개폐하는 펌프 입구측 밸브(pump inlet-side valve)가 설치된 액체 도입로를 통해 액체 탱크 내에 수용된 액체에 연통하여 액체를 방출하는 펌프; 유로를 개폐하는 펌프 방출측 밸브가 설치된 펌프 출구유로를 통해 상기 펌프에 접속되는 필터; 유로를 개폐하는 방출밸브가 설치된 액체 방출유로를 통해 상기 필터에 접속되는 액체 방출부를 포함하는 상기 액체 탱크 내의 액체를 상기 액체 방출부로부터 방출하는 약액 공급장치의 탈기방법에 있어서,
    상기 필터의 입구측에 연통되는 배기유로에 설치된 탈기밸브, 상기 펌프 입구측 밸브와 상기 방출밸브를 닫고, 상기 펌프 방출측 밸브를 연 상태에서 상기 펌프를 흡입동작을 수행하는 공정; 및
    상기 탈기밸브와 상기 펌프 방출측 밸브를 열고, 상기 펌프 입구측 밸브와 상기 방출밸브를 닫은 상태로 상기 펌프를 방출동작을 수행하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급장치의 탈기방법.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100994574B1 (ko) 2009-04-08 2010-11-15 (주)카이스코퍼레이션 경화방지 기능을 갖는 액제 공급장치
KR100997655B1 (ko) 2009-04-08 2010-12-01 (주)카이스코퍼레이션 연속공급기능을 갖는 액제 공급장치

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3947398B2 (ja) * 2001-12-28 2007-07-18 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給方法
KR100609013B1 (ko) 2004-02-16 2006-08-03 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조용 화학 액체 공급 장치 및 방법
US8197231B2 (en) 2005-07-13 2012-06-12 Purity Solutions Llc Diaphragm pump and related methods
JP4786238B2 (ja) * 2005-07-19 2011-10-05 東京応化工業株式会社 レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置
KR100725101B1 (ko) * 2006-01-03 2007-06-04 삼성전자주식회사 폭스공정설비의 케미컬 분사장치
FI121122B (fi) * 2006-01-26 2010-07-15 Metso Paper Inc Menetelmä ja laitteisto kuiturainan päällystykseen käytettävän päällystysaineen käsittelemiseksi ja syöttämiseksi päällystyslaitteelle
JP4985191B2 (ja) * 2006-08-15 2012-07-25 東京エレクトロン株式会社 バッファタンク、中間貯留装置、液処理装置及び処理液の供給方法
EP2060309B1 (en) * 2006-08-25 2015-09-16 Entegris, Inc. Air-releasable filter device
KR100806841B1 (ko) * 2006-09-11 2008-02-22 세메스 주식회사 슬러리 공급장치에서의 버블 댐퍼
JP4610582B2 (ja) * 2007-06-08 2011-01-12 日本ピラー工業株式会社 液体ポンプシステム
JP5231028B2 (ja) * 2008-01-21 2013-07-10 東京エレクトロン株式会社 塗布液供給装置
US20100102471A1 (en) * 2008-10-24 2010-04-29 Molecular Imprints, Inc. Fluid transport and dispensing
US8132427B2 (en) * 2009-05-15 2012-03-13 Corning Incorporated Preventing gas from occupying a spray nozzle used in a process of scoring a hot glass sheet
JP5038378B2 (ja) * 2009-11-11 2012-10-03 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給方法
JP2011253963A (ja) * 2010-06-02 2011-12-15 Sony Corp 固体撮像素子の製造方法、固体撮像素子、撮像装置
DE102010032736B4 (de) * 2010-07-30 2012-07-26 Sartorius Stedim Biotech Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Entgasung wässriger Medien
US9610392B2 (en) 2012-06-08 2017-04-04 Fresenius Medical Care Holdings, Inc. Medical fluid cassettes and related systems and methods
CN102840132B (zh) * 2012-08-28 2015-06-03 江苏高博智融科技有限公司 油泵自动排气系统
JP5741549B2 (ja) 2012-10-09 2015-07-01 東京エレクトロン株式会社 処理液供給方法、処理液供給装置及び記憶媒体
JP5453561B1 (ja) * 2012-12-20 2014-03-26 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体
JP6118577B2 (ja) 2013-02-14 2017-04-19 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
US9739274B2 (en) * 2013-03-15 2017-08-22 Integrated Designs, L.P. Pump system and method having a quick change motor drive
JP6291177B2 (ja) * 2013-07-11 2018-03-14 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
JP5967045B2 (ja) * 2013-10-02 2016-08-10 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置及び処理液供給方法
JP6210038B2 (ja) * 2014-09-19 2017-10-11 トヨタ自動車株式会社 Ｍｐｌペーストの塗工装置
DE102015100762A1 (de) * 2015-01-20 2016-07-21 Infineon Technologies Ag Behälterschalteinrichtung und Verfahren zum Überwachen einer Fluidrate
US10121685B2 (en) * 2015-03-31 2018-11-06 Tokyo Electron Limited Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus
KR101655779B1 (ko) * 2015-04-06 2016-09-08 주식회사 삼영필텍 마이크로 버블을 이용한 오일 내에 존재하는 입자제거시스템 및 방법
KR101621659B1 (ko) 2015-06-09 2016-05-16 박근호 용매충진방법 및 탈기방법이 개선된 용매정제장치
CN108472558A (zh) * 2015-12-09 2018-08-31 盛美半导体设备（上海）有限公司 使用高温化学品和超声波装置清洗衬底的方法和装置
JP6685754B2 (ja) * 2016-02-16 2020-04-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス ポンプ装置および基板処理装置
JP2016189493A (ja) * 2016-08-09 2016-11-04 東京エレクトロン株式会社 液処理方法、液処理装置及び記憶媒体
JP6257740B1 (ja) * 2016-12-09 2018-01-10 中外炉工業株式会社 塗工液供給装置
US10663865B2 (en) * 2018-06-29 2020-05-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Photoresist recycling apparatus
WO2020005657A1 (en) * 2018-06-29 2020-01-02 Applied Materials, Inc. Liquid lithium supply and regulation
CN109364570B (zh) * 2018-12-19 2021-02-02 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种过滤装置及过滤方法
US20210245077A1 (en) * 2020-02-12 2021-08-12 Tokyo Electron Limited Vacuum Assisted Filtration
CN113103150A (zh) * 2021-04-23 2021-07-13 长鑫存储技术有限公司 研磨液供给系统、研磨设备、排气方法及研磨方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63110636A (ja) 1986-10-28 1988-05-16 Nec Corp 薬液処理装置

Family Cites Families (93)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US377888A (en) * 1888-02-14 Sewing-machine
BE756027A (nl) 1969-09-13 1971-03-11 Agfa Gevaert Nv Inrichting voor het transporteren en ontgassen van viskeuze vloeistoffen
DE2024675A1 (de) 1970-05-21 1971-12-09 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Einrichtung zur Filtrierung eines offenen Druckmittelkreises
GB1441575A (en) 1972-08-31 1976-07-07 Agfa Gevaert Method for degassing a circuit for the transport of liquids
US3910462A (en) 1974-06-06 1975-10-07 Flushing Plastics Corp Apparatus for dispensing cleaning solution
JPS5272379A (en) 1975-12-15 1977-06-16 Toray Ind Inc Separation of fluid
JPS53110636A (en) 1977-03-08 1978-09-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Adhesive
US4236881A (en) 1978-05-03 1980-12-02 Ecodyne Corporation Liquid metering pump
US4321014A (en) 1979-12-31 1982-03-23 Polaroid Corporation Constant flow pumping apparatus
US4475666A (en) 1981-08-31 1984-10-09 American Hospital Supply Corporation Automated liquid dispenser control
DE3139925A1 (de) 1981-10-08 1983-07-14 Hewlett-Packard GmbH, 7030 Böblingen Hochdruck-dosierpumpe
US4582598A (en) 1981-12-15 1986-04-15 Baxter Travenol Laboratories, Inc. Replacement fluid control system for a blood fractionation apparatus and the like
DE3210821C2 (de) 1982-03-24 1986-01-09 Grünbeck Wasseraufbereitung GmbH, 8884 Höchstädt Dosierpumpe
DE3400488A1 (de) 1983-03-16 1984-09-20 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Elektrohydraulischer kompaktantrieb fuer ventile von turbomaschinen, insbesondere turbinen
GB8312122D0 (en) 1983-05-04 1983-06-08 Production Tech Ltd Pumping corrosive fluids
US4601409A (en) 1984-11-19 1986-07-22 Tritec Industries, Inc. Liquid chemical dispensing system
US4660741A (en) 1985-05-24 1987-04-28 The Coca-Cola Company Water purification system and method for a post-mix beverage dispenser
DE3531836C1 (de) 1985-09-06 1986-10-23 Starcosa Gmbh, 3300 Braunschweig Membrantrennverfahren und Vorrichtung zur Abtrennung von Fluessigkeiten aus Fermentationssuspensionen
JPS62140423A (ja) 1985-12-16 1987-06-24 Nec Corp 半導体集積回路装置の製造装置
DE3631984C1 (de) 1986-09-19 1987-12-17 Hans Ing Kern Dosierpumpe
US4955992A (en) 1987-06-26 1990-09-11 Beckman Instruments, Inc. Liquid degassing system
DE3744422C1 (de) * 1987-12-29 1989-07-06 Du Pont Deutschland Verfahren und Vorrichtung zur Entgasung und Filtration von Fluessigkeiten
US4915597A (en) 1988-12-19 1990-04-10 Micron Technology, Inc. Filter pump head assembly improvements
US4950134A (en) 1988-12-27 1990-08-21 Cybor Corporation Precision liquid dispenser
US5167837A (en) 1989-03-28 1992-12-01 Fas-Technologies, Inc. Filtering and dispensing system with independently activated pumps in series
JPH02281727A (ja) 1989-04-24 1990-11-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd レジスト塗布装置
JP2630481B2 (ja) 1990-01-08 1997-07-16 富士写真フイルム株式会社 塗布液の送液方法
US5316181A (en) 1990-01-29 1994-05-31 Integrated Designs, Inc. Liquid dispensing system
JP2812782B2 (ja) 1990-05-14 1998-10-22 東京エレクトロン株式会社 塗布装置
US5061156A (en) 1990-05-18 1991-10-29 Tritec Industries, Inc. Bellows-type dispensing pump
US5370269A (en) 1990-09-17 1994-12-06 Applied Chemical Solutions Process and apparatus for precise volumetric diluting/mixing of chemicals
US5262068A (en) 1991-05-17 1993-11-16 Millipore Corporation Integrated system for filtering and dispensing fluid having fill, dispense and bubble purge strokes
JPH059636A (ja) 1991-07-03 1993-01-19 Furukawa Alum Co Ltd しごき加工性に優れたドローレスフイン用アルミニウム合金薄板および、その製造方法
JPH05103921A (ja) 1991-10-11 1993-04-27 Miyazaki Oki Electric Co Ltd 薬液ろ過装置
US5251785A (en) 1992-02-06 1993-10-12 The Lubrizol Corporation Additive injection system and method
US5527161A (en) 1992-02-13 1996-06-18 Cybor Corporation Filtering and dispensing system
EP0598424A3 (en) 1992-11-16 1996-05-15 Novellus Systems Inc Apparatus for removing dissolved gases from a liquid.
US5293893A (en) 1993-01-27 1994-03-15 Fsi International, Inc. Empty drum detecting apparatus
DE69428391T2 (de) 1993-03-25 2002-07-04 Tokyo Electron Ltd Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Filmes
US6190565B1 (en) 1993-05-17 2001-02-20 David C. Bailey Dual stage pump system with pre-stressed diaphragms and reservoir
US5490765A (en) 1993-05-17 1996-02-13 Cybor Corporation Dual stage pump system with pre-stressed diaphragms and reservoir
US5383574A (en) 1993-07-19 1995-01-24 Microbar Sytems, Inc. System and method for dispensing liquid from storage containers
US5409765A (en) * 1993-08-04 1995-04-25 Fiberweb North America, Inc. Nonwoven webs made from ionomers
KR950025911A (ko) * 1994-02-02 1995-09-18 김광호 포토 공정 도포장치의 드레인 포토레지스트 재사용 시스템
US5383958A (en) 1994-02-09 1995-01-24 Westinghouse Electric Corporation Deaeration system
US5607000A (en) 1994-10-31 1997-03-04 Motorola, Inc. Hazardous material liquid dispensing system and method
US5618348A (en) * 1995-01-27 1997-04-08 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Air elimination system
US5590686A (en) 1995-05-02 1997-01-07 Dober Chemical Corp. Liquid delivery systems
DE19525557A1 (de) 1995-07-13 1997-01-16 Knf Flodos Ag Dosierpumpe
JP3717996B2 (ja) 1996-05-17 2005-11-16 株式会社コガネイ 薬液供給装置
US5858466A (en) 1996-06-24 1999-01-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Photoresist supply system with air venting
US6378907B1 (en) 1996-07-12 2002-04-30 Mykrolis Corporation Connector apparatus and system including connector apparatus
JP3554115B2 (ja) 1996-08-26 2004-08-18 株式会社コガネイ 薬液供給装置
JPH1099465A (ja) * 1996-09-30 1998-04-21 Konan Bosai Setsubi Kk 消火器用懸吊具
US5868278A (en) 1996-12-09 1999-02-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Eliminating microbubbles in developer solutions to reduce photoresist residues
US5792237A (en) 1996-12-13 1998-08-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd Method and apparatus for eliminating trapped air from a liquid flow
US5900045A (en) * 1997-04-18 1999-05-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.Ltd. Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line
US5878918A (en) 1997-05-02 1999-03-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Photoresist supplying system for used in a semiconductor fabrication
US5989317A (en) 1997-05-14 1999-11-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method and apparatus for recovering process liquid and eliminating trapped air
US6171367B1 (en) * 1997-06-05 2001-01-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Method and apparatus for delivering and recycling a bubble-free liquid chemical
US6024249A (en) 1997-06-27 2000-02-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Fluid delivery system using an optical sensor to monitor for gas bubbles
SG135904A1 (en) 1997-07-04 2007-10-29 Tokyo Electron Ltd Process solution supplying apparatus
JPH1147670A (ja) 1997-07-31 1999-02-23 Fuji Photo Film Co Ltd 送液方法
JP3865920B2 (ja) 1998-02-13 2007-01-10 株式会社コガネイ 薬液供給装置
JP3461725B2 (ja) 1998-06-26 2003-10-27 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置及び処理液供給方法
EP1102616B1 (en) * 1998-08-03 2005-12-21 Tokyo Electron Limited Esrf coolant degassing process
JP4011210B2 (ja) * 1998-10-13 2007-11-21 株式会社コガネイ 薬液供給方法および薬液供給装置
US6012607A (en) 1998-11-03 2000-01-11 United Microelectronics Corp. Dispense system of a photoresist coating machine
US6062442A (en) 1998-11-03 2000-05-16 United Microelectronics Corp. Dispense system of a photoresist coating machine
US6098843A (en) 1998-12-31 2000-08-08 Silicon Valley Group, Inc. Chemical delivery systems and methods of delivery
KR100454156B1 (ko) 1998-12-30 2004-10-26 더 비오씨 그룹, 인크. 화학물질 송출 시스템 및 송출 방법
US20030010792A1 (en) 1998-12-30 2003-01-16 Randy Forshey Chemical mix and delivery systems and methods thereof
US6245148B1 (en) 1999-01-11 2001-06-12 Mosel Vitelic Inc. SOG dispensing system and its controlling sequences
KR100280770B1 (ko) 1999-02-18 2001-01-15 조현기 반도체 소자의 포터레지스터 디스팬싱장치
EP1069474A1 (en) 1999-07-12 2001-01-17 Chugai Photo Chemical Co. Ltd. Solution feeding apparatus and method
US6325932B1 (en) 1999-11-30 2001-12-04 Mykrolis Corporation Apparatus and method for pumping high viscosity fluid
US6338361B2 (en) 2000-02-04 2002-01-15 United Microelectronics Corp. Apparatus with a check function for controlling a flow resistance of a photoresist solution
US6328881B1 (en) 2000-03-08 2001-12-11 Barnstead Thermolyne Corporation Water purification system and method including dispensed volume sensing and control
US6752599B2 (en) 2000-06-09 2004-06-22 Alink M, Inc. Apparatus for photoresist delivery
JP3718118B2 (ja) 2000-10-05 2005-11-16 株式会社コガネイ 液体吐出装置および液体吐出方法
US6641670B2 (en) 2000-10-12 2003-11-04 Toray Industries, Inc. Leaf coater for producing leaf type coated substrates
US6500242B2 (en) 2001-01-04 2002-12-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Apparatus and method for degassing and preventing gelation in a viscous liquid
JP2002273113A (ja) 2001-03-15 2002-09-24 Koganei Corp 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法
US6554579B2 (en) 2001-03-29 2003-04-29 Integrated Designs, L.P. Liquid dispensing system with enhanced filter
TW483047B (en) 2001-04-20 2002-04-11 Winbond Electronics Corp Liquid spraying method capable of preventing residual liquid drops
KR100470682B1 (ko) 2001-09-11 2005-03-07 나노에프에이 주식회사 포토레지스트의 흘림 길이를 조절할 수 있는 포토레지스트공급 장치 및 이를 이용한 포토레지스트 공급 방법
JP3947398B2 (ja) 2001-12-28 2007-07-18 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給方法
US6726774B2 (en) 2002-07-17 2004-04-27 Macronix International Co., Ltd. Bubble detection system for detecting bubbles in photoresist tube
US7018472B2 (en) 2002-09-27 2006-03-28 Oki Electric Industry Co., Ltd. Photoresist applying device and applying method therefor
US7078355B2 (en) 2003-12-29 2006-07-18 Asml Holding N.V. Method and system of coating polymer solution on surface of a substrate
KR100577563B1 (ko) 2004-04-07 2006-05-08 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치
JP4511868B2 (ja) 2004-04-26 2010-07-28 株式会社コガネイ 可撓性タンクとこれを用いた薬液供給装置
JP4566955B2 (ja) 2006-07-11 2010-10-20 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63110636A (ja) 1986-10-28 1988-05-16 Nec Corp 薬液処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100994574B1 (ko) 2009-04-08 2010-11-15 (주)카이스코퍼레이션 경화방지 기능을 갖는 액제 공급장치
KR100997655B1 (ko) 2009-04-08 2010-12-01 (주)카이스코퍼레이션 연속공급기능을 갖는 액제 공급장치

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