KR102277982B1 - 약액 공급 장치 - Google Patents

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Abstract

약액 공급 장치는 기판에 약액을 도포하기 위한 것으로써 필터부, 약액 버퍼부 등을 포함할 수 있다. 상기 필터부는 노즐과 연결되고, 상기 노즐로 공급되는 약액에 잔류하는 잔류물을 필터링할 수 있다. 상기 약액 버퍼부는 두 개 각각이 상기 필터부와 연결되고, 두 개 중에 어느 하나가 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 나머지 하나가 상기 필터부로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있고, 나머지 하나가 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 어느 하나가 상기 필터부로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있게 구비될 수 있다.

Description

약액 공급 장치{APPARATUS FOR SUPPLYING DROPLET}
본 발명은 약액 공급 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 포토레지스트 등과 약액을 토출하는 노즐로 약액을 공급하기 위한 약액 공급 장치에 관한 것이다.
유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에서는 기판에 포토레지스트 등과 같은 약액을 도포하는 약액 도포 공정을 수행할 수 있다. 약액 도포 공정은 노즐, 특히 슬릿 노즐을 사용하여 기판으로 포토레지스트 등과 같은 약액을 토출함에 의해 달성할 수 있다.
그리고 약액에 파티클 등과 같은 잔류물이 잔류한 상태로 기판에 토출될 경우 공정 불량이 발생할 수 있다. 이에, 노즐로 약액을 공급하기 위한 약액 공급 장치는 필터부를 사용하여 약액 내에 잔류하는 잔류물을 필터링한 후 노즐로 약액을 공급하도록 구비될 수 있다.
언급한 필터부를 사용하는 잔류물의 필터링에서는 약액 내의 버블 또한 필터링될 수 있기 때문에 필터부로부터 버블을 제거해야 할 것이다. 필터부로부터 버블의 제거는 주로 필터부로부터 일정량, 예를 들면 필터부로 공급되는 전체 총량 대비 10% 정도의 약액을 폐액 탱크로 배출시킴에 의해 이루어질 수 있다.
그러나 필터부로부터 일정량의 약액을 폐액 탱크로 배출시켜야 하기 때문에 약액의 소모량이 증가하고, 그 결과 디스플레이 소자의 제조에 따른 제조비가 상승하는 문제점이 발생할 수 있다.
특히, 포토레지스트 등과 같은 약액은 상대적으로 고가이기 때문에 디스플레이 소자의 제조에 따른 제조비의 상승에 심각한 영향을 끼칠 수 있을 것이다.
본 발명의 일 과제는 포토레지스트 등과 같은 고가의 약액 일부를 폐액 처리하는 상황을 사전에 차단할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 기판에 약액을 도포하기 위한 것으로써 필터부, 약액 버퍼부 등을 포함할 수 있다. 상기 필터부는 노즐과 연결되고, 상기 노즐로 공급되는 약액에 잔류하는 잔류물을 필터링할 수 있다. 상기 약액 버퍼부는 두 개 각각이 상기 필터부와 연결되고, 두 개 중에 어느 하나가 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 나머지 하나가 상기 필터부로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있고, 나머지 하나가 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 어느 하나가 상기 필터부로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있게 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액 버퍼부로부터 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 가압 상태를 유지하고, 상기 필터로부터 상기 약액 버퍼부로 약액을 회수할 때에는 대기압 상태를 유지할 수 있도록 상기 약액 버퍼부 두 개는 가압 상태를 유지하다가 대기압 상태로 전환할 수 있거나 또는 대기압 상태를 유지하다가 가압 상태로 전환할 수 있게 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 필터부와 상기 약액 버퍼부 어느 하나는 상기 약액을 공급하는 제1 공급 라인 및 상기 약액을 회수하는 제1 회수 라인이 연결되고, 상기 필터부와 상기 약액 버퍼부 나머지 하나는 상기 약액을 공급하는 제2 공급 라인 및 상기 약액을 회수하는 제2 회수 라인이 연결될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액 버퍼부 어느 하나로부터 상기 필터부로 상기 약액을 공급함과 아울러 상기 필터부로부터 상기 약액 버퍼부 나머지 하나로 상기 약액을 회수할 때에는 상기 제1 공급 라인 및 상기 제2 회수 라인이 오픈됨과 아울러 상기 제2 공급 라인 및 상기 제1 회수 라인이 클로즈되고, 상기 약액 버퍼부 나머지 하나로부터 상기 필터부로 상기 약액을 공급함과 아울러 상기 필터부로부터 상기 약액 버퍼부 어느 하나로 상기 약액을 회수할 때에는 상기 제2 공급 라인 및 상기 제1 회수 라인이 오픈됨과 아울러 상기 제1 공급 라인 및 상기 제2 회수 라인이 클로즈될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 필터부로부터 상기 노즐로 공급되는 약액을 임시 저장한 후 상기 노즐로 공급할 수 있게 상기 필터부와 상기 노즐 사이에 구비되는 임시 버퍼부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 노즐로 공급하기 위한 약액 내에 잔류하는 잔류물의 필터링시 필터부로부터 배출되는 약액을 회수하고, 다시 필터링하여 노즐로 공급할 수 있을 것이다.
이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액 일부를 버리는 상황을 사전에 차단할 수 있고, 특히 포토레지스트 등과 같은 고가의 약액 일부를 버리는 상황을 사전에 차단할 수 있을 것이다.
따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 노즐로 약액의 공급시 약액이 다른 용도로 소모되는 상황을 사전에 차단할 수 있기 때문에 디스플레이 소자의 제조에 따른 제조비의 감소를 기대할 수 있을 것이다.
다만, 본 발명의 과제 및 효과는 상기 언급한 바에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
그리고 첨부한 도면들을 참조하여 예시적인 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 노즐(21)로 약액을 공급하도록 구비될 수 있다. 특히, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 기판 상에 포토레지스트 등과 같은 약액을 토출하기 위한 슬릿 노즐로 약액을 공급하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 필터부(17), 약액 버퍼부(11), 임시 버퍼부(19) 등을 포함할 수 있다. 또한, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액 버퍼부(11)와 필터부(17) 사이를 연결하는 제1 공급 라인(23), 제2 공급 라인(27), 제1 회수 라인(25), 제2 회수 라인(29) 등을 포함할 수 있다.
또한, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 필터부(17)로부터 임시 버퍼부(19)로 약액을 공급하도록 연결되는 연결 라인(31), 임시 버퍼부(19)로부터 노즐(21)로 약액을 공급하도록 연결되는 연결 라인(33) 등을 포함할 수 있고, 더불어 도시하지는 않았지만 약액 버퍼부(11)로 약액을 공급하도록 연결되는 연결 라인 등을 포함할 수 있을 것이다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액 공급부(도시하지 않음)로부터 약액 버퍼부(11)와 필터부(17)를 순차적으로 경유하여 노즐(21)로 약액을 공급하도록 구비될 수 있거나 또는 약액 공급부로부터 약액 버퍼부(11), 필터부(17)와 임시 버퍼부(19)를 순차적으로 경유하여 노즐(21)로 약액을 공급하도록 구비될 수 있을 것이다.
필터부(17)는 노즐(21)로 공급하기 위한 약액에 잔류하는 잔류물을 필터링하도록 구비될 수 있다. 따라서 필터부(17)는 노즐(21)과 연결되도록 구비될 수 있다. 다만, 약액 공급 장치가 임시 버퍼부(19)를 구비할 경우 필터부(17)는 임시 버퍼부(19)를 경유하여 노즐(21)로 연결되도록 구비될 수 있을 것이다.
약액 버퍼부(11)는 필터부(17)로 약액을 공급하도록 구비될 수 있다. 따라서 약액 버퍼부(11)는 필터부(17)와 연결되도록 구비될 수 있다.
그리고 예시적인 실시예들에 따르면, 필터부(17)를 사용하는 약액의 필터링시 약액으로부터 파티클 등과 같은 잔류물과 함께 약액으로부터 버블도 필터링될 수 있다. 특히, 필터부(17)로부터 필터링되는 버블은 일정량의 약액을 필터부(17)로부터 배출시켜야만 필터부(17)로부터 제거가 이루어질 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 필터부(17)로부터 필터링되는 버블의 제거를 위하여 필터부(17)로부터 배출되는 약액을 회수하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액 버퍼부(11)를 필터부(17)로 약액을 공급한 부분과 필터부(17)로부터 약액을 회수하는 부분을 갖도록 구비될 수 있다.
구체적으로, 약액 버퍼부(11)는 두 개 각각이 필터부(17)와 연결되도록 구비될 수 있다. 즉, 약액 버퍼부(11)를 필터부(17)로 약액을 공급하는 부분과 필터부(17)로부터 약액을 회수하는 부분이 필터부(17)와 연결되도록 구비될 수 있는 것이다. 특히, 약액 버퍼부(11)는 약액을 공급하는 부분이 경우에 따라 약액을 회수하는 부분으로 전환될 수도 있고, 약액을 회수하는 부분이 경우에 따라 약액을 공급하는 부분으로 전환될 수도 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 약액 버퍼부(11)는 두 개 각각이 필터부(17)와 연결되고, 두 개 중에 어느 하나(13)가 필터부(17)로 약액을 공급할 때에는 나머지 하나(15)가 필터부(17)로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있고, 나머지 하나(15)가 필터부(17)로 약액을 공급할 때에는 어느 하나(13)가 필터부(17)로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있도록 구비될 수 있다.
약액 버퍼부(11)로부터 필터부(17)로 약액의 공급시 약액의 공급이 이루어지는 부분은 가압 상태를 유지하도록 구비될 수 있고, 필터부(17)로부터 약액 버퍼부(11)로 약액의 회수시 약액의 회수가 이루어지는 부분은 대기압 상태를 유지하도록 구비될 수 있다.
이에, 약액 버퍼부(11)로부터 필터부(17)로 약액을 공급할 때에는 가압 상태를 유지하고, 필터로부터 약액 버퍼부(11)로 약액을 회수할 때에는 대기압 상태를 유지할 수 있도록 약액 버퍼부(11) 두 개, 즉 어느 하나(13) 및 나머지 하나(15)는 가압 상태를 유지하다가 대기압 상태로 전환할 수 있거나 또는 대기압 상태를 유지하다가 가압 상태로 전환할 수 있도록 구비될 수 있다.
약액 버퍼부(11)가 가압 상태를 유지할 경우에는 필터부(17)로부터 약액 버퍼부(11)로의 약액의 회수가 불가할 수 있고, 약액 버퍼부(11)가 대기압 상태를 유지할 경우에는 약액 버퍼부(11)로부터 필터부(17)로 약액의 공급이 불가할 수 있기에 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 어느 하나(13)가 가압 상태를 유지할 때에는 나머지 하나(15)가 대기압 상태를 유지할 수 있고, 나머지 하나(15)가 가압 상태를 유지할 때에는 어느 하가나 대기압 상태를 유지할 수 있게 구비될 수 있고 특히, 필요에 따라 가압 상태로부터 대기압 상태로 또는 대기압 상태로부터 가압 상태로 전환할 수 있게 구비될 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에서는 약액 버퍼부 어느 하나(13)가 필터부(17)로 약액을 공급하도록 가압 상태를 유지할 경우에는 약액 버퍼부 나머지 하나(15)는 필터부(17)로부터 약액을 회수하도록 대기압 상태를 유지할 수 있을 것이고, 이와 반대로 약액 버퍼부 나머지 하나(15)가 필터부(17)로 약액을 공급하도록 가압 상태를 유지할 경우에는 약액 버퍼부 어느 하나(13)는 필터부(17)로부터 약액을 회수하도록 대기압 상태를 유지할 수 있을 것이다.
필터부(17)와 약액 버퍼부 어느 하나(13)는 제1 공급 라인(23) 및 제1 회수 라인(25)이 연결되도록 구비될 수 있고, 필터부(17)와 약액 버퍼부 나머지 하나(15)는 제2 공급 라인(27) 및 제2 회수 라인(29)이 연결되도록 구비될 수 있다.
특히, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 도 1에서와 같이 약액 버퍼부 어느 하나(13)로부터 필터부(17)로 약액을 공급함과 아울러 필터부(17)로부터 약액 버퍼부 나머지 하나(15)로 약액을 회수할 때에는 제1 공급 라인(23) 및 제2 회수 라인(29)이 오픈됨과 아울러 제2 공급 라인(27) 및 제1 회수 라인(25)이 클로즈되도록 구비될 수 있다. 이때, 약액 버퍼부 어느 하나(13)는 가압 상태를 유지할 수 있고, 약액 버퍼부 나머지 하나(15)는 대기압 상태를 유지할 수 있다.
또한, 도 2에서와 같이 약액 버퍼부 나머지 하나(15)로부터 필터부(17)로 약액을 공급함과 아울러 필터부(17)로부터 약액 버퍼부 어느 하나(13)로 약액을 회수할 때에는 제2 공급 라인(27) 및 제1 회수 라인(25)이 오픈됨과 아울러 제1 공급 라인(23) 및 상기 제2 회수 라인(29)이 클로즈될 수 있도록 구비될 수 있다. 이때, 약액 버퍼부 어느 하나(13)는 대기압 상태를 유지할 수 있고, 약액 버퍼부 나머지 하나(15)는 가압 상태를 유지할 수 있다.
그리고 도 1에서와 같이 약액의 공급 및 약액의 회수가 이루어지다가 도 2에서와 같이 약액의 공급 및 회수가 이루어질 경우 약액 버퍼부 어느 하나(13)는 가압 상태로부터 대기압 상태로 전환될 수 있고, 약액 버퍼부 나머지 하나(15)는 대기압 상태로부터 가압 상태로 전환될 수 있다.
아울러, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 언급한 임시 버퍼부(19)를 구비함으로써 필터부(17)로부터 노즐(21)로 공급되는 약액을 임시 저장한 후 노즐(21)로 공급할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액 버퍼부(11)를 어느 하나(13) 및 나머지 하나(15)로 이루어지도록 구비하고, 필터부(17)로 약액을 공급하도록 약액 버퍼부 어느 하나(13)를 가압할 때에는 약액 버퍼부 나머지 하나(15)를 대기압으로 전환하여 필터부(17)로부터 배출되는 약액을 다시 회수할 수 있고, 이와 반대로 필터부(17)로 약액을 공급하도록 약액 버퍼부 나머지 하나(15)를 가압할 때에는 약액 버퍼부 어느 하나(13)를 대기압으로 전환하여 필터부(17)로부터 배출되는 약액을 다시 회수할 수 있다.
이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액 소모량을 줄임으로써 원가 경쟁력의 향상을 통하여 디스플레이 소자의 제조에 따른 제조비의 감소를 기대할 수 있을 것이다.
또한, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액 버퍼부(11)를 한 개가 아닌 두 개를 사용할 수 있기 때문에 약액의 공급에 따른 공정 소요 시간을 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라 약액 내에 버블이 잔류하는 문제까지도 어느 정도 해결할 수 있을 것이다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 적용할 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 약액 버퍼부 17 : 필터부
19 : 임시 버퍼부 21 : 노즐

Claims (5)

  1. 노즐과 연결되고, 상기 노즐로 공급되는 약액에 잔류하는 잔류물을 필터링하는 필터부; 및
    두 개 각각이 상기 필터부와 연결되고, 두 개 중에 어느 하나가 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 나머지 하나가 상기 필터부로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있고, 나머지 하나가 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 어느 하나가 상기 필터부로부터 배출되는 약액을 회수할 수 있게 구비되는 약액 버퍼부를 포함하되,
    상기 약액 버퍼부는 상기 어느 하나가 상기 약액에 잔류하는 잔류물을 필터링하기 위하여 상기 필터부로 약액을 공급할 수 있게 가압 상태를 유지할 때 상기 나머지 하나가 상기 약액의 필터링시 상기 잔류물과 함께 필터링되는 버블의 제거를 위하여 상기 필터부로부터 배출되는 상기 약액을 회수할 수 있게 대기압 상태를 유지하도록 구비되거나, 또는 상기 나머지 하나가 상기 약액에 잔류하는 잔류물을 필터링하기 위하여 상기 필터부로 약액을 공급할 수 있게 가압 상태를 유지할 때 상기 어느 하나가 상기 약액의 필터링시 상기 잔류물과 함께 필터링되는 버블의 제거를 위하여 상기 필터부로부터 배출되는 상기 약액을 회수할 수 있게 대기압 상태를 유지하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 약액 버퍼부로부터 상기 필터부로 약액을 공급할 때에는 가압 상태를 유지하고, 상기 필터로부터 상기 약액 버퍼부로 약액을 회수할 때에는 대기압 상태를 유지할 수 있도록 상기 약액 버퍼부 두 개는 가압 상태를 유지하다가 대기압 상태로 전환할 수 있거나 또는 대기압 상태를 유지하다가 가압 상태로 전환할 수 있게 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 필터부와 상기 약액 버퍼부 어느 하나는 상기 약액을 공급하는 제1 공급 라인 및 상기 약액을 회수하는 제1 회수 라인이 연결되고, 상기 필터부와 상기 약액 버퍼부 나머지 하나는 상기 약액을 공급하는 제2 공급 라인 및 상기 약액을 회수하는 제2 회수 라인이 연결되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 약액 버퍼부 어느 하나로부터 상기 필터부로 상기 약액을 공급함과 아울러 상기 필터부로부터 상기 약액 버퍼부 나머지 하나로 상기 약액을 회수할 때에는 상기 제1 공급 라인 및 상기 제2 회수 라인이 오픈됨과 아울러 상기 제2 공급 라인 및 상기 제1 회수 라인이 클로즈되고, 상기 약액 버퍼부 나머지 하나로부터 상기 필터부로 상기 약액을 공급함과 아울러 상기 필터부로부터 상기 약액 버퍼부 어느 하나로 상기 약액을 회수할 때에는 상기 제2 공급 라인 및 상기 제1 회수 라인이 오픈됨과 아울러 상기 제1 공급 라인 및 상기 제2 회수 라인이 클로즈되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 필터부로부터 상기 노즐로 공급되는 약액을 임시 저장한 후 상기 노즐로 공급할 수 있게 상기 필터부와 상기 노즐 사이에 구비되는 임시 버퍼부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100281179B1 (ko) 1998-07-06 2001-04-02 윤종용 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의공급방법
KR200247864Y1 (ko) * 2001-06-30 2001-10-31 동부전자 주식회사 포토레지스트 회수 구조를 갖는 포토레지스트 디스펜스시스템

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3947398B2 (ja) * 2001-12-28 2007-07-18 株式会社コガネイ 薬液供給装置および薬液供給方法
KR20060022993A (ko) * 2004-09-08 2006-03-13 삼성전자주식회사 포토레지스트 공급 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100281179B1 (ko) 1998-07-06 2001-04-02 윤종용 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의공급방법
KR200247864Y1 (ko) * 2001-06-30 2001-10-31 동부전자 주식회사 포토레지스트 회수 구조를 갖는 포토레지스트 디스펜스시스템

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