KR100281179B1 - 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의공급방법 - Google Patents

반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의공급방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 폐기되는 포토레지스트를 회수하여 재사용할 수 있도록 한 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의 공급방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치는, 도 3에 도시한 바와 같이, 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원(11)들, 상기 포토레지스트공급원들에 연결되어 포토레지스트를 일정량씩 저장하였다가 다시 공급하는 적어도 2개 이상의 완충탱크(12)들, 상기 완충탱크들에 연결되어 포토레지스트를 가압하는 가압펌프(20), 가압된 포토레지스트를 최종적으로 여과하는 필터(21), 상기 가압된 포토레지스트의 흐름을 소정의 제어수단에 의하여 단속하는 자동단속밸브(22), 실질적으로 웨이퍼(도시하지 않음) 상에 포토레지스트를 분사하는 노즐(23) 및 상기 회수탱크 및 필터와 연결되어 이들로부터 발생되는 폐기 포토레지스트를 회수하기 위한 회수탱크(16)를 포함하며, 상기 완충탱크들의 출구들이 입력단이 되고, 하나의 출력단을 갖는 제1유로변경밸브(14), 상기 제1유로변경밸브의 출력단과 상기 회수탱크의 출구들이 입력단이 되고, 그 출력단이 가압펌프와 연결되는 제2유로변경밸브(15)를 포함하여 구성된다.

Description

반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의 공급방법
본 발명은 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의 공급방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 포토레지스트의 웨이퍼에의 적용시에 폐기되는 포토레지스트를 회수하여 효율적으로 재사용할 수 있도록 한 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의 공급방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체장치의 제조과정에서는 반도체장치의 제조를 위한 웨이퍼 상의 특정막에 특정 패턴(Pattern)을 형성시키기 위하여 사진식각공정을 수행한다. 이러한 사진식각공정은 주로 상기 웨이퍼 상에 광화학반응을 일으키는 포토레지스트를 도포시킨 후 수행되며, 후속공정에서 이온주입이나 전극형성 등이 수행되게 된다.
포토레지스트의 웨이퍼 상에의 도포는 통상 스피너(Spinner)라 불리우는 상용적인 도포장치가 사용되고 있으며, 이 도포장치에서는 포토레지스트를 항상 일정하게 웨이퍼 상에 도포시키기 위하여 포토레지스트를 균일하게 공급하기 위한 포토레지스트 공급장치를 포함하고 있다.
도 1에 개략적으로 도시한 바와 같이, 종래의 포토레지스트 공급장치는 도포될 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트공급원(1), 상기 포토레지스트공급원(1)에 연결되어 포토레지스트를 일정량씩 저장하였다가 다시 공급하는 완충탱크(2), 상기 완충탱크(2)에 연결되어 포토레지스트를 가압하는 가압펌프(5), 가압된 포토레지스트를 최종적으로 여과하는 필터(6), 상기 가압된 포토레지스트의 흐름을 소정의 제어수단에 의하여 단속하는 자동단속밸브(7) 및 실질적으로 웨이퍼(도시하지 않음) 상에 포토레지스트를 분사하는 노즐(8)을 포함하여 구성된다.
이와 같은 종래의 포토레지스트 공급장치에서는 웨이퍼 상에 항상 일정한 양의 포토레지스트가 분사되도록 하기 위하여 항상 공기가 포함되지 않은 연속적인 흐름상태를 유지하는 포토레지스트만을 노즐(8)에까지 공급하여 웨이퍼 상으로 분사되도록 한다.
만일, 상기 완충탱크(2)나 필터(6) 등 실질적으로 공간이 있는 부분을 통과하는 경우에서 포토레지스트 중에 공기가 포함되거나 또는 완충탱크(2)에 충분한 양의 포토레지스트가 잔류하지 않고, 비게 되는 경우 등에서는 포토레지스트 중에 포함된 공기만큼 실질적으로 웨이퍼 상에 도포될 포토레지스트의 양이 감소하게 되어 균일한 포토레지스트의 도포를 불가능하게 하고, 이는 곧 불균일하거나 충분치 못한 포토레지스트막의 형성으로 이어져 소정의 패턴의 구현이 곤란하게 될 수 있으며, 그에 따라 반도체장치의 생산성이 저하될 수 있게 된다.
또한, 상기 완충탱크(2)에는 액위감지센서(3)가 취부되어 상기 완충탱크(2)내에 포토레지스트가 들어있는지의 여부를 감지할 수 있도록 구성되어 있으며, 그에 따라 상기 완충탱크(2)내에 포토레지스트가 다 소모되어 비게 되는 경우에는 자동적으로 그에 연결된 포토레지스트공급원(1)이 비어있는 것으로 판단할 수 있게 된다. 따라서, 포토레지스트공급원(1)이 비게 되는 경우에는 다른 포토레지스트공급원(1)과 그에 직결된 완충탱크(2)로부터 포토레지스트가 공급될 수 있도록 적어도 2개 이상의 완충탱크(2)들을 하나의 유로변경밸브(4)에 연결하여 어느 하나의 포토레지스트공급원(1)이나 완충탱크(2)가 비는 경우에도 다른 하나의 포토레지스트공급원(1)과 완충탱크(2)에로 포토레지스트의 공급을 절환하여 실질적으로 가압펌프(5)와 그에 연결되는 노즐(8)에는 항상 지속적으로 포토레지스트가 공급될 수 있도록 구성하고 있다.
따라서, 도 2에 도시한 순서도에서 명시한 바와 같이, 포토레지스트공급원(1)내의 포토레지스트의 존재여부, 완충탱크(2)내의 포토레지스트의 존재여부 및 필터(6)에서의 공기의 유입 등을 순차적으로 확인하고, 이상이 있는 경우, 해당 부분의 포토레지스트 일정량을 곧바로 도 1의 폐액통(9)으로 폐기하고, 새로운 포토레지스트공급원(1) 및 완충탱크(2)에로 연결이 이루어지도록 하므로써 최종적으로 노즐(8)을 통하여 웨이퍼 상으로 분사되는 포토레지스트의 분사량을 일정하게 유지하도록 하고 있다.
그러나, 이와 같은 종래의 구성에서는 폐기되는 포토레지스트의 양이 너무 많아 경제적이지 못하다는 단점이 있다.
특히, 포토레지스트의 경우 그 내부에 항상 일정한 점도를 유지하도록 용제가 포함되어 있으며, 이는 대기 중에의 노출에 의하여 쉽게 휘발되어 포토레지스트 자체를 사용불가능한 상태로 만들고 말기 때문에 회수 후 일정시간이 지나면 재사용이 불가능하다는 문제점이 있어 그대로 폐기하여야만 하는 문제점이 있었다.
더욱이, 상기한 바와 같은 구성을 갖는 종래의 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치의 경우, 원활한 포토레지스트의 도포공정을 위하여 공급장치의 내부를 세정하고자 하는 경우, 별도의 시너공급수단들이 구비되어 있지 않기 때문에 필터(6)와 노즐(8) 등 부분적인 세정을 하고자 하여도 포토레지스트공급원(1)을 제거하고, 여기에 시너공급원을 연결하여 항상 공급장치 전체의 내부를 세정하여야만 하는 불편점이 있었다.
따라서, 고가인 포토레지스트의 폐기량을 줄여 포토레지스트를 충분히 활용하면서도 웨이퍼 상에는 항상 정확한 양의 포토레지스트가 도포될 수 있도록 하는 새로운 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의 공급방법을 개발할 필요가 있다.
본 발명의 목적은 포토레지스트의 폐기량을 줄일 수 잇는 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 공급방법을 제공하는 데 있다.
도 1은 종래의 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치를 개략적으로 도시한 구성도이다.
도 2는 종래의 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치에서의 포토레지스트의 공급방법을 개략적으로 나타낸 흐름도이다.
도 3은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치를 개략적으로 도시한 구성도이다.
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치에서의 포토레지스트의 공급방법을 개략적으로 나타낸 흐름도이다.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 포토레지스트공급원 2 : 완충탱크
3 : 액위감지센서 4 : 유로변경밸브
5 : 가압펌프 6 : 필터
7 : 자동단속밸브 8 : 노즐
9 : 폐액통 11 : 포토레지스트공급원
12 : 완충탱크 13 : 액위감지센서
14 : 제1유로변경밸브 15 : 제2유로변경밸브
16 : 회수탱크 17 : 상한센서
18 : 하한센서 19 : 제3유로변경밸브
20 : 가압펌프 21 : 필터
22 : 자동단속밸브 23 : 노즐
24 : 시너공급원
본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치는, 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원들, 상기 포토레지스트공급원들에 연결되어 포토레지스트를 일정량씩 저장하였다가 다시 공급하는 적어도 2개 이상의 완충탱크들, 상기 완충탱크들에 연결되어 포토레지스트를 가압하는 가압펌프, 가압된 포토레지스트를 최종적으로 여과하는 필터, 상기 가압된 포토레지스트의 흐름을 소정의 제어수단에 의하여 단속하는 자동단속밸브, 실질적으로 웨이퍼(도시하지 않음) 상에 포토레지스트를 분사하는 노즐 및 상기 회수탱크 및 필터와 연결되어 이들로부터 발생되는 폐기 포토레지스트를 회수하기 위한 회수탱크를 포함하며, 상기 완충탱크들의 출구들이 입력단이 되고, 하나의 출력단을 갖는 제1유로변경밸브, 상기 제1유로변경밸브의 출력단과 상기 회수탱크의 출구들이 입력단이 되고, 그 출력단이 가압펌프와 연결되는 제2유로변경밸브를 포함하여 구성된다.
또한, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급방법은, 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원들 중 어느 하나의 포토레지스트공급원과 노즐을 통한 포토레지스트를 공급하는 제1공급단계; 상기 제1공급단계에서의 포토레지스트공급원이 비게 되는 경우에 다른 하나의 포토레지스트공급원으로 절환하여 포토레지스트를 공급하는 제2공급단계; 상기 제1공급단계와 제2공급단계들에서의 포토레지스트의 공급 동안에 발생되는 폐기 포토레지스트와 또한 필터에서의 공기의 유입으로 발생되는 폐기 포토레지스트를 항상 회수탱크에 계속적으로 회수하는 회수단계; 상기 회수단계에서 회수된 포토레지스트가 소정의 양에 도달한 경우에 상기 포토레지스트공급원들로부터의 포토레지스트의 공급을 상기 회수탱크내의 상기 회수된 포토레지스트로 절환하여 포토레지스트를 공급하는 회수포토레지스트공급단계; 및 회수된 포토레지스트가 비게 되는 경우에 다시 상기 제1공급단계 또는 상기 제2공급단계들 어느 하나의 공급단계에 의하여 포토레지스트를 공급하는 제3공급단계;들을 포함하여 구성된다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3에 개략적으로 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치는, 가압펌프(20)에 의하여 가압되어 노즐(23)을 통하여 웨이퍼 상으로 분사되어야할 포토레지스트의 공급을 연속적으로 지속할 수 있도록 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원(11)들이 하나의 노즐(23)에 연결될 수 있다. 이들 포토레지스트공급원(11)들로부터 공급되는 포토레지스트는 일단 이들에 직결되는 적어도 2개 이상의 완충탱크(12)들로 공급되고, 이 완충탱크(12)에는 항상 소정량의 포토레지스트가 채워져 있어 포토레지스트를 연속적으로 공급할 수 있는 상태를 유지토록 하는 기능을 한다. 이는 원래의 포토레지스트공급원(11)내의 포토레지스트가 고갈되는 경우에 이를 포토레지스트가 채워진 새로운 포토레지스트공급원(11)으로 대체될 때까지 한시적으로 포토레지스트를 공급할 수 있게 된다. 이를 위하여 상기 완충탱크(12)에는 액위감지센서(13)가 취부된다. 또한, 포토레지스트 공급장치의 안정적인 운영을 위하여 상기 포토레지스트공급원(11)과 이에 직결되는 완충탱크(12)는 각각 적어도 2개 이상이 연결될 수 있다. 그에 따라, 어느 하나의 포토레지스트공급원(11)과 이에 직결되는 완충탱크(12)내의 포토레지스트가 전부 비게 되는 경우에도 즉각적으로 다른 하나의 포토레지스트공급원(11)으로부터 계속적으로 포토레지스트를 공급할 수 있도록 하며, 또한 포토레지스트를 2개 이상의 포토레지스트공급원(11)으로부터 서로 교대로 공급되도록 운영할 수도 있다.
상기 완충탱크(12)들에 연결되어 포토레지스트를 가압하는 가압펌프(20), 가압된 포토레지스트를 최종적으로 여과하는 필터(21), 상기 가압된 포토레지스트의 흐름을 소정의 제어수단에 의하여 단속하는 자동단속밸브(22), 실질적으로 웨이퍼(도시하지 않음) 상에 포토레지스트를 분사하는 노즐(23) 등은 모두 종래의 포토레지스 공급장치에서의 그것들과 동일 또는 유사한 것으로서, 그 기능 역시 동일 또는 유사하게 될 수 있다.
즉, 상기 가압펌프(20)는 포토레지스트공급원(11) 또는 이에 직결된 완충탱크(12)로부터 유입되는 포토레지스트를 가압하여 노즐(23)을 통한 분사가 가능하도록 가압하는 기능을 수행하며, 상기 필터(21)는 상기 가압펌프(20)에 의하여 가압된 포토레지스트가 노즐(23)을 통하여 분사되기 직전에 이를 최종적으로 여과하는 기능을 수행하며, 상기 자동단속밸브(22)는 스핀척(도시하지 않음)에 웨이퍼(도시하지 않음)가 얹혀져서 포토레지스트의 분사가 가능한 상태에서는 상기 가압펌프(20)에 의하여 가압된 포토레지스트의 흐름을 연결하여 노즐(23)을 통한 분사가 가능하도록 하고, 이미 웨이퍼에의 도포가 종료된 상태, 또는 새로운 웨이퍼가 얹혀지기까지의 포토레지스트의 분사가 불가능한 상태에서는 상기 가압펌프(20)에 의하여 가압된 포토레지스트의 흐름을 단락시켜 노즐(23)을 통한 분사가 불가능하도록 하는 기능을 한다.
특히, 본 발명에서는 상기 회수탱크(16) 및 필터(21)와 연결되어 이들로부터 발생되는 폐기 포토레지스트를 회수하기 위한 회수탱크(16)를 포함하며, 상기 완충탱크(12)들의 출구들이 입력단이 되고, 하나의 출력단을 갖는 제1유로변경밸브(14), 상기 제1유로변경밸브(14)의 출력단과 상기 회수탱크(16)의 출구들이 입력단이 되고, 그 출력단이 가압펌프(20)와 연결되는 제2유로변경밸브(15)를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
상기 제1유로변경밸브 및 제2유로변경밸브는 적어도 3개의 출입구를 갖는 쓰리웨이밸브(3-way valve)가 사용될 수 있다.
상기 회수탱크(16)는 상기 회수탱크(16) 및 필터(21)와 연결되어 이들로부터 발생되는 폐기 포토레지스트를 회수하기 위하여 상기 회수탱크(16)와 필터(21)들에 연결되며, 그에 따라 공기의 유입 등으로 인하여 적절한 포토레지스트의 공급이 불가능한 경우에 폐기되는 포토레지스트를 일시적으로 저장할 수 있게 된다.
상기 회수탱크(16)내로 회수된 포토레지스트의 양이 소정량에 다다르게 되면, 상기 제2유로변경밸브(15)에 의하여 상기 회수탱크(16)로부터 상기 가압펌프(20)로의 포토레지스트의 공급이 이루어지도록 할 수 있다. 포토레지스트의 저장량에 따라 포토레지스트의 출입을 자동적으로 제어할 수 있도록 하기 위하여 상기 회수탱크(16)에는 회수탱크(16)내의 포토레지스트의 상한을 감지하기 위한 상한센서(17)와 또한 회수탱크(16)내의 포토레지스트의 하한을 감지하기 위한 하한센서(18)가 취부될 수 있다. 따라서, 상기 상한센서(17)에 의하여 포토레지스트의 상한이 감지되는 경우에는 곧바로 상기 가압펌프(20)로의 포토레지스트의 공급을 상기 포토레지스트공급원(11) 또는 이에 직결된 완충탱크(12)로부터 상기 회수탱크(16)로 절환하여 회수탱크(16)내의 포토레지스트를 먼저 가압펌프(20)에 공급하여 노즐(23)을 통한 분사가 이루어지도록 할 수 있다. 반대로, 상기 회수탱크(16)로부터의 포토레지스트의 상기 가압펌프(20)로의 공급 도중에서의 상기 하한센서(18)에 의하여 포토레지스트의 하한이 감지되는 경우에는 상기 회수탱크(16)로부터 상기 가압펌프(20)로의 포토레지스트의 공급을 중단하고, 다시 정상적으로 포토레지스트공급원(11) 또는 이에 직결된 완충탱크(12)로부터 상기 가압펌프(20)로 포토레지스트가 공급될 수 있도록 조절할 수 있다. 그리고, 포토레지스트의 공급의 절환시부터 다시 상기 회수탱크(16)에는 상기 완충탱크(12)나 필터(21) 등으로부터 폐기되는 포토레지스트들이 다시 회수될 수 있게 된다.
따라서, 상기한 바와 같은 구성의 본 발명에 따른 포토레지스트 공급장치에서는 상기 제1유로변경밸브(14)의 선택에 의하여 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원(11)들 및 이들에 직결되는 완충탱크(12)로부터의 포토레지스트의 공급을 선택하여 가압펌프(20)로 공급할 수 있도록 함은 물론 공정 중 폐기되는 포토레지스트를 일시적으로 회수탱크(16)로 회수하였다가 상기 제2유로변경밸브(15)의 선택에 의하여 선택적으로 회수된 포토레지스트를 가압펌프(20)로 공급할 수 있도록 할 수 있게 된다. 따라서, 항상 밀폐된 조건을 유지하는 포토레지스트 공급장치내에서 공기의 유입 등의 이유로 폐기되는 포토레지스트를 회수하여 그 점도 등이 변하지 않은 채로 바로 재사용할 수 있게 되며, 포토레지스트의 낭비를 최소화할 수 있게 된다.
더욱이, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치에서는 상기 제2유로변경밸브(15)와 사이 가압펌프(20) 사이에 제3유로변경밸브(19) 및 상기 제3유로변경밸브(19)의 하나의 입력단에 연결되는 시너공급원(24)을 더 포함할 수 있다. 상기 제3유로변경밸브(19)의 다른 하나의 입력단에는 상기 제2유로변경밸브(15)의 출력단이 연결되며, 그에 따라 상기 제3유로변경밸브(19)의 조절에 의하여 상기 제3유로변경밸브(19)를 통하여 포토레지스트 또는 시너가 선택적으로 흐를 수 있게 된다. 상기 제3유로변경밸브(19)를 경유하는 포토레지스트의 공급은 상기 가압펌프(20)에 의한 포토레지스트의 가압 및 이에 연결된 노즐(23)을 통한 포토레지스트의 분사가 가능하도록 하며, 반대로 상기 제3유로변경밸브(19)를 경유하는 시너의 공급은 가압펌프(20)와 필터(21) 및 회수탱크(16) 등 시너에 의한 포토레지스트 공급장치의 내부의 세정을 가능하게 할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급방법은, 도 4 및 도 5에 나타낸 흐름도에서와 같이 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원(11)들 중 어느 하나의 포토레지스트공급원(11)과 노즐(23)을 통한 포토레지스트를 공급하는 제1공급단계; 상기 제1공급단계에서의 포토레지스트공급원(11)이 비게 되는 경우에 다른 하나의 포토레지스트공급원(11)으로 절환하여 포토레지스트를 공급하는 제2공급단계; 상기 제1공급단계와 제2공급단계들에서의 포토레지스트의 공급 동안에 발생되는 폐기 포토레지스트와 또한 필터(21)에서의 공기의 유입으로 발생되는 폐기 포토레지스트를 항상 회수탱크(16)에 계속적으로 회수하는 회수단계; 상기 회수단계에서 회수된 포토레지스트가 소정의 양에 도달한 경우에 상기 포토레지스트공급원(11)들로부터의 포토레지스트의 공급을 상기 회수탱크(16)내의 상기 회수된 포토레지스트로 절환하여 포토레지스트를 공급하는 회수포토레지스트공급단계; 및 회수된 포토레지스트가 비게 되는 경우에 다시 상기 제1공급단계 또는 상기 제2공급단계들 어느 하나의 공급단계에 의하여 포토레지스트를 공급하는 제3공급단계;들을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
즉, 본 발명에서는 완충탱크(12)나 필터(21) 등으로부터 공기 등이 포함되어 폐기되는 포토레지스트를 회수하고, 이를 회수탱크(16)내에 회수된 포토레지스트의 양에 따라 자동적으로 포토레지스트의 공급을 포토레지스트공급원(11) 또는 이에 직결된 완충탱크(12)로부터 상기 회수탱크(16)로 절환하여 회수된 포토레지스트를 선행적으로 재사용할 수 있도록 하며, 회수탱크(16)내에 회수된 포토레지스트가 재사용된 후에는 다시 정상적으로 포토레지스트공급원(11) 또는 이에 직결된 완충탱크(12)로부터 포토레지스트가 공급되도록 하므로써 폐기되는 포토레지스트를 적절히 재사용할 수 있도록 한 점에 특징이 있는 것이다.
즉, 정상적인 포토레지스트공급원(11) 또는 이들에 직결된 완충탱크(12)로부터의 포토레지스트의 공급이 이루어지는 제1공급단계 또는 제2공급단계가 수행되는 동안 폐기되는 포토레지스트를 회수단계에서 회수탱크(16)내로 회수하며, 회수탱크(16)내의 포토레지스트의 양이 소정량이 되면 회수포토레지스트공급단계로 절환하여 상기 회수단계에서 회수된 포토레지스트를 즉시로 재사용하고, 회수탱크(16)내의 포토레지스트가 재사용되어 비게 되는 경우에는 다시 포토레지스트공급원(11) 또는 이에 직결된 완충탱크(12)로부터 포토레지스트의 공급을 재개하는 제3공급단계들로 구성하며, 특히 회수단계와 회수포토레지스트공급단계를 폐기 포토레지스트 회수 루틴을 사용하여 상기 포토레지스트 공급장치가 가동되는 동안 연속적으로 동작되도록 하므로써 폐기 포토레지스트의 회수 및 재사용이 효율적으로 이루어지도록 할 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 포토레지스트의 웨이퍼에의 적용시에 폐기되는 포토레지스트를 회수하여 효율적으로 재사용할 수 있도록 하므로써 고가인 포토레지스트의 폐기량을 줄여 포토레지스트를 충분히 활용하면서도 웨이퍼 상에는 항상 정확한 양의 포토레지스트가 도포될 수 있도록 하는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (6)

  1. 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원들, 상기 포토레지스트공급원들에 연결되어 포토레지스트를 일정량씩 저장하였다가 다시 공급하는 적어도 2개 이상의 완충탱크들, 상기 완충탱크들에 연결되어 포토레지스트를 가압하는 가압펌프, 가압된 포토레지스트를 최종적으로 여과하는 필터, 상기 가압된 포토레지스트의 흐름을 소정의 제어수단에 의하여 단속하는 자동단속밸브, 실질적으로 웨이퍼 상에 포토레지스트를 분사하는 노즐 및 상기 회수탱크 및 필터와 연결되어 이들로부터 발생되는 폐기 포토레지스트를 회수하기 위한 회수탱크를 포함하며, 상기 완충탱크들의 출구들이 입력단이 되고, 하나의 출력단을 갖는 제1유로변경밸브, 상기 제1유로변경밸브의 출력단과 상기 회수탱크의 출구들이 입력단이 되고, 그 출력단이 가압펌프와 연결되는 제2유로변경밸브를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 회수탱크에 그 내부에 수집되는 포토레지스트의 수위를 감지하기 위한 상한센서 및 하한센서가 더 취부됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1유로변경밸브 및 제2유로변경밸브는 적어도 3개의 출입구를 갖는 쓰리웨이밸브(3-way valve) 임을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2유로변경밸브와 사이 가압펌프 사이에 제3유로변경밸브 및 상기 제3유로변경밸브의 하나의 입력단에 연결되는 시너공급원을 더 포함함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제3유로변경밸브가 적어도 3개의 출입구를 갖는 쓰리웨이밸브(3-way valve) 임을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치.
  6. 적어도 2개 이상의 포토레지스트공급원들 중 어느 하나의 포토레지스트공급원과 노즐을 통한 포토레지스트를 공급하는 제1공급단계;
    상기 제1공급단계에서의 포토레지스트공급원이 비게 되는 경우에 다른 하나의 포토레지스트공급원으로 절환하여 포토레지스트를 공급하는 제2공급단계;
    상기 제1공급단계와 제2공급단계들에서의 포토레지스트의 공급 동안에 발생되는 폐기 포토레지스트와 또한 필터에서의 공기의 유입으로 발생되는 폐기 포토레지스트를 항상 회수탱크에 계속적으로 회수하는 회수단계;
    상기 회수단계에서 회수된 포토레지스트가 소정의 양에 도달한 경우에 상기 포토레지스트공급원들로부터의 포토레지스트의 공급을 상기 회수탱크내의 상기 회수된 포토레지스트로 절환하여 포토레지스트를 공급하는 회수포토레지스트공급단계; 및
    회수된 포토레지스트가 비게 되는 경우에 다시 상기 제1공급단계 또는 상기 제2공급단계들 어느 하나의 공급단계에 의하여 포토레지스트를 공급하는 제3공급단계;
    들을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급방법.
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