KR101406048B1 - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 경사진 기판의 반송(搬送) 방향을 따라 처리액을 같은 압력으로 공급할 수 있도록 한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것에 있다. 경사지게 반송되는 기판의 경사 방향을 따라 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치(31)는, 하단면이 경사진 경사면(32a)에 형성되고, 그 경사면이 반송되는 기판의 경사진 상면과 평행으로 설치된 용기 본체(32)와, 용기 본체에 형성되고, 내부에 처리액이 공급되어 저류(貯留)되는 액저장부(35)와, 경사면에 개구되어 형성되고 액저장부의 처리액을 기판 상면의 경사 방향의 전체 길이에 걸쳐서 직선형으로 유출시키는 노즐공(40)과, 액저장부를 복수개의 챔버(42)로 구획하고, 노즐공의 각 챔버에 대응하는 부분으로부터 기판에 처리액을 각 챔버에 공급되어 저류된 처리액의 수두(水頭)에 따른 압력으로 유출시키는 구획 부재(41)와, 각 챔버에 공급되어 저류되어 노즐공의 각 챔버에 대응하는 부분으로부터 유출되는 처리액의 압력이 같아지도록 각각의 챔버의 처리액의 수두를 설정하는 후벽(32b)을 구비한다.
기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 액저장부, 노즐공, 챔버, 구획 부재

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 {APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATES AND METHOD OF TREATING SUBSTRATES}
도 1은 본 발명의 일실시예를 나타낸 처리 장치로서, 기판의 반송 방향과 교차하는 방향에 따른 단면도이다.
도 2는 반송되는 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치의 평면도이다.
도 3은 용기 본체의 길이 방향과 교차하는 방향에 따른 단면도이다.
도 4는 도 2의 Y-Y선에 따른 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예를 나타낸 처리액 공급 장치의 길이 방향에 따른 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예를 나타낸 용기 본체의 단면도이다.
[특허 문헌] 일본국 특개 2000-94325호 공보
본 발명은 예를 들면, 대형 사이즈의 액정 표시 패널 등의 기판을 반송(搬送)하면서 처리액으로 처리하는 기판 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것이다.
액정 표시 패널에 사용되는 유리제의 기판에는 회로 패턴이 형성된다. 기판에 회로 패턴을 형성하는 데는 리소그라피 프로세스가 채용된다. 리소그라피 프로세스는 주지하는 바와 같이 상기 기판에 레지스트를 도포하고, 이 레지스트에 회로 패턴이 형성된 마스크를 통하여 광을 조사(照射)한다.
다음에, 레지스트의 광이 조사되지 않은 부분 또는 광이 조사된 부분을 제거하고, 레지스트가 제거된 부분을 에칭한다. 그리고, 에칭 후에 기판으로부터 레지스트를 제거하는 일련의 공정을 복수회 반복함으로써, 상기 기판에 회로 패턴을 형성한다.
이와 같은 리소그라피 프로세스에 있어서는, 상기 기판에 현상액, 에칭액 또는 에칭 후에 레지스트를 제거하는 박리액 등의 처리액에 의해 기판을 처리하는 공정, 또한 처리액에 의한 처리 후에 세정액에 의해 세정하는 공정이 필요하다.
상기 현상액, 에칭액 또는 박리액 등의 처리액에 의해 기판을 처리하는 경우, 그 처리를 기판의 판면 전체에 대하여 균일하게 행하기 위해서는, 기판에 처리액이 공급되었을 때의 젖음성(프리 웨트)이 균일하게 이루어질 것이 요구된다.
예를 들면, 처리액을 가압하여 노즐 등으로 분사시키면, 처리액은 입상(粒狀)으로 되어 비산(飛散)되므로, 기판에 대하여 균일하게 부착되지 않는 경우가 있다. 즉, 처리액에 의한 프리 웨트가 균일하게 행해지지 않는다. 그 결과, 처리액에 의한 처리도 균일하게 행할 수 없는 경우가 있다.
그래서, 하단면에 슬릿형의 유출부가 형성된 처리액 공급 장치를, 반송되는 기판의 위쪽으로 반송 방향과 교차하는 방향인, 폭방향을 따라 배치하고, 상기 처 리액 공급 장치에 공급된 처리액을 상기 유출부로부터 수두(水頭;water head)에 의한 압력으로 유출시킴으로써, 기판의 폭방향에 대하여 처리액을 균일하게 공급하는 것이 행해지고 있다.
그런데, 최근에는 액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판이 대형화 및 박형화되는 경향에 있다. 그러므로, 기판을 수평 반송하면, 기판에 공급된 처리액의 중량에 의해 기판의 휨이 커져서, 기판의 반송이 원활하게 행해지지 않는 경우가 있다. 또한, 기판의 상면에 다량의 처리액이 잔류한 상태에서, 기판이 처리부로부터 반출되게 되므로, 처리액을 회수하여 재이용하는 경우, 처리액의 소비량이 많게 되어, 런닝 비용의 상승을 초래하는 한 요인으로 되어 있었다.
이와 같은 문제를 해결하기 위하여, 최근에는 기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송함으로써, 기판의 판면에 공급된 처리액을 원활하게 유출시켜, 기판의 굴곡을 적게 하거나, 기판과 함께 처리부로부터 꺼내지는 처리액의 양을 적게 하는 것이 실용화되어 있다.
특허 문헌에는 기판의 폭 방향 전체 길이에 걸쳐서 처리액을 공급하는 유출부로서의 슬릿이 형성된 처리액용 노즐 장치가 나타나 있다. 그러나, 특허 문헌에는 기판을 경사지게 하여 반송하는 것은 나타나 있지 않다.
기판을 경사지게 하여 반송하는 경우, 이 기판의 경사 각도에 따라 상기 처리액 공급 장치도 경사지게 하여 배치하게 된다. 처리액 공급 장치를 경사지게 하여 배치하면, 그 경사 방향의 일단과 타단에 높이의 차이가 생긴다. 그러므로, 그 높이의 차이에 따라 처리액 공급 장치의 내부에 형성된 액저장부에 공급된 처리액에 수두차(水頭差)가 생긴다.
즉, 처리액의 수두는, 경사 방향의 상단에 비해 하단 쪽이 경사에 의해 생긴 높이의 차분만큼 커지게 된다. 그에 따라 상기 처리액 공급 장치의 유출부의 경사 방향의 하단부로부터 유출되는 처리액의 압력이 상단부로부터 유출되는 처리액의 압력보다 커지므로, 기판의 반송 방향과 교차하는 경사 방향(폭 방향)에 있어서의 처리액에 의한 프리 웨트가 처리액의 수두차에 따른 압력차에 의해 불균일하게 되는 경우가 있다.
본 발명은, 기판을 경사지게 하여 반송하는 경우, 반송 방향과 교차하는 경사 방향에 대하여 공급되는 처리액을 압력차가 없는 상태로 균일하게 공급할 수 있도록 함으로써, 처리액에 의한 기판의 처리를 균일하게 행할 수 있도록 한 기판 처리 장치 및 처리 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명은, 소정 각도로 경사지고 그 경사 방향과 교차하는 방향으로 반송되는 기판의 상면을 처리액 공급 수단으로부터 공급되는 처리액에 의해 처리하는 기판 처리 장치로서,
상기 처리액 공급 수단은,
하단면이 길이 방향을 따라 경사진 경사면에 형성되고, 그 경사면이 반송되는 상기 기판의 경사진 상면과 평행하게 되도록 설치된 용기 본체와,
상기 용기 본체에 형성되고, 내부에 상기 처리액이 공급되어 저류(貯留)되는 액저장부와,
상기 경사면에 개구되어 형성되고, 상기 액저장부에 공급되어 저류된 상기 처리액을 상기 용기 본체의 액저장부로부터 상기 기판 상면의 경사 방향의 전체 길이에 걸쳐 직선형으로 유출(流出)시키는 유출부와,
상기 액저장부를 상기 기판의 경사 방향에 대하여 복수개의 챔버로 구획하는 구획 부재와,
상기 유출부의 각 챔버에 대응하는 부분으로부터 유출되는 처리액의 압력이 같아지도록 각 챔버에 저류되는 처리액의 수두(水頭)를 설정하는 수두 설정 수단
을 구비한 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치에 있다.
본 발명은, 소정 각도로 경사지고 그 경사 방향과 교차하는 방향으로 반송되는 기판의 상면을 처리액에 의해 처리하는 기판의 처리 방법으로서,
상기 기판의 반송 방향과 교차하는 방향의 전체 길이에 걸쳐서 상기 처리액을 상기 기판의 경사진 상면과 평행한 높이 위치로부터 수두에 의한 압력으로 공급하는 공정과,
상기 기판에 공급되는 처리액의 상기 기판의 경사 방향의 상단과 하단에 있어서의 높이의 차이에 의해 생기는 상기 처리액의 수두차를 제거하는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 방법에 있다.
본 발명에 의하면, 반송 방향과 교차하는 방향에 대하여 경사진 기판에 대하여, 그 경사 방향에 대하여 처리액을 수두차가 대략 생기는 일 없이 공급할 수 있으므로, 기판의 경사 방향에 대하여 처리액을 압력차가 생기는 일 없이 공급하여, 기판을 처리액에 의해 균일하게 처리하는 것이 가능해진다.
[발명을 실시하기 위한 바람직한 실시예]
이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.
도 1 내지 도 4는 본 발명의 제1 실시예를 나타내고, 도 1은 기판 처리 장치의 개략적 구성도, 도 2는 평면도, 도 3은 종단면도이다. 도 1에 나타낸 바와 같이 상기 처리 장치는 상자 형상의 장치 본체(1)를 가진다. 이 장치 본체(1)의 길이 방향 일단에는 반입구(2)가 수평으로 형성되고, 타단에는 도시하지 않은 반출구가 상기 반입구(2)와 같은 높이로 형성되어 있다.
상기 장치 본체(1) 내에는 반송 기구(4)가 설치되어 있다. 이 반송 기구(4)는 직사각형 프레임형의 프레임(5)을 가진다. 이 프레임(5)은 상기 장치 본체(1) 내의 폭 방향 일단과 타단에 설치된 받이부재(6)에 의해 지지되어 있다. 한쪽의 받이부재(6)에는 높이 조정 부재(7)가 설치되어 있다. 그에 따라 상기 프레임(5)은 장치 본체(1)의 폭방향에 대하여 소정 각도로 경사져 있다.
상기 프레임(5)에는 축선을 장치 본체(1)의 폭방향에 따른 복수개의 반송축(11)이 장치 본체(1)의 길이 방향에 대하여 소정 간격으로 설치되어 있다. 각 반송축(11)은 양단이 상기 프레임(5)의 폭 방향 양단에 설치된 베어링(12)에 의해 회전 가능하게 지지되고, 상기 프레임(5)과 같은 각도로 장치 본체(1)의 폭방향에 대하여 경사져 있다. 그리고, 반송축(11)은 현상액, 박리액 또는 에칭액 등의 처리액에 의해 부식되는 경우가 없는 금속 재료에 의해 형성되어 있다.
또한, 각 반송축(11)에는 축방향으로 소정 간격으로 복수개의 반송 롤러(13) 가 설치되어 있다. 통상, 상기 반송축(11)은 처리액에 대하여 내식성(耐蝕性)을 구비한 스테인레스강 등의 금속 재료에 의해 형성되고, 상기 반송 롤러(13)는 동일하게 내식성을 구비한 염화 비닐 등의 합성 수지에 의해 형성되어 있다.
상기 프레임(5)의 높이 방향 상단의 일측 외측에는 전달축(14)이 장치 본체(1)의 길이 방향을 따라 설치되어 있다. 이 전달축(14)의 중도부에는 종동 기어(15)가 설치되어 있다. 이 종동 기어(15)에는 구동 기어(16)가 맞물려 있다. 이 구동 기어(16)는 장치 본체(1)의 외부에 설치된 구동원(17)의 출력축(18)에 끼워장착되어 있다.
상세는 도시하지 않지만, 상기 반송축(11)의 상기 전달축(14) 측에 위치하는 일단부에는 제1 베벨 기어가 설치되어 있다. 제1 베벨 기어에는 상기 반송축(11)에 설치된 제2 베벨 기어가 맞물려 있다. 따라서, 상기 구동원(17)이 작동하여 상기 구동 기어(16) 및 종동 기어(15)를 통하여 상기 전달축(14)이 회전되면, 상기 제1, 제2 베벨 기어를 통하여 상기 반송축(11)이 회전 구동된다. 그에 따라 상기 반입구(2)로부터 장치 본체(1) 내에 공급되어 반송축(11)의 반송 롤러(13)에 지지된 액정 표시 패널 등의 기판 W는 반출구를 향해 반송되도록 되어 있다.
그리고, 반송 롤러(13)에 의해 지지되어 반송되는 기판 W의 폭 방향 양단은, 상기 프레임(5)에 설치된 래디얼 베어링(19)에 의해 지지된다. 그에 따라 기판 W는 장치 본체(1)의 폭방향에 대하여 사행(蛇行)되지 않고 반송되도록 되어 있다.
상기 장치 본체(1) 내에는, 상기 반송축(11)에 설치된 반송 롤러(13)에 의해, 반송되는 기판 W의 상면에 전술한 현상액, 박리액 또는 에칭액 등의 처리액 L 을 기판 W의 반송 방향과 교차하는 폭방향을 따라 직선형으로 공급하는 처리액 공급 수단으로서의 처리액 공급 장치(31)가 설치되어 있다.
상기 처리액 공급 장치(31)는 도 2 내지 도 4에 나타낸 바와 같이, 용기 본체(32)를 가진다. 이 용기 본체(32)는 상기 기판 W의 폭 방향, 즉 장치 본체(1)의 폭방향을 따라 가늘고 긴 동시에, 상면이 개구되고 하면이 반송되는 기판 W의 경사 각도와 같은 각도로 경사진 경사면(32a)에 형성된 상자형으로 되어 있다.
상기 용기 본체(32)의 폭치수는 상기 기판 W의 폭 치수보다 길게 설정되어 있으므로, 내부는 용기 본체(32)의 길이 방향으로 소정 간격으로 설치된 구획 부재(41)에 의해 복수개, 이 실시예에서는 5개의 챔버(42a)~(42e)로 분할되어 있다.
각 챔버(42a)~(42e)는 용기 본체(32)의 길이 방향을 따라 설치된 분할벽(33)에 의해 이 길이 방향과 직교하는 방향으로 유입부(34)와 액저장부(35)로 나눌 수 있다. 이 실시예에서는, 상기 유입부(34)는 도 3에 화살표에 나타낸 기판 W의 반송 방향의 상류측에 위치하고, 액저장부(35)는 하류측에 위치하고 있다. 이 액저장부(35)의 내저면(35a)은 상기 경사면(32a)과 평행으로 형성되어 있다. 즉, 내저면(35a)은 기판 W의 경사 각도와 같은 각도로 경사져 있다.
그리고, 도 3에 나타낸 바와 같이 상기 유입부(34)의 하면은 상기 액저장부(35)의 하면보다 높아져 있지만, 유입부(34)의 하면은 액저장부(35)의 하면과 마찬가지로, 기판 W의 경사 각도와 같은 각도로 경사진 경사면(32a)으로 형성되어 있다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 각 챔버(42a)~(42e)의 유입부(34) 측에 위치하는 벽(32b)의 하부에는, 이 후벽(32b)의 폭방향을 따라 각각 액공급구체(36)가 설치되어 있다. 각 액공급구체(36)에는 처리액의 급액관(37)의 일단이 접속되어 있다. 급액관(37)의 타단은 도시하지 않은 처리액의 공급부에 연통되어 있다. 그에 따라 각 챔버(42a)~(42e)의 유입부(34)에는 상기 후벽(32b)의 하부로부터 처리액이 소정의 압력으로 공급되도록 되어 있다.
각 챔버(42a)~(42e)의 유입부(34)에는, 이 유입부(34) 내를 상기 액공급구체(36) 측에 위치하는 제1 부분(38a)과 상기 액저장부(35) 측에 위치하는 제2 부분(38b)으로 구획한 충돌벽(39)이 용기 본체(32)의 길이 방향을 따라 설치되어 있다.
상기 충돌벽(39)의 높이는 상기 분할벽(33)의 높이보다 낮게 설정되어 있다. 그에 따라 상기 액공급구체(36)로부터 제1 부분(38a)에 공급된 처리액 L은 충돌벽(39)에 충돌하여 기세가 약해지면서 제1 부분(38a)에 모여 액면이 상승한다. 그리고, 액면이 충돌벽(39)과 대략 같은 높이로 상승하면, 그 충돌벽(39)을 도 3에 화살표에 나타낸 바와 같이 오버플로하여 제2 부분(38b)에 유입된다.
처리액 L은 액공급구체(36)로부터 제1 부분(38a)에 힘차게 유입되므로, 공기를 말려들려하여, 그것이 기포의 발생의 원인으로 된다. 그러나, 액공급구체(36)로부터 제1 부분(38a)에 유입된 처리액 L은 충돌벽(39)과 충돌하여 기세가 약해지고나서 충돌벽(39)을 오버플로하여 제2 부분(38b)에 유입된다.
즉, 처리액 L은 제1 부분(38a)에 유입될 때의 기세로 난류(亂流)가 생겨 기포의 발생을 초래하지만, 제2 부분(38b)에는 난류가 생기는 일 없이 조용하게 유입 되므로, 그 때 기포의 발생을 초래하는 경우는 거의 없다.
처리액 L이 제2 부분(38b)에 오버플로하고, 유입부(34)의 액면이 분할벽(33)의 상단과 대략 같은 높이로 되면, 처리액 L은 도 3에 화살표에 나타낸 바와 같이 분할벽(33)을 오버플로하여 액저장부(35)에 유입된다. 그 때에도, 처리액 L은 오버플로에 의해 액저장부(35)에 난류가 되지 않고 조용하게 유입되므로, 난류의 발생을 초래하지 않는다.
상기 액저장부(35)의 저벽에는, 그 내저면(35a)와 경사면(32a)을 연통시키는 유출부로서의 복수개의 노즐공(40)이 용기 본체(32)의 폭방향을 따라 소정 간격으로 일렬로 형성되어 있다. 이 실시예에서는, 상기 노즐공(40)은 구멍 직경이 0.5mm이며, 피치가 0.7mm로 설정되어 있다.
각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)의 높이는 상기 분할벽(33)보다 높고, 용기 본체(32)의 유입부(34) 측의 앞벽(32d)보다 낮게 설정되어 있다. 그에 따라 유입부(34)와 액저장부(35)에 저장 처리액 L의 높이가 후벽(32b)과 대략 같은 높이로 되면, 처리액 L은 상기 후벽(32b)을 오버플로하고, 이 후벽(32b)의 외면 측에 벽 부재(44)에 의해 형성된 액배출부(43)에 유입된다. 액배출부(43)에 유입된 처리액 L은 도시하지 않은 배액관을 통해 회수된다.
그리고, 상기 용기 본체(32)의 앞벽(32d) 및 길이 방향 양단에 위치하는 한쌍의 측벽(32c)의 높이는 상기 구획 부재(41)와 같은 높이, 즉 후벽(32b)보다 높게 설정되어 있다. 그에 따라 용기 본체(32)의 길이 방향 양단에 위치하는 한쌍의 챔버(42a, 42e)에 공급된 처리액 L도 각각의 챔버의 후벽(32b)으로부터 액배출부(43) 로 오버플로하도록 되어 있다.
각 챔버(42a)~(42e)의 유입부(34)와 액저장부(35)에 저장된 처리액 L은 도 3에 H로 나타낸 수두에 따른 압력으로 상기 노즐공(40)으로부터 유출된다. 노즐공(40)은 0.7mm의 좁은 피치로 형성되어 있으므로, 인접하는 노즐공(40)으로부터 유출되는 처리액 L은 연이어 기판 W의 상면에 일직선으로 되어 공급된다. 즉, 유출부를 복수개의 노즐공(40)에 의해 형성해도, 처리액 L은 각 노즐공(40)마다 나누어지는 일 없이, 기판 W의 경사진 폭방향을 따라 직선형으로 공급된다.
상기 실시예에서는 처리액의 유출부를 복수개의 노즐공(40)에 의해 형성하였으나, 액저장부(35)의 저벽에 슬릿(도시하지 않음)을 형성하고, 이 슬릿으로부터 처리액 L을 직선형으로 유출시키도록 해도 된다.
각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)은, 각 챔버에 저장되는 처리액 L의 수두 H가 같아지도록 설정되어 있다. 즉, 각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)의 상단면은 각 챔버의 액저장부(35)에 저장되는 처리액 L의 수두 H(도 4에 나타낸)와 같은 높이로 설정되어 있다.
즉, 이 실시예에서는, 각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)이 각 챔버의 액저장부(35)에 저장되는 처리액 L의 수두 H를 같은 높이로 설정하는 수두 설정 수단으로서의 오버플로 벽을 구성하고 있다.
상기 용기 본체(32)는 기판 W와 같은 각도로 경사지게 배치되어 있다. 따라서, 5개의 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)을 수두 H와 같은 높이로 하면, 이들 후벽(32b)의 상단면은 도 4에 나타낸 바와 같이 용기 본체(32)의 경사 방향 위쪽으로 부터 아래쪽에 감에 따라 차례로 낮아지는 계단형으로 된다.
각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)의 높이를 챔버에 저장되는 처리액 L의 수두 H와 마찬가지로 하면, 각 챔버(42a)~(42e)의 노즐공(40)으로부터 유출되는 처리액 L의 압력도 같아지게 된다.
즉, 용기 본체(32) 내를 복수개의 챔버(42a)~(42e)로 구획하고, 각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)으로부터 처리액 L이 오버플로할 때의 각각의 챔버(42a)~(42e)에 저장되는 처리액 L의 수두가 같아지도록, 각 챔버(42)의 후벽(32b)의 높이가 설정되어 있다. 그에 따라 각 챔버(42a)~(42e)의 노즐공(40)으로부터는 처리액 L을 같은 압력으로 유출시킬 수 있다.
이와 같은 구성의 처리 장치에 의하면, 급액관(37)으로부터 공급되는 처리액 L이 각 챔버(42a)~(42e)의 유입부(34)에 모이면, 처리액 L은 분할벽(33)을 오버플로하여 액저장부(35)에 유입된다. 또한, 처리액 L이 공급되어 액저장부(35)에도 충분히 머무르고, 그 액면이 후벽(32b)의 상단면과 마찬가지로 되면, 그 상단면으로부터 액배출부(43)에 오버플로한다.
그에 따라 각 챔버(42a)~(42e)의 처리액 L의 수두 H는 후벽(32b)의 높이와 동일하게 유지된다. 즉, 각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)은, 각각의 챔버에 저장되는 처리액 L의 수두 H가 같아지도록, 같은 높이로 설정되어 있다.
따라서, 처리액 L은 각 챔버(42a)~(42e)의 노즐공(40)으로부터 기판 W의 경사진 상면의 폭방향을 따라 같은 압력으로 유출되므로, 경사 방향과 교차하는 방향으로 반송되는 기판 W는 처리액 L에 의해 전체면이 균일하게 처리(프리 웨트)되게 된다.
또한, 각 챔버(42a)~(42e)에 공급된 처리액 L을 후벽(32b)으로부터 오버플로시키도록 했기 때문에, 처리액 L이 급액관(37)으로부터 유입부(34)에 공급될 때에 기포를 말려들게 해도, 그 기포는 유입부(34) 및 액저장부(35)의 액면에 부유하여 후벽(32b)으로부터 오버플로하는 처리액 L과 함께 액배출부(43)에 배출된다. 그러므로, 기판 W에 공급되는 처리액 L에 기포가 포함되지 않으므로, 기판 W 상에 기포가 부착되어 처리액 L에 의한 처리에 불균일이 생기는 것을 방지할 수 있다.
상기 일실시예에서는 용기 본체 내에 구획체에 의해 유입부와 액저장부를 형성하였으나, 유입부가 없이, 액저장부만으로도 지장이 없고, 그 경우에는 각 챔버의 액저장부를 형성하는 후벽의 상기 액저장부의 내저면으로부터의 높이가 같아지도록 설정하면 된다.
도 5는 수두 설정 수단의 변형예를 나타내는 본 발명의 제2 실시예이다. 이 실시예는, 용기 본체(32)에 설치되는 후벽(32b)을 구획 부재(41)와 대략 같은 높이로 하고, 각 챔버(42a)~(42e)의 후벽(32b)의 폭 방향 중앙에 대응하는 부분에, 액저장부(35)와 유입부(34)에 고인 처리액 L을 액배출부(43)에 유출시키는 유출공(51)을, 각 챔버(42a)~(42e)의 액저장부(35)의 내저면(35a)으로부터 같은 높이로 천설(穿設)하도록 하고 있다.
그에 따라 각 챔버(42a)~(42e)에 저장되는 처리액 L의 수두를 동일하게 할 수 있으므로, 처리액 L을 각 챔버(42a)~(42e)에 대응하는 노즐공(40)으로부터 경사진 기판 W의 경사 방향을 따라 같은 압력으로 공급할 수 있다.
그리고, 수두 설정 수단은 상기 각 실시예에 나타낸 예에 한정되지 않고, 예를 들면, 용기 본체에 챔버를 구획 형성하는 구획 부재에, 경사 방향 위쪽의 챔버에 저장된 처리액을 아래쪽의 챔버로 퇴피시키는 유출공을, 각 챔버의 액저장부의 내저면으로부터 같은 높이 위치에 형성하도록 해도 된다.
그리고, 최하단의 챔버에 유입된 처리액을, 그 챔버의 후벽 또는 측벽으로부터 유출시켜, 그 챔버의 수두를 다른 챔버의 수두와 마찬가지로 되도록 하면, 처리액을 각 챔버의 노즐공으로부터 같은 압력으로 유출시킬 수 있다.
즉, 수두 설정 수단은 용기 본체에 구획 형성된 복수개의 챔버에 저장되는 처리액의 수두를 같게 할 수 있는 구성이면 된다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예를 나타낸다. 이 실시예는, 용기 본체(32)의 경사면(32a)에, 노즐공(40)으로부터 유출되는 처리액 L을, 기판 W의 반송 방향 전방을 향해 가이드하는 가이드면(45a)을 가지는 가이드 부재(45)를 설치하도록 했다. 가이드면(45a)의 경사 각도는 30~60도의 범위가 바람직하다.
이와 같이, 노즐공(40)으로부터 유출되는 처리액 L을 기판 W의 반송 방향 전방으로 가이드하면, 처리액 L이 기판 W의 폭방향에 있어서 부분적으로 기판 W의 반송 방향과 역방향, 즉 반송 방향 상류측으로 흐르는 것이 방지된다. 그에 따라 기판 W의 폭 방향 전체 길이에 대하여 처리액 L이 균일하게 공급되므로, 기판 W를 불균일하지 않고 균일하게 처리하는 것이 가능해진다.
본 발명에 의하면, 반송 방향과 교차하는 방향에 대하여 경사진 기판에 대하 여, 그 경사 방향에 대하여 처리액을 수두차가 대략 생기는 일 없이 공급할 수 있으므로, 기판의 경사 방향에 대하여 처리액을 압력차가 생기는 일 없이 공급하여, 기판을 처리액에 의해 균일하게 처리하는 것이 가능해진다.

Claims (6)

  1. 소정 각도로 경사져 그 경사 방향과 교차하는 방향으로 반송(搬送)되는 기판의 상면을 처리액 공급 수단으로부터 공급되는 처리액에 의해 처리하는 기판 처리 장치로서,
    상기 처리액 공급 수단은,
    하단면이 길이 방향을 따라 경사진 경사면에 형성되고, 그 경사면이 반송되는 상기 기판의 경사진 상면과 평행하게 되도록 설치된 용기 본체,
    상기 용기 본체에 설치된 분할 벽에 의해 상기 용기 본체에 분할 형성되는 유입부와 액저장부,
    상기 경사면에 개구되어 형성되고, 상기 액저장부에 저류된 상기 처리액을 상기 용기 본체의 액저장부로부터 상기 기판 상면의 경사 방향의 전체 길이에 걸쳐서 직선형으로 유출시키는 유출부,
    상기 용기 본체 내부를 상기 기판의 경사 방향에 대하여 복수개의 챔버로 구획하는 구획 부재,
    상기 유출부의 각 챔버에 대응하는 부분으로부터 유출되는 처리액의 압력이 같아지도록 각 챔버에 저류되는 처리액의 수두(水頭;water head)를 설정하는 수두 설정 수단
    을 구비하고,
    상기 수두 설정 수단은, 각 챔버에 설치되어, 각각의 챔버에 공급되어 저류되는 처리액을 상기 유입부측으로부터 오버플로시켜 각 챔버의 수두가 같아지도록 설정하는 오버플로 벽인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유입부에는, 상기 유입부에 공급되는 상기 처리액이 충돌하는 충돌벽이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제1항 또는 제3항에 있어서,
    상기 유출부에는, 상기 유출부로부터 유출되는 상기 처리액을 상기 기판의 반송 방향 전방으로 가이드하는 가이드 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
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