KR100744240B1 - 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치 - Google Patents
감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100744240B1 KR100744240B1 KR1020050132741A KR20050132741A KR100744240B1 KR 100744240 B1 KR100744240 B1 KR 100744240B1 KR 1020050132741 A KR1020050132741 A KR 1020050132741A KR 20050132741 A KR20050132741 A KR 20050132741A KR 100744240 B1 KR100744240 B1 KR 100744240B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- automatic
- nitrogen gas
- storage container
- valve
- bubble
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
본 발명은 반도체 소자 제조를 위한 감광액(photo resist) 공급시스템의 질소 반자동 공급장치에 관한 것이다.
본 발명은, 감광액 저장용기 교체후에 실시하는 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업을 거의 자동으로 실시할 수 있는 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치로서, 질소가스공급라인상에 구비되어 개폐작동하게 되는 자동온오프밸브와, 드레인라인상에 구비되어 개폐작동하게 되는 자동드레인밸브와, 상기 드레인라인을 통해 배출되는 기포를 감지하기 위해 구비되는 기포감지센서와, 상기 기포감지센서에서 기포가 감지되지 않는 시점에서 상기 자동온오프밸브와 상기 자동드레인밸브를 폐쇄시키게 되는 컨트롤러와, 상기 저장용기측에 구비되어 공급되는 질소가스에 의해 상기 저장용기 내부가 과압되는 것을 감지하여 상기 컨트롤러로 하여금 상기 자동온오프밸브와 상기 자동드레인밸브를 폐쇄하도록 하게 되는 과압감지센서를 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 감광액 공급시스템에서 감광액 저장용기 교체후의 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업이 거의 자동으로 실시될 수 있게 되므로, 자동화에 따른 편리성을 제공하고, 노동부하를 경감할 수 있으며, 작업시간 단축에 따른 공정생산성 향상을 기할 수 있고, 필요시점에서 지체됨 없이 즉시 드레인라인을 폐쇄하게 되므로 불필요한 감광액의 배출을 방지하여 제조원가를 절감할 수 있으며, 무엇보다도 수작업시 작업자 실수에 의해 야기될 수 있는 감광막 도포불량을 방지하여 생산수율을 제고시킬 수 있는 효과가 있다.
감광액, 코터, 질소, 기포, 드레인, 웨이퍼, 반도체
Description
도 1은 종래의 감광액 공급시스템을 보여주는 개략도,
도 2는 본 발명에 따른 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치를 설명하는 개략도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100-1 : 제1저장용기 100-2 : 제2저장용기
101-1 : 제1과압감지센서 101-2 : 제2과압감지센서
102-1 : 제1질소가스공급라인 102-2 : 제2질소가스공급라인
104-1 : 제1온오프밸브 104-2 : 제2온오프밸브
104'-1 : 제1자동온오프밸브 104'-2 : 제2자동온오프밸브
105-1 : 제1자동체크밸브 105-2 : 제2자동체크밸브
106 : 전송라인 107-1 : 제1액체감지센서
107-2 : 제2액체감지센서 108-1 : 제1버퍼탱크
108-2 : 제2버퍼탱크 110-1 : 제1드레인라인
110-2 : 제2드레인라인 112-1 : 제1드레인밸브
112-2 : 제2드레인밸브 112'-1 : 제1자동드레인밸브
112'-2 : 제2자동드레인밸브 113-1 : 제1기포감지센서
113-2 : 제2기포감지센서 114 : 삼방향밸브
116 : 펌프 118 : 필터
120 : 셕백수단 122 : 분사노즐
124 : 컨트롤러 P : 감광액
W : 웨이퍼
본 발명은 반도체 소자 제조를 위한 감광액(photo resist) 공급시스템의 질소 반자동 공급장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 감광액 저장용기를 새로운 것으로 교체한 후에 실시하게 되는 질소가스 공급을 통한 기포(bubble) 제거작업을 거의 자동으로 실시할 수 있는 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조를 위한 포토(photo)공정은 웨이퍼(wafer)상에 감광액(PR ; Photo Resist)을 도포하여 감광막을 형성시키는 코팅(coating)공정과, 감광막이 형성된 웨이퍼상에 노광용 광을 조사하여 패턴(pattern)을 그려주게 되는 노광(exposing)공정과, 노광된 웨이퍼를 현상하여 패턴을 형성시키게 되는 현상(developing)공정으로 이루어져 있다.
그 중, 감광액을 도포하는 코팅공정은 주로 스핀코터(spin coater) 장비를 이용하여 수행되게 되며, 익히 주지된 바와 같이, 스핀코터는 웨이퍼를 회전시키면서 해당 웨이퍼의 중심부에 감광액을 떨어뜨려, 떨어진 감광액이 회전에 따른 원심력에 의해 외측으로 균일하게 퍼져 코팅되도록 하게 된다.
통상, 스핀코터로 공급되는 감광액은 그 오염가능성의 차단을 위해 처음부터 용기(bottle)단위로 제공되며, 하나의 저장용기내의 것이 모두 소진되게 되면, 새로운 저장용기의 것으로 교체하게 된다.
도 1은 종래의 감광액 공급시스템을 보여주는 개략도이다.
감광액 공급시스템은, 감광액 저장용기들(100-1, 100-2)과, 이 저장용기들(100-1, 100-2)로부터 공급되는 감광액(P)을 일시 저장하였다가 재차 균일하게 공급하게 되는 버퍼탱크(buffer tank)들(108-1, 108-2)과, 버퍼탱크들(108-1, 108-2)에 저장된 감광액(P)을 펌핑하기 위한 펌프(116)와, 펌프(116)에 의해 펌핑된 감광액(P)내에 포함되어 있는 기포(bubble)를 제거하기 위한 필터(filter)(118)와, 필터(118)에서 필터링된 감광액(P)을 회전하는 웨이퍼(W)의 표면상에 분사하기 위해 스핀코터측에 구비되는 분사노즐(122) 등을 포함한다.
여기서, 저장용기들(100-1, 100-2)로부터 스핀코터측의 분사노즐(122)까지는 전송라인(106)을 통해 연결되는데, 저장용기들(100-1, 100-2)로부터 버퍼탱크들(108-1, 108-2) 후방측까지는 각기 대응되는 두개의 전송라인들(106)이 이용되고, 버퍼탱크들(108-1, 108-2) 후방측에 구비되는 삼방향밸브(3-way valve)(114)로부터 분사노즐(122)까지는 하나의 전송라인(106)을 통해 연결되게 된다.
전술한 삼방향밸브(114)는 그 전방측의 두개의 전송라인(106)중 어느 하나를 선택적으로 연통시키기 위해 이용되는 것이다.
또한, 필터(118)와 분사노즐(122) 사이의 전송라인(106)상에는 분사노즐(122)을 통한 감광액(P)의 분사가 정지되는 시점에서 감광액(P)이 분사노즐(122)을 통해 추가로 흘러 내리는 것을 방지하기 위해 역으로 빨아들이는 작용을 하게 되는 셕백(suck-back)수단(120)이 구비되게 된다.
그리고, 버퍼탱크들(108-1, 108-2)에는 각기 별도의 드레인라인(drain line)(110-1, 110-2)이 연결되게 되며, 이 드레인라인(110-1, 110-2)상에는 각기 그 개폐를 위한 수동식 드레인밸브(drain valve)(112-1, 112-2)가 구비되어 있다.
나아가, 저장용기들(100-1, 100-2)과 버퍼탱크들(108-1, 108-2)간의 전송라인들(106)상에는 각기 전송되는 감광액(P)의 양을 감지하게 되는 액체감지센서(107-1, 107-2)가 구비되게 되고, 각 액체감지센서(107-1, 107-2)는 한쌍의 발광부로 수광부로 이루어져 있다.
덧붙여, 저장용기들(100-1, 100-2)에는 각기 질소가스공급라인(102-1, 102-2)이 연결되게 되며, 해당 질소가스공급라인(102-1, 102-2)상에는 각기 그 개폐를 위한 수동식 온오프밸브(104-1, 104-2)가 구비되어 있다.
이상과 같은 구성을 갖는 종래의 감광액 공급시스템의 작용에 대해 이하 설명하기로 한다.
제1저장용기(100-1)내에 수용되어 있는 감광액(P)이 분사노즐(122)측으로 공급되어 웨이퍼(W)상에 도포되게 되는 경우, 펌프(116)에 의한 흡인력에 의해 해당하는 제1저장용기(100-1)로부터 제1버퍼탱크(108-1)를 거쳐 분사노즐(122)측으로 감광액(P)이 공급되게 되며, 시간 경과에 따라 해당 제1저장용기(100-1)내에 저장되어 있는 감광액(P)은 점차 소진되어 결국 한계량 이상의 소량이 남게 되고, 이에 따라 제1저장용기(100-1)와 제1버퍼탱크(108-1) 사이의 전송라인(106)을 통해 전송되는 감광액량이 현저하게 저하되게 되므로, 이를 해당 전송라인(106)상에 구비되어 있는 제1액체감지센서(107-1)가 감지하여, 감지신호를 별도의 컨트롤러(controller)(미도시)측으로 송신하여 컨트롤러를 통해 "감광액 엠프티(empty) 에러(error)"가 외부로 표시되게 되는 한편, 해당 전송라인(106)과 제1버퍼탱크(108-1)내에는 기포(bubble)들이 차기 시작하고, 삼방향밸브(114)는 제1버퍼탱크(108-1)와 펌프(116)간의 연통을 폐쇄시키게 된다.
이어서, 작업자는 컨트롤러를 통해 저장용기(100-1)를 교체해야 할 시점이 도래하였다는 것을 확인하고, 이후 새로운 제2저장용기(100-2)의 것이 이용될 수 있도록 준비하게 된다.
즉, 작업자는 제2저장용기(100-2)측에 제2질소가스공급라인(102-2)을 연결한 후에 해당 제2질소가스공급라인(102-2)상에 구비되어 있는 수동식 제2온오프밸브(104-2)를 개방하여 제2질소가스공급라인(102-2)을 통해 제2저장용기(100-2)내로 질소가스가 공급되도록 함과 아울러, 제2버퍼탱크(108-2)측의 제2드레인라인(110-2)상에 구비되어 있는 제2드레인밸브(112-2)도 조작하여 또한 개방시키게 된다.
이에 따라, 제2저장용기(100-2) 내부는 제2질소가스공급라인(102-2)을 통해 공급되는 질소가스에 의해 가압되게 되며, 그 가압에 따라 제2저장용기(100-2)내의 감광액이 인출되기 시작하여 공급되면서 제2저장용기(100-2)와 제2버퍼탱크(108-2) 간의 전송라인(106) 및 제2버퍼탱크(108-2)내에 존재하고 있던 기포들을 밀어서 해당 기포들이 제2버퍼탱크(108-2)에 연결되어 있는 제2드레인라인(110-2)을 통해 배출되도록 하게 되며, 물론 이때 제2드레인라인(110-2)을 통해서는 기포들과 함께 일부 감광액도 배출되게 된다.
즉, 새로운 저장용기(110-2)로 교체한 직후에는 그 본격적인 감광액(P) 공급에 앞서 해당하는 전송라인(106) 및 버퍼탱크(108-2)내에 존재하고 있던 기포들을 먼저 질소가스 공급을 통해 제거하게 되며, 이와 같이 사전에 기포들을 제거하는 이유는 해당 기포들이 만약 감광액(P)과 함께 공급되어 분사노즐(122)측에서 분사되게 된다면, 웨이퍼(W)상으로 공급되는 감광액(P)의 유량이 변동되어 균일한 감광막을 형성시킬 수 없기 때문이다.
이어서, 작업자는 제2드레인라인(110-2)을 통해 배출되는 기포들을 육안으로 확인하여 기포들이 더 이상 배출되지 않는 것을 확인하는 시점에서, 제2드레인라인(110-2)상의 제2드레인밸브(112-2)를 조작하여 폐쇄시키고, 제2저장용기(100-2)로부터 제2질소가스공급라인(102-2)의 연결을 해체하게 된다.
이로써, 질소가스 공급을 통한 기포 제거작업은 완료되게 되는 것이며, 이후 펌프(116)가 구동되어 해당하는 제2저장용기(100-2)로부터 분사노즐(122)측으로 감광액(P)이 원활히 공급되게 된다.
그러나, 전술한 바와 같이 종래에는 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업이 수동방식으로 진행되어 다음과 같은 여러 문제점이 있었다.
먼저, 평균적으로 하루에 3회 정도 저장용기(100-1, 100-2)를 교체하게 되므 로, 그 교체작업이 매우 번거롭고, 노동부하를 야기시키게 되는 문제점이 있었다.
그리고, 수작업에 의하므로, 아무래도 그 작업시간이 많이 소요되게 되어, 그 만큼 공정생산성을 저하시키게 되는 문제점도 있었다.
또한, 작업자의 조작 능력에 의존하게 되므로, 미숙한 경우에는 드레인밸브(112-2)를 다소 늦게 차단하게 되어, 그 만큼 고가의 감광액(P)을 불필요하게 낭비시킴으로써, 제조원가를 상승시키게 되는 문제점이 있었다.
나아가, 무엇보다도 기포제거 후에 작업자가 실수로 저장용기(100-2)로부터 질소가스공급라인(102-2)의 연결을 해체하지 않게 되는 경우에는 질소가스가 펌프(116)측으로 유입되어 펌프(116)의 손상을 야기시킴과 아울러, 해당 펌프(116)의 원활한 작동을 방해하여 감광액(P) 공급량을 변동시키게 됨으로써, 도포불량을 야기시켜 생산수율을 저감시키게 되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 제반 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 저장용기 교체후 실시하는 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업을 거의 자동으로 실시할 수 있어, 작업자의 조작 실수를 방지하고, 불필요한 감광액 손실을 억제할 수 있는 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치는, 감광액 저장용기 교체후에 실시하는 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업을 거의 자동으로 실시할 수 있는 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치로서, 질소가스공급라인상에 구비되어 개폐작동하게 되는 자동온오프밸브와, 드레인라인상에 구비되어 개폐작동하게 되는 자동드레인밸브와, 상기 드레인라인을 통해 배출되는 기포를 감지하기 위해 구비되는 기포감지센서와, 상기 기포감지센서에서 기포가 감지되지 않는 시점에서 상기 자동온오프밸브와 상기 자동드레인밸브를 폐쇄시키게 되는 컨트롤러와, 상기 저장용기측에 구비되어 공급되는 질소가스에 의해 상기 저장용기 내부가 과압되는 것을 감지하여 상기 컨트롤러로 하여금 상기 자동온오프밸브와 상기 자동드레인밸브를 폐쇄하도록 하게 되는 과압감지센서를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 목적과 여러가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 따른 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치를 설명하는 개략도이다.
설명에 앞서, 종래와 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 부기하고, 그 상세한 설명은 일부 생략함을 밝힌다.
본 발명에 따르면, 저장용기(100-1, 100-2) 교체후 실시하게 되는 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업을 거의 자동화하여, 작업자의 조작 실수를 방지하면서 불필요한 감광액(P)의 손실도 억제하게 된다.
이를 위해, 기존에 질소가스공급라인(102-1, 102-2)상에 구비되던 수동식 온오프밸브들(104-1, 104-2)은 모두 자동온오프밸브(104'-1, 104'-2)로 대체되게 되고, 또한 드레인라인(110-1, 110-2)상에 구비되던 수동식 드레인밸브들(112-1, 112-2)도 모두 자동드레인밸브(112'-1, 112'-2)로 대체되게 된다.
그리고, 저장용기(100-1, 100-2)측에는 질소가스 공급시 그 내부가 과압되는 것을 감지하기 위한 과압감지센서들(101-1, 101-2)이 각기 추가로 구비되게 되며, 이 과압감지센서(101-1, 101-2)는 바람직하게 저장용기(100-1, 100-2)의 캡(cap)측에 고정되도록 구비될 수 있다.
또한, 드레인라인(110-1, 110-2)상에는 배출되는 기포를 감지하기 위한 기포감지센서들(113-1, 113-2)이 각기 추가로 구비되게 되며, 바람직하게 기포감지센서(113-1, 113-2)는 자동드레인밸브(112'-1, 112'-2) 후방측에 구비될 수 있고, 각 기포감지센서(113-1, 113-2)는 한쌍의 발광부로 수광부로 이루어질 수 있다.
나아가, 저장용기(100-1, 100-2)와 버퍼탱크(108-1, 108-2)간의 전송라인(106)상에는 자동체크밸브들(105-1, 105-2)이 각기 추가로 구비되게 된다.
덧붙여, 전술한 감지수단들인 액체감지센서(107-1, 107-2), 과압감지센서(101-1, 101-2) 및 기포감지센서(113-1, 113-2)와 연동하여 자동밸브들인 자동온오프밸브(104'-1, 104'-2), 자동체크밸브(105-1, 105-2) 및 자동드레인밸브(112'-1, 112'-2)를 작동제어하기 위한 컨트롤러(124)가 구비되게 된다.
이상과 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치의 작용에 대해 이하 설명하기로 한다.
제1저장용기(100-1)내에 수용되어 있는 감광액(P)이 분사노즐(122)측으로 공급되어 웨이퍼(W)상에 도포되게 되는 경우, 펌프(116)에 의한 흡인력에 의해 해당하는 제1저장용기(100-1)로부터 제1버퍼탱크(108-1)를 거쳐 분사노즐(122)측으로 감광액(P)이 공급되게 되며, 시간 경과에 따라 해당 제1저장용기(100-1)내에 저장되어 있는 감광액(P)은 점차 소진되어 결국 한계량 이상의 소량이 남게 되고, 이에 따라 제1저장용기(100-1)와 제1버퍼탱크(108-1) 사이의 전송라인(106)을 통해 전송되는 감광액량이 현저하게 저하되게 되므로, 이를 해당 전송라인(106)상에 구비되어 있는 제1액체감지센서(107-1)가 감지하여, 감지신호를 컨트롤러(124)측으로 송신하여 해당 컨트롤러(124)를 통해 "감광액 엠프티(empty) 에러(error)"가 외부로 표시되게 되는 한편, 해당 전송라인(106)과 제1버퍼탱크(108-1)내에는 기포들이 차기 시작하고, 삼방향밸브(114)는 제1버퍼탱크(108-1)와 펌프(116)간의 연통을 폐쇄시키게 된다.
따라서, 작업자는 컨트롤러(124)를 통해 저장용기(100-1)를 교체해야 할 시점이 도래하였다는 것을 확인하고, 새로운 제2저장용기(100-2)를 장착한 다음, 해당 제2저장용기(100-2)에 제2질소가스공급라인(102-2)을 연결한 후, 컨트롤러(124)상의 시작키(start key)를 온(on)시키게 된다.
그러면, 컨트롤러(124)는 제2저장용기(100-2)와 대응되는 제2자동온오프밸브(104'-2), 제2자동체크밸브(105-2) 및 제2자동드레인밸브(112'-2) 모두를 동시에 개방시키게 된다.
따라서, 제2자동온오프밸브(104'-2)의 개방에 따라 제2질소가스공급라인(102-2)을 통해 제2저장용기(100-2)내로 질소가스가 공급되어 가압하게 되며, 그 가압에 따라 제2저장용기(100-2)내의 감광액(P)이 인출되기 시작하여 공급되면서 제2저장용기(100-2)와 제2버퍼탱크(108-2)간의 전송라인(106) 및 제2버퍼탱크(108- 2)내에 존재하고 있던 기포들을 밀어서 제2버퍼탱크(108-2)에 연결되어 있는 제2드레인라인(110-2)을 통해 배출되도록 하게 되며, 물론 이때 제2드레인라인(110-2)을 통해서는 기포들과 함께 일부 감광액(P)도 배출되게 된다.
만약, 이때 개방된 세개의 제2자동온오프밸브(104'-2), 제2자동체크밸브(105-2) 및 제2자동드레인밸브(112'-2)중의 어느 하나에서라도 작동 이상이 발생되어 제2저장용기(100-2) 내부가 공급되는 질소가스에 의해 너무 과다하게 가압되게 되는 경우에는 제2저장용기(100-2)측에 구비되어 있는 제2과압감지센서(101-2)가 이를 감지하여 그 감지신호를 컨트롤러(124)측으로 송신함으로써, 이에 대해 컨트롤러(124)가 즉시 세개의 밸브들(104'-2, 105-2, 112'-2)을 모두 폐쇄시키고, 에러를 표시하게 된다.
이어서, 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업이 어느 정도 진행되면, 내부에 존재하던 기포들이 거의 제거되게 되어 제2드레인라인(110-2)을 통해 배출되는 기포들이 없게 되므로, 해당 제2드레인라인(110-2)상에 구비되어 있는 제2기포감지센서(113-2)가 이를 감지하여 그 감지신호를 컨트롤러(124)측으로 송신하게 되며, 이에 대해 컨트롤러(124)는 즉시 개방되어 있던 제2자동온오프밸브(104'-2)와 제2자동드레인밸브(112'-2)를 폐쇄시켜 더 이상 질소가스가 공급되지 않고 제2드레인라인(110-2)를 통해서도 더 이상 배출이 이루어지지 않도록 하게 된다.
이로써, 질소가스 공급을 통한 기포 제거작업은 완료되게 되며, 이후에는 종래와 동일하게 펌프(116)가 구동되어 해당하는 제2저장용기(100-2)로부터 분사노즐(122)측으로 감광액(P)이 원활히 공급되게 된다.
한편, 부언하면, 저장용기(100-1, 100-2)와 버퍼탱크(108-1, 108-2) 사이에 구비되는 자동체크밸브(105-1, 105-2)는 저장용기(100-1, 100-2)내에서 질소가스에 의한 과압현상이 발생되게 되는 경우 해당 과압된 질소가스가 버퍼탱크(108-1, 108-2)측으로 진행하는 것을 차단하기 위해 구비되는 것이다.
마지막으로, 이상과 같은 본 발명에 따르면, 질소가스 공급을 통한 기포 제거작업이 거의 자동으로 실시될 수 있게 되므로, 편리성을 제공하고, 노동부하를 경감시키며, 작업시간 단축이 가능하여 공정생산성을 향상시킬 수 있고, 필요시점에서 지체됨 없이 드레인라인(110-2)을 폐쇄하게 되므로 불필요한 감광액(P)의 배출을 방지하여 제조원가를 절감시킬 수 있으며, 무엇보다도 수작업시 작업자 실수에 의해 야기될 수 있는 감광막 도포불량을 방지하여 생산수율을 제고시킬 수 있게 되는 것이다.
이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정과 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다.
본 발명에 따르면, 감광액 공급시스템에서 감광액 저장용기 교체후의 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업이 거의 자동으로 실시될 수 있게 되므로, 자동화에 따른 편리성을 제공하고, 노동부하를 경감할 수 있으며, 작업시간 단축에 따른 공정생산성 향상을 기할 수 있고, 필요시점에서 지체됨 없이 즉시 드레인라인을 폐쇄하게 되므로 불필요한 감광액의 배출을 방지하여 제조원가를 절감할 수 있으며, 무 엇보다도 수작업시 작업자 실수에 의해 야기될 수 있는 감광막 도포불량을 방지하여 생산수율을 제고시킬 수 있는 효과가 달성될 수 있다.
Claims (3)
- 감광액 저장용기 교체후에 실시하는 질소가스 공급에 의한 기포 제거작업을 거의 자동으로 실시할 수 있는 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치로서,질소가스공급라인상에 구비되어 개폐작동하게 되는 자동온오프밸브와,드레인라인상에 구비되어 개폐작동하게 되는 자동드레인밸브와,상기 드레인라인을 통해 배출되는 기포를 감지하기 위해 구비되는 기포감지센서와,상기 기포감지센서에서 기포가 감지되지 않는 시점에서 상기 자동온오프밸브와 상기 자동드레인밸브를 폐쇄시키게 되는 컨트롤러와,상기 저장용기측에 구비되어 공급되는 질소가스에 의해 상기 저장용기 내부가 과압되는 것을 감지하여 상기 컨트롤러로 하여금 상기 자동온오프밸브와 상기 자동드레인밸브를 폐쇄하도록 하게 되는 과압감지센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 과압감지센서가 과압을 검출하는 시점에서 폐쇄되도록 작동제어되어 과압된 질소가스가 진행하는 것을 차단하기 위해 상기 저장용기 후방측의 전송라인상에 구비되게 되는 자동체크밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050132741A KR100744240B1 (ko) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050132741A KR100744240B1 (ko) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070069976A KR20070069976A (ko) | 2007-07-03 |
KR100744240B1 true KR100744240B1 (ko) | 2007-07-30 |
Family
ID=38505532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050132741A KR100744240B1 (ko) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100744240B1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100922553B1 (ko) * | 2007-12-26 | 2009-10-21 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 소자 제조 장치 |
KR102666440B1 (ko) * | 2021-12-02 | 2024-05-20 | 세메스 주식회사 | 감광액 공급 시스템 및 감광액 관리 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040071950A (ko) * | 2003-02-07 | 2004-08-16 | 삼성전자주식회사 | 드레인 라인으로의 포토레지스트 유출을 방지할 수 있는포토레지스트 공급 장치 |
US20050016449A1 (en) * | 2003-07-11 | 2005-01-27 | Wang-Sheng Chen | Photoresist coating system |
KR20050030984A (ko) * | 2003-09-27 | 2005-04-01 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 공급장치 |
KR20050098410A (ko) * | 2004-04-07 | 2005-10-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치 |
-
2005
- 2005-12-28 KR KR1020050132741A patent/KR100744240B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040071950A (ko) * | 2003-02-07 | 2004-08-16 | 삼성전자주식회사 | 드레인 라인으로의 포토레지스트 유출을 방지할 수 있는포토레지스트 공급 장치 |
US20050016449A1 (en) * | 2003-07-11 | 2005-01-27 | Wang-Sheng Chen | Photoresist coating system |
KR20050030984A (ko) * | 2003-09-27 | 2005-04-01 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 공급장치 |
KR20050098410A (ko) * | 2004-04-07 | 2005-10-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070069976A (ko) | 2007-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7165494B2 (en) | System and method for delivering and flushing ink and other liquids in a printing press | |
JP3628895B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
US10557410B2 (en) | Apparatus and method for engine cleaning | |
JP5163256B2 (ja) | 塗液供給装置およびこれを用いた塗液供給方法 | |
JP2015167934A (ja) | 塗布装置 | |
KR100744240B1 (ko) | 감광액 공급시스템의 질소 반자동 공급장치 | |
DK173668B1 (da) | Fremgangsmåde samt pumpeunit til forsyning af et trykværk med farve og rensevæske | |
CN114345644B (zh) | 光刻胶输送系统 | |
EP1013438B1 (en) | Flush system for ink change | |
JP2004128441A (ja) | 半導体コーティング設備のフォトレジストパージ制御装置及びフォトレジストパージ制御方法 | |
JP2007324383A (ja) | フォトレジスト供給装置 | |
JP2001007004A (ja) | 薬液供給装置および薬液供給方法 | |
KR20090056154A (ko) | 포토레지스트 노즐팁 세정장치 | |
KR100244477B1 (ko) | 반도체 웨이퍼코터의 세정액 자동공급장치 및 그방법 | |
KR100281179B1 (ko) | 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의공급방법 | |
JP3281663B2 (ja) | ロータリ充填機の洗浄用キャップ自動着脱装置 | |
KR102378983B1 (ko) | 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법 | |
KR100491713B1 (ko) | 포장체 인쇄 장치의 잉크 공급방법 및 그 세정 방법 | |
KR100921725B1 (ko) | 포토레지스트 도포 장치 및 이의 제어 방법 | |
US5927301A (en) | Beverage conservation method and system | |
EP1013440B1 (en) | Fluid flush system for ink jet printing system | |
KR100505493B1 (ko) | 감광액을 자동적으로 배기하는 장치 | |
KR100699118B1 (ko) | 반도체 제조용 트랙장비의 감광제 공급장치 및 제어방법 | |
KR200247864Y1 (ko) | 포토레지스트 회수 구조를 갖는 포토레지스트 디스펜스시스템 | |
KR20060078950A (ko) | 포토레지스트 필터 퍼지시스템 및 그 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
G170 | Re-publication after modification of scope of protection [patent] | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |