JP2007319824A - 基板の処理装置及び処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】傾斜して搬送される基板の傾斜方向に沿って処理液を供給する処理液供給装置31は、下端面が傾斜した傾斜面32aに形成されその傾斜面が搬送される基板の傾斜した上面と平行に配設された容器本体32と、容器本体に形成され内部に処理液が供給貯留される貯液部35と、傾斜面に開口して形成され貯液部の処理液を基板の上面の傾斜方向の全長にわたって直線状に流出させるノズル孔40と、貯液部を複数のチャンバ42に隔別しノズル孔の各チャンバに対応する部分から基板に処理液を各チャンバに供給貯留された処理液の水頭に応じた圧力で流出させる仕切り部材41と、各チャンバに供給貯留されてノズル孔の各チャンバに対応する部分から流出する処理液の圧力が同じになるようそれぞれのチャンバの処理液の水頭を設定する後壁32bとを具備する。
【選択図】 図3
Description
上記処理液供給手段は、
下端面が長手方向に沿って傾斜した傾斜面に形成されその傾斜面が搬送される上記基板の傾斜した上面と平行になるよう配設された容器本体と、
この容器本体に形成され内部に上記処理液が供給貯留される貯液部と、
上記傾斜面に開口して形成され上記貯液部に供給貯留された上記処理液を上記容器本体の貯液部から上記基板の上面の傾斜方向の全長にわたって直線状に流出させる流出部と、
上記貯液部を上記基板の傾斜方向に対して複数のチャンバに隔別する仕切り部材と、
上記流出部の各チャンバに対応する部分から流出する処理液の圧力が同じになるよう各チャンバに貯留される処理液の水頭を設定する水頭設定手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記基板の搬送方向と交差する方向の全長にわたって上記処理液を上記基板の傾斜した上面と平行な高さ位置から水頭による圧力で供給する工程と、
上記基板に供給される処理液の上記基板の傾斜方向の上端と下端とにおける高さの差によって生じる上記処理液の水頭差を除去する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法にある。
Claims (3)
- 所定の角度で傾斜しその傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液供給手段から供給される処理液によって処理する基板の処理装置であって、
上記処理液供給手段は、
下端面が長手方向に沿って傾斜した傾斜面に形成されその傾斜面が搬送される上記基板の傾斜した上面と平行になるよう配設された容器本体と、
この容器本体に形成され内部に上記処理液が供給貯留される貯液部と、
上記傾斜面に開口して形成され上記貯液部に供給貯留された上記処理液を上記容器本体の貯液部から上記基板の上面の傾斜方向の全長にわたって直線状に流出させる流出部と、
上記貯液部を上記基板の傾斜方向に対して複数のチャンバに隔別する仕切り部材と、
上記流出部の各チャンバに対応する部分から流出する処理液の圧力が同じになるよう各チャンバに貯留される処理液の水頭を設定する水頭設定手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記水頭設定手段は、各チャンバに設けられそれぞれのチャンバに供給貯留される処理液をオーバフローさせて各チャンバの水頭が同じになるよう設定するオーバフロー壁であることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 所定の角度で傾斜しその傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液によって処理する基板の処理方法であって、
上記基板の搬送方向と交差する方向の全長にわたって上記処理液を上記基板の傾斜した上面と平行な高さ位置から水頭による圧力で供給する工程と、
上記基板に供給される処理液の上記基板の傾斜方向の上端と下端とにおける高さの差によって生じる上記処理液の水頭差を除去する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法。
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