JP2003303806A - 処理液の供給装置、供給方法及び基板の処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は所定方向に搬送される基板の幅方
向全長にわたって処理液を均一に供給することができる
処理液の供給装置を提供することにある。 【解決手段】 所定方向に沿って搬送される基板の上面
に、その搬送方向と交差する方向に沿って処理液を直線
状に供給する供給装置において、上面が開口し内部を空
間部とした細長い容器状の本体２１と、この本体内の上
記空間部を、下端が第１の抵抗流路４２によって連通し
かつ上記本体の長手方向と交差する前後方向に位置する
第１の空間部３８と第２の空間部３９とに隔別するとと
もに、上記前後方向の後方に位置する第１の空間部の上
端開口から供給された処理液を上記第１の抵抗流路を通
して上記第２の空間部に導入可能とすることで、この第
２の空間部に導入された処理液をこの上端開口から上記
本体の前方の外面に沿って流出落下させる仕切り部材３
５とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は所定方向に沿って
搬送される基板の上面に処理液を搬送方向と交差する方
向に沿って直線状に供給する処理液の供給装置、供給方
法及び基板の処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置に用いられるガラス製の基
板には回路パターンが形成される。基板に回路パターン
を形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。
リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジ
ストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成され
たマスクを介して光を照射する。

【０００３】つぎに、レジストの光が照射されない部分
或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが
除去された部分をエッチングし、エッチング後にレジス
トを除去するなどの一連の工程を複数回繰り返すこと
で、上記基板に回路パターンを形成する。

【０００４】このようなリソグラフィープロセスにおい
ては、上記基板にエッチング液或いはエッチング後にレ
ジストを除去する剥離液、さらにレジストの除去後に基
板を洗浄するための洗浄液などの処理液によって基板を
処理する工程が必要となる。

【０００５】従来、基板の板面を処理液によって処理す
る場合、たとえば基板を搬送ローラにより所定方向に搬
送するとともに、搬送の途中で基板に処理液を供給する
ということが行なわれている。

【０００６】基板に処理液を供給する方法としては、基
板の搬送方向と交差する方向に沿って複数のノズル体を
所定間隔で配置し、各ノズル体から基板の上面に向かっ
て処理液を噴射する方法や、基板の搬送方向と交差する
方向に沿って配置され、下端に長手方向のほぼ全長にわ
たって開口形成された細長いスリットから処理液を噴射
するアクアナイフを用いる方法などが知られている。

【０００７】ノズル体を用いて処理液を噴射する場合、
処理液を基板の搬送方向と交差する幅方向全長にわたっ
てほぼ均一に噴射することが可能となる。しかしなが
ら、基板の上面に噴射された処理液は、この基板の上面
であらゆる方向に飛散するため、流れ方向が一定方向に
ならない。

【０００８】そのため、たとえばレジストの剥離後に、
基板の板面をイソプロピルアルコ−ルなどの処理液によ
って洗浄する場合、剥離工程によって剥離されて基板の
上面に残留するレジストなどの塵埃を、この上面から効
率よく確実に洗浄除去することができないということが
生じる。

【０００９】ノズル体に代わり、アクアナイフを用いて
処理液を供給する場合、基板の上面に対するアクアナイ
フの設置角度を設定することで、処理液が基板の上面で
所定方向、つまり基板の搬送方向と逆方向に向かって流
れるよう供給することができるから、基板の上面に残留
する塵埃を比較的良好に除去することが可能となる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アクア
ナイフを用いて処理液を基板の上面に供給する場合、ア
クアナイフのスリットから噴射される処理液の長手方向
中央部分と両端部分とでは圧力差が生じ易いといことが
あった。そのため、その圧力差に応じて基板の上面に供
給される処理液の流出速度にも差が生じてしまう。

【００１１】つまり、処理液は、スリットの長手方向両
端部分よりも中央部分からの方が流出し易いため、中央
部分から流出する処理液は、両端部分から流出する処理
液よりも速度が大きくなり易い。

【００１２】そのため、処理液は基板の上面の幅方向両
端部分よりも中央部分に多く供給されることになり、幅
方向全長にわたって均一な流速で供給されないため、基
板の上面の処理も均一に行なうことができないというこ
とがある。

【００１３】基板の上面の幅方向中央部分に供給される
処理液の速度が、両端部分に供給される処理液の速度に
比べて速くなると、処理液が基板の幅方向中央部分に集
まり易くなるという偏り現象が生じる。この偏り現象
は、基板の搬送速度が低速になればなる程、解消される
までの時間差が大きくなる。

【００１４】したがって、上記偏り現象によって基板の
上面に処理液の供給部分と非供給部分とが生じ、これら
の境界部分に塵埃が残留し易くなるから、そのことによ
っても基板を全面にわたって均一に処理できないという
ことがある。

【００１５】さらに、アクアナイフのスリットから処理
液を噴射させる場合、スリットの長手方向における流出
速度の差を少なくするため、加圧して処理液を供給する
ということが行なわれる。

【００１６】そのため、基板の上面に供給された処理液
は、基板の上面で衝突して飛散し易いから、基板の処理
液が未供給の部分に飛沫が付着し、その付着によって処
理にむらが生じるということもある。

【００１７】この発明は、処理液を基板の幅方向全長に
わたって流速に偏りが生じることなく均一に供給するこ
とができるようにした処理液の供給装置、供給方法及び
基板の処理装置を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、所定
方向に沿って搬送される基板の上面に、その搬送方向と
交差する方向に沿って処理液を直線状に供給する供給装
置において、上面が開口し内部を空間部とした細長い容
器状の本体と、この本体内の上記空間部を、下端が連通
部によって連通しかつ上記本体の長手方向と交差する前
後方向に位置する第１の空間部と第２の空間部とに隔別
するとともに、上記前後方向の後方に位置する第１の空
間部の上端開口から供給された処理液を上記連通部を通
して上記第２の空間部に導入可能とすることで、この第
２の空間部に導入された処理液をこの上端開口から上記
本体の前方の外面に沿って流出落下させる仕切り部材
と、を備えていることを特徴とする処理液の供給装置に
ある。

【００１９】請求項２の発明は、上記仕切り部材には、
上記第１の空間部に供給される処理液を受ける傾斜した
受け面が形成されていることを特徴とする請求項１記載
の処理液の供給装置にある。

【００２０】請求項３の発明は、上記本体の前方の外面
の下端部は、下端にゆくにつれて上記本体から離れる方
向に傾斜した案内面に形成されていることを特徴とする
請求項１記載の処理液の供給装置にある。

【００２１】請求項４の発明は、上記連通部は、上記本
体の内底面と上記仕切り部材の下端とがなす間隔によっ
て形成され、上記仕切り部材は上記本体に上記間隔の調
整可能に設けられていることを特徴とする請求項１記載
の処理液の供給装置にある。

【００２２】請求項５の発明は、上記第２の空間部に
は、上記連通部を通ってこの第２の空間部から流出する
処理液の流速を調整するための流路調整部材が設けられ
ていることを特徴とする請求項１記載の処理液の供給装
置にある。

【００２３】請求項６の発明は、所定方向に沿って搬送
される基板の上面に、その搬送方向と交差する方向に沿
って処理液を直線状に供給する供給方法において、上面
が開口し内部を空間部とした細長い容器状の本体内に上
記処理液を上部から下部に向かって供給する供給工程
と、上記本体内に供給された処理液の流れ方向を下部か
ら上部に向かう流れに変換する変換工程と、上記本体内
で流れ方向が変換された処理液を上記本体の上面開口か
らこの本体の外面に沿って流出落下させる流出工程と、
を具備したことを特徴とする処理液の供給方法にある。

【００２４】請求項７の発明は、上記流出工程は、上記
処理液の流れ方向を上記基板の搬送方向と逆方向に傾斜
させて上記基板の上面に供給することを特徴とする請求
項６記載の処理液の供給方法にある。

【００２５】請求項８の発明は、チャンバと、このチャ
ンバ内に基板を搬送する搬送機構と、上記チャンバ内に
設けられ上記搬送機構によってチャンバ内に搬送された
基板の上面に処理液を供給してこの上面を処理する供給
装置とを具備し、上記供給装置は請求項１に記載された
構成であることを特徴とする基板の処理装置にある。

【００２６】この発明によれば、上面が開口した容器状
の本体の上部から下部に向かって処理液を供給し、この
処理液を上記本体内で流れ方向を逆方向にしてから上記
本体の上端面から流出落下させるため、処理液を本体の
長手方向全長から均一な速度で、しかも十分に低速度に
して流出させることができる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながらこの発
明の実施の形態を説明する。

【００２８】図１乃至図５はこの発明の第１の実施の形
態を示し、図１はこの発明の処理液の供給装置１を備え
た基板Ｗの処理装置２の概略的構成を示す断面図であ
る。上記処理装置２はチャンバ３を有する。このチャン
バ３の長手方向一端には搬入口４、他端には搬出口５が
開口形成されている。

【００２９】上記チャンバ３内には、このチャンバ３の
長手方向に沿って所定間隔で軸線を平行にして複数の搬
送軸６が回転可能に配設されている。各搬送軸６には複
数の搬送ローラ７が軸線方向に所定間隔で設けられてい
る。上記搬送軸６は搬送機構を構成している。

【００３０】図２と図３に示すように、各搬送軸６は両
端部が軸受８によって回転可能に支持されている。複数
の搬送軸６の一端部にはウオームホイール９が嵌着され
ている。各搬送軸６に設けられたウオームホイール９に
はそれぞれウオームギヤ１１が噛合している。ウオーム
ギヤ１１はチャンバ３の長手方向に沿って配置された従
動軸１２に嵌着されている。

【００３１】上記従動軸１２の一端部には従動プーリ１
３が設けられ、この従動プーリ１３と駆動源１４の回転
軸１４ａに嵌着された駆動プーリ１５とにはベルト１６
が張設されている。

【００３２】したがって、駆動源１４の回転軸１４ａの
回転は、ベルト１６によって駆動プーリ１５を介して従
動プーリ１３に伝達され、この従動プーリ１３から従動
軸１２、ウオームギヤ１１及びウオームホイール９を介
して各搬送軸６に伝達されるようになっている。

【００３３】各搬送軸６の両端部には液切り板１７が設
けられている。この液切り板１７は給液装置１から基板
Ｗに供給された処理液が搬送軸６を伝わって軸受８側に
伝達するのを防止している。

【００３４】上記チャンバ３の搬入口４からは液晶表示
装置に用いられるガラス製の矩形状の基板Ｗが搬入され
る。チャンバ１内に搬入された基板Ｗは、下面を搬送軸
６に設けられた搬送ローラ７に接触させて図１に矢印で
示す方向に搬送される。

【００３５】チャンバ３内を搬送される基板Ｗの上面に
は、このチャンバ３内に配置された上記供給装置１によ
って処理液が供給される。この供給装置１は、図４と図
５に示すように本体２１を有する。この本体２１は断面
形状がほぼＬ字状に折り曲げられた後板２２、この後板
２２の水平部分の前端に下端部の内面を固着した前板２
３及び後板２２と前板２３との長手方向両端に固着され
た一対の側板２４とによって上面が開口した容器状に形
成されている。上記前板２３の後板２２に固着された箇
所よりも下端側は本体２１から離れる方向に向かって所
定の角度で傾斜した案内面２５に形成されている。

【００３６】上記本体２１の長さ寸法は、上記チャンバ
３内に供給される基板Ｗの幅寸法よりも長く形成され、
長手方向両端は後述する高さ調整機構２７によって高さ
調整可能に保持されている。つまり、本体２１は上記傾
斜面２５が形成された前板２３を上記基板Ｗの搬送方向
上流側に向けてこの基板Ｗの幅方向に沿って配設され
る。

【００３７】上記本体２１の後板２２の上端部内面に
は、この本体２１の長手方向全長にわたる長さの取付け
板３１が幅方向の後端面を接合固定されている。この取
付け板３１には長手方向に等間隔でねじ孔からなる複数
の供給孔３２が穿設されている。この実施の形態では５
つの供給孔３２が形成されている。

【００３８】図２に示すように、各供給孔３２には処理
液の供給分岐管３３がそれぞれ接続されている。各供給
分岐管３３は供給主管３４から分岐され、この供給主管
３４は図示しない処理液の供給源に接続されている。そ
れによって、上記本体１の上面開口からは、上記供給主
管３４及び供給分岐管３３を介して処理液が上方から下
方に向かって供給される。

【００３９】なお、処理液としてはエッチング液、レジ
ストの剥離液、レジストの剥離後に基板Ｗを洗浄する洗
浄液などがあり、この実施の形態ではレジスト剥離後に
基板Ｗを洗浄する洗浄液としてイソプロピルアルコール
が供給される。

【００４０】上記本体２１の空間部内には仕切り部材３
５が設けられている。この仕切り部材３５の上端部には
図４に示すように上下方向に沿って細長い複数の長孔３
６が上下方向と交差する長手方向に沿って所定間隔で形
成されている。この仕切り部材３５は、上記長孔３６を
介してねじ３７により、上記取付け板３１の幅方向前端
面に取付けられている。この仕切り部材３５は上記本体
２１内の空間部を上記後板２２側の第１の空間部３８
と、上記前板２３側の第２の空間部３９とに隔別してい
る。

【００４１】上記仕切り部材３５は、板材をほぼクラン
ク状に曲成してなり、中途部には上記供給分岐管３３の
下方に対向位置する受け面４１に形成されている。この
受け面４１は上記本体２１の後板２２側に向かって低く
傾斜している。上記供給分岐管３３からは上記本体２１
内の受け面４１上に処理液が供給される。

【００４２】処理液は上記受け面４１から仕切り部材３
５の一側面に沿って本体２１内の第１の空間部３８に円
滑に流入する。そのため、処理液を本体２１内に供給す
る際に、泡立ちが発生するのを防止することができる。

【００４３】上記仕切り部材３５の下端と、上記本体２
１の内底面との間は、所定の隙間の連通部としての第１
の抵抗流路４２に形成されている。上記供給分岐管３３
から第１の空間部３８に供給された処理液は、上記第１
の流路４２を通って上記第２の空間部３９の下端部へ流
入する。

【００４４】上記仕切り部材３５は、上端の長孔３６を
介してねじ３７により取付け板３１に取付けられている
から、上下方向に取付け位置を調整することで、上記第
１の抵抗流路４２の間隔を設定することができる。それ
によって、第１の空間部３８から第２の空間部３９に流
入する処理液の流入抵抗を調整することができる。つま
り、第１の空間部３８から第２の空間部３９に流入する
処理液の流速の設定が可能となっている。

【００４５】上記前板２３の内面上端部には、前後方向
に沿う幅寸法が第２の空間部３９の前後方向に沿う幅寸
法に比べて十分に小さく設定された帯板状の取付け板４
４が幅方向一端を固着してほぼ水平に設けられている。

【００４６】上記取付け板４４の上面には帯板状の流路
調整部材４５の幅方向一端がねじ４６によって取付け固
定されている。この流路調整部材４５の幅方向一端に
は、図５に示すように幅方向に沿って細長い複数の長孔
４５ａ（１つのみ図示）が長手方向に沿って所定間隔で
形成され、この長孔４５ａを介して上記ねじ４６が上記
取付け板４４に螺合されている。

【００４７】上記流路調整部材４５の幅方向他端と、上
記仕切り部材３５の第２の空間部３９側を向いた側面と
の間には、上記第１の空間部３８から第２の空間部３９
に流入した処理液が第２の空間部３９の開放した上面か
ら流出する際に通過する第２の抵抗流路４７に形成され
ている。この第２の抵抗流路４７の間隔は、上記流路調
整部材４５の固定位置を本体２１の前後方向に沿ってス
ライドさせることで調整可能となっている。

【００４８】上記第１の空間部３８に供給され、上記第
１の抵抗流路４２で減速されて第２の空間部３９に流入
した処理液は、上記第２の抵抗流路４７でさらに減速さ
れてから本体２１の前板２３の上端を乗り越えてこの前
板２３の前面に沿って自然落下することになる。

【００４９】上記各供給分岐管３３には図５に示すよう
にそれぞれ流量調整弁４８が設けられている。それによ
って、各供給分岐管３３から第１の空間部３８に供給さ
れる処理液の量をほぼ同じになるよう設定することがで
きる。

【００５０】第１の空間部３８に供給された処理液は、
第１の抵抗流路４２を通って減圧されることで圧力分布
が拡散均一化される。ついで、第１の抵抗流路４２を通
過した処理液が第２の抵抗流路４７を通過することで、
さらに減圧されて圧力分布が拡散均一化される。

【００５１】したがって、第２の空間部３９から前板２
３の上端を乗り越えて流出する処理液は十分に減圧さ
れ、しかも本体２１の長手方向においてほぼ均一な圧力
（流量）で流出することになる。

【００５２】上記高さ調整機構２７は、図３に示すよう
にマウントロッド５１を有する。このマウントロッド５
１の一端は上記本体２１の側板２４の外面に取付け固定
されている。マウントロッド５１は軸線を上記側板２４
の板面に対してほぼ垂直にして設けられている。

【００５３】上記チャンバ３内の幅方向両端にはガイド
部材５２がＬ字状のブラケット５３を介して立設されて
いる。このブラケット５３の下端は上記チャンバ３の側
壁下部に固定されている。上記ガイド部材５２には上下
方向に沿って細長いガイド孔５４が上記ガイド部材５２
の厚さ方向に貫通して形成されている。

【００５４】上記ガイド孔５４にはガイド部材５２の厚
さ方向一端から上記マウントロッド５１の他端部がガイ
ド孔５４の長手方向に沿ってスライド可能に挿入されて
いる。上記ガイド部材５２の厚さ方向他端からは、上記
マウントロッド５１の端面にねじ５５がワッシャ５６を
介して螺合されている。

【００５５】したがって、上記ねじ５５を緩めれば、上
記マウントロッド５１をガイド部材５２のガイド孔５４
に沿って上下方向にスライドさせることができ、上記ね
じ５５を締め込めば、上記マウントロッド５１を所定の
位置で固定できるようになっている。

【００５６】上記マウントロッド５１にはアジャストね
じ５６が螺合されている。このアジャストねじ５７は、
上端部が上記ガイド部材５２の上端に設けられた支持部
材５８に回転可能に挿通され、下端が上記ガイド部材５
２を取付けたブラケット５３の上面に回転可能に支持さ
れている。

【００５７】上記アジャストねじ５７には、上記支持部
材５８の下面に位置するナット５９が螺合されている。
このナット５９と上記マウントロッド５１に螺合された
ねじ５５とを緩め、上記アジャストねじ５７を回転させ
れば、上記マウントロッド５１を介して上記本体２１の
高さを上方或いは下方に微調整することができる。つま
り、チャンバ３内を搬送される基板Ｗの上面に処理液を
供給する上記供給装置１の本体２１は、上記高さ調整機
構２７によって上記基板Ｗの板面に対する高さを調整で
きるようになっている。

【００５８】本体２１の高さを変えることで、本体２１
の前板２３の下端部に形成された案内面２５から基板Ｗ
の上面に落下する処理液の落下高さを設定することがで
きる。それによって、本体２１の前板２３の上端を乗り
越えて基板Ｗの上面に自然落下する処理液を、飛沫が生
じることなく円滑に供給することが可能となる。

【００５９】つぎに、上記構成の処理装置２によって基
板Ｗを処理する手順を説明する。まず、駆動源１４を作
動して基板Ｗをチャンバ３の搬入口４から内部に搬入す
る。それと同時に、供給主管３４から供給分岐管３３を
介してチャンバ３内に設けられた処理装置２の本体２１
の第１の空間部３８に処理液を供給する。

【００６０】第１の空間部３８に供給された処理液は、
上記供給分岐管３３から仕切り部材３５の受け面４１に
供給される。この受け面４１は所定の角度で傾斜してい
るため、この上面に供給された処理液は受け面４１から
仕切り部材３５の側面に沿って流れ、第１の空間部３８
に円滑に流入することになる。第１の空間部３８に処理
液が円滑に供給されることで、処理液は泡立つことなく
第１の空間部３８に流入する。

【００６１】第１の空間部３８に供給された処理液は、
仕切り部材３５の下端に形成された第１の抵抗流路４２
を通ることで、減圧されて第２の空間部３９に流入す
る。処理液は第１の空間部３８に流入することで拡散さ
れ、本体２１の長手方向における圧力分布が均一化され
ると同時に、第１の抵抗流路４２を通過することで、減
圧される。つまり、処理液は本体２１の長手方向に沿っ
てほぼ均一な圧力分布となって第２の空間部３９に流入
する。

【００６２】第２の空間部３９に流入した処理液は、こ
の第２の空間部３９の内底部から上方向に向かって流れ
る。つまり、流れ方向を変換する。それによって、処理
液はさらに拡散されて本体２１の長手方向に沿う圧力分
布が均一化される。

【００６３】第２の空間部３９において、処理液の液面
が上昇してくると、処理液は流路調整部材４５と仕切り
部材３５とがなす第２の抵抗流路４７で絞られて減圧さ
れた後、液面をさらに上昇させる。処理液の液面が処理
装置２の本体２１の前板２３の上端に到達すると、その
上端を乗り越えて前板２３の前面に沿って自然落下す
る。

【００６４】前板２３の前面を自然落下した処理液は、
その下端部に形成された案内面２３によって基板Ｗの上
面に対して所定の角度、つまり基板Ｗの搬送方向と逆方
向に所定の角度で傾斜して基板Ｗの上面に供給される。
それによって、処理液は基板Ｗの上面を、基板Ｗの搬送
方向と逆方向に向かって相対的に流れるから、基板Ｗの
上面が処理されることになる。なお、図４に処理液が供
給装置１に供給されてから流出するまでの経路を矢印で
示す。

【００６５】このように、処理液は、第１の抵抗流路４
２と第２の抵抗流路４７とで十分に減圧されるととも
に、第１の空間部３８と第２の空間部３９とに流入し、
しかも各空間部３８，３９における流れ方向を逆方向に
変換することで十分に拡散されて基板Ｗの上面に供給さ
れる。

【００６６】そのため、処理液は、基板Ｗの搬送方向と
交差する幅方向に対して均一な圧力で供給されるばかり
か、その供給圧力が前板２３の上端を乗り越えて自然落
下する圧力、つまり加圧されことがない低い圧力である
から、基板Ｗの幅方向において、基板Ｗの搬送方向と逆
方向に流れる速度分布に偏りが生じることがない。

【００６７】以上のことにより、基板Ｗは処理液によっ
て幅方向全長が均一に処理されるばかりか、基板Ｗの上
面を流れる処理液の速度分布に偏りが生じることがない
から、基板Ｗを上面に塵埃を残留させることなく洗浄す
ることが可能となる。

【００６８】しかも、本体２１の前板２３の下端部には
所定の角度で傾斜した案内面２５が形成されている。そ
のため、本体２１の前板２３に沿って自然落下した処理
液は上記案内面２５によって減速されながら基板Ｗの上
面に、この基板Ｗの搬送方向と逆方向に向かう流れ方向
となって供給される。

【００６９】それによって、処理液は基板Ｗの上面に流
れに乱れのない層流となって供給されるから、そのこと
によっても基板Ｗの処理を全面にわたって安定した状態
で確実に行なうことが可能となる。

【００７０】供給装置１の本体２１は高さ調整機構２７
によって高さ調整が可能である。そのため、本体２１の
前板２３の下端と、基板Ｗの上面との間隔が均一になる
よう設定可能であるばかりか、供給装置１を処理液が基
板Ｗの上面で飛散することのない高さに設定することも
できる。

【００７１】図６はこの発明の第２の実施の形態を示
す。この実施の形態は、前板２３の内面上部の取付け板
４４に取付けられる流路調整部材の変形例で、この流路
調整部材６１は、本体２１の長手方向に対して複数の分
割片６２に分割されている。各分割片６２の一端部には
それぞれ一対の長孔６２ａが穿設され、各分割片６２は
長孔６２ａを介してねじ６３（一部のみ図示）により、
上記取付け板４４に取付け固定される。

【００７２】流路調整部材６１を複数の分割片６２に分
割することで、分割片６２の他端と仕切り部材３５の側
面とがなす第２の抵抗流路４７の間隔を同図に示すよう
に、長手方向中央部分を両端部分に比べて狭くすること
ができる。

【００７３】つまり、処理液を第１の空間部３８と第２
の空間部３９とで拡散せても、第２の抵抗流路４７を上
昇する処理液の圧力分布は、長手方向中央部分が両端部
分よりも高いことがあり、そのような場合には第２の抵
抗流路４７の間隔を上述したごとく分割片６２の取付け
位置を変えて設定すれば、前板２３の上端を乗り越えて
自然落下する処理液の圧力分布を均一化させることが可
能となる。

【００７４】図７はこの発明の第３の実施の形態を示す
仕切り部材３５Ａの変形例で、この実施の形態の仕切り
部材３５Ａは、第２の空間部３９を向いた側面の高さ方
向中途部に、第１の抵抗流路４２を通過して第２の空間
部３９を上昇する処理液の抵抗となる邪魔板６６が長手
方向全長にわたって設けられている。

【００７５】上記邪魔板６６は、第２の空間部３９に流
入する処理液が仕切り部材３５Ａの側面に沿って上昇す
るのを阻止するから、処理液を拡散及び減圧するため、
第２の空間部３９から流出する処理液の圧力分布を第１
の実施の形態に比べてより一層、均一化することができ
る。

【００７６】図８はこの発明の第４の実施の形態を示す
仕切り部材３５Ｂの変形例で、この実施の形態の仕切り
部材３５Ｂは、第１の抵抗流路４２を形成する下端部が
第２の空間部３９側に向かってＬ字状に折曲された折曲
部６７に形成されている。

【００７７】そのため、第１の抵抗流路４２を通過した
処理液は、上記折曲部６７によって仕切り部材３５Ｂの
側面に沿って上昇するのが阻止されるから、処理液は上
記折曲部６７によって拡散及び減圧されて第２の空間部
３９に流入する。したがって、今場合も、上記第３の実
施の形態と同様、第２の空間部３９における処理液の圧
力分布をより一層、均一化することができる。

【００７８】なお、上記第１の実施の形態では、第１の
抵抗流路４２を、仕切り部材３５の下端と後板２２がな
す内底面との間隔によって形成したが、仕切り部材の下
端部にスリットなどの通孔を穿設することで、その通孔
を第１の抵抗流路としてもよい。その場合、仕切り部材
３５の下端と後板２２の内底面との間に隙間を設けなく
てもよい。

【００７９】

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、上面が
開口した容器状の本体の上部から下部に向かって処理液
を供給し、この処理液を上記本体内で流れ方向を逆方向
に変換してから上記本体の上端面から流出落下させるよ
うにした。

【００８０】そのため、処理液を本体の長手方向全長か
ら均一な速度で、しかも十分に低速度にして流出させる
ことができるから、基板を全面にわたって均一に処理す
ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施の形態に係る処理装置の
長手方向に沿う縦断面図。

【図２】処理装置の幅方向に沿う拡大断面図。

【図３】処理装置の幅方向一端部の拡大断面図。

【図４】処理装置の断面した斜視図。

【図５】処理装置の断面図。

【図６】この発明の第２の実施の形態を示す流路調整部
材の平面図。

【図７】この発明の第３の実施の形態を示す仕切り部材
の断面図。

【図８】この発明の第４の実施の形態を示す仕切り部材
の断面図。

【符号の説明】

２１…本体 ２５…案内面 ３５…仕切り部材 ３８…第１の空間部 ３９…第２の空間部 ４１…受け面 ４２…第１の抵抗流路 ４５…流路調整部材 ４７…第２の抵抗流路

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定方向に沿って搬送される基板の上面
   に、その搬送方向と交差する方向に沿って処理液を直線
   状に供給する供給装置において、 上面が開口し内部を空間部とした細長い容器状の本体
   と、 この本体内の上記空間部を、下端が連通部によって連通
   しかつ上記本体の長手方向と交差する前後方向に位置す
   る第１の空間部と第２の空間部とに隔別するとともに、
   上記前後方向の後方に位置する第１の空間部の上端開口
   から供給された処理液を上記連通部を通して上記第２の
   空間部に導入可能とすることで、この第２の空間部に導
   入された処理液をこの上端開口から上記本体の前方の外
   面に沿って流出落下させる仕切り部材と、 を備えていることを特徴とする処理液の供給装置。
2. 【請求項２】 上記仕切り部材には、上記第１の空間部
   に供給される処理液を受ける傾斜した受け面が形成され
   ていることを特徴とする請求項１記載の処理液の供給装
   置。
3. 【請求項３】 上記本体の前方の外面の下端部は、下端
   にゆくにつれて上記本体から離れる方向に傾斜した案内
   面に形成されていることを特徴とする請求項１記載の処
   理液の供給装置。
4. 【請求項４】 上記連通部は、上記本体の内底面と上記
   仕切り部材の下端とがなす間隔によって形成され、上記
   仕切り部材は上記本体に上記間隔の調整可能に設けられ
   ていることを特徴とする請求項１記載の処理液の供給装
   置。
5. 【請求項５】 上記第２の空間部には、上記連通部を通
   ってこの第２の空間部から流出する処理液の流速を調整
   するための流路調整部材が設けられていることを特徴と
   する請求項１記載の処理液の供給装置。
6. 【請求項６】 所定方向に沿って搬送される基板の上面
   に、その搬送方向と交差する方向に沿って処理液を直線
   状に供給する供給方法において、 上面が開口し内部を空間部とした細長い容器状の本体内
   に上記処理液を上部から下部に向かって供給する供給工
   程と、 上記本体内に供給された処理液の流れ方向を下部から上
   部に向かう流れに変換する変換工程と、 上記本体内で流れ方向が変換された処理液を上記本体の
   上面開口からこの本体の外面に沿って流出落下させる流
   出工程と、 を具備したことを特徴とする処理液の供給方法。
7. 【請求項７】 上記流出工程は、上記処理液の流れ方向
   を上記基板の搬送方向と逆方向に傾斜させて上記基板の
   上面に供給することを特徴とする請求項６記載の処理液
   の供給方法。
8. 【請求項８】 チャンバと、このチャンバ内に基板を搬
   送する搬送機構と、上記チャンバ内に設けられ上記搬送
   機構によってチャンバ内に搬送された基板に処理液を供
   給してこの上面を処理する供給装置とを具備し、 上記供給装置は請求項１に記載された構成であることを
   特徴とする基板の処理装置。