JP4627681B2 - 基板の処理装置及び処理方法 - Google Patents
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Description
上記処理液供給手段は、
容器本体と、
この容器本体内を上記処理液が供給される流入部及びこの流入部に供給された処理液がオーバフローして流入する貯液部に区画した仕切体と、
上記貯液部の底壁に形成されこの貯液部に上記流入部から流入して所定の高さで貯えられた処理液を上記基板の上面に供給する流出部と、
上記流入部の側壁の上端部に形成され上記流入部に供給された処理液の液面が上記仕切体の上端とほぼ同じ高さに上昇したときにその液面に浮遊する気泡を上記貯液部に流入させずに上記容器本体の外部に流出させる排出部を具備し、
上記排出部は、上記流入部の側壁の上端部に形成された山形状の凹凸部であって、その凹部の下端は上記仕切体の上端とほぼ同じ高さに設定されていることを特徴とする基板の処理装置にある。
上記流入部に設けられこの流入部内を2つの部屋に区画するとともに上記給液管から一方の部屋に供給された処理液を衝突させてその勢いを減少させてから他方の部屋にオーバフローさせる上記仕切体よりも低い高さの衝突壁とを備えていることが好ましい。
上記基板を搬送する工程と、
内部が仕切体によって上記処理液が供給される流入部及びこの流入部に供給された処理液がオーバフローして流入する貯液部に区画された容器本体を有し、所定の位置に搬送された基板の上面に、上記貯液部に流入した処理液をこの貯液部の底壁に形成された流出部から上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に供給する工程と、
上記基板に処理液を供給する前に、その処理液に含まれる気泡を除去する工程を具備し、
上記気泡を除去する工程は、上記流入部の側壁の上端部に凹部の下端が上記仕切体の上端とほぼ同じ高さに設定されて形成された山形状の凹凸部の、上記凹部によって上記気泡を上記貯液部に流入させずに上記容器本体から外部に排出することを特徴とする基板の処理方法にある。
なお、容器本体32の上面開口は、メッシュなどによって形成された図示しない蓋部材によって覆うようにしてもよい。
Claims (5)
- 搬送される基板の上面を処理液供給手段から供給される処理液によって処理する処理装置であって、
上記処理液供給手段は、
容器本体と、
この容器本体内を上記処理液が供給される流入部及びこの流入部に供給された処理液がオーバフローして流入する貯液部に区画した仕切体と、
上記貯液部の底壁に形成されこの貯液部に上記流入部から流入して所定の高さで貯えられた処理液を上記基板の上面に供給する流出部と、
上記流入部の側壁の上端部に形成され上記流入部に供給された処理液の液面が上記仕切体の上端とほぼ同じ高さに上昇したときにその液面に浮遊する気泡を上記貯液部に流入させずに上記容器本体の外部に流出させる排出部を具備し、
上記排出部は、上記流入部の側壁の上端部に形成された山形状の凹凸部であって、その凹部の下端は上記仕切体の上端とほぼ同じ高さに設定されていることを特徴とする基板の処理装置。 - 上記流出部は、上記貯液部の底壁に上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って所定間隔で形成され上記貯液部に貯えられた処理液を上記基板の上面に直線状に流出する複数のノズル孔からなることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記流入部に接続されこの流入部に上記処理液を供給する給液管と、
上記流入部に設けられこの流入部内を2つの部屋に区画するとともに上記給液管から一方の部屋に供給された処理液を衝突させてその勢いを減少させてから他方の部屋にオーバフローさせる上記仕切体よりも低い高さの衝突壁とを備えていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。 - 上記流入部の側壁の外側には、上記排出部から気泡とともに排出される処理液を受ける排液部が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 搬送される基板の上面に処理液を供給して処理する処理方法であって、
上記基板を搬送する工程と、
内部が仕切体によって上記処理液が供給される流入部及びこの流入部に供給された処理液がオーバフローして流入する貯液部に区画された容器本体を有し、所定の位置に搬送された基板の上面に、上記貯液部に流入した処理液をこの貯液部の底壁に形成された流出部から上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に供給する工程と、
上記基板に処理液を供給する前に、その処理液に含まれる気泡を除去する工程を具備し、
上記気泡を除去する工程は、上記流入部の側壁の上端部に凹部の下端が上記仕切体の上端とほぼ同じ高さに設定されて形成された山形状の凹凸部の、上記凹部によって上記気泡を上記貯液部に流入させずに上記容器本体から外部に排出することを特徴とする基板の処理方法。
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