JP3857265B2 - スリットシャワーユニット - Google Patents

Description

本発明は、スリットシャワーユニットに関し、さらに詳細には、半導体基板、液晶素子用ガラス基板、カラーフィルタ基板、特に、Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ（ＬＣＤ）、Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ（ＰＤＰ）ならびにＬＴＰＳ（Ｌｏｗ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｐｏｌｙ−ｓｉｌｉｃｏｎ）−ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を含むＦｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ（ＦＰＤ）用のガラス基板のような各種被洗浄物を洗浄する際に用いて好適なスリットシャワーユニットに関する。

従来より、被洗浄物たるＦＰＤ用のガラス基板などの各種の基板（以下、単に「基板」と称する。）を洗浄する洗浄装置においては、純水や各種薬品などの洗浄液（液体）を基板の表面に供給して、基板の表面に残留している処理液やパーティクルなどの汚染物質などを除去することにより、被洗浄物が洗浄されるようになされている。

例えば、洗浄液を基板の表面に供給するために、直径数ミリの小穴２００ａが等間隔で穿設されたパイプ２００を配設した洗浄装置が知られている（図１参照）。従来のこうした洗浄装置においては、工場供給純水や循環水などの洗浄液をパイプ２００に注入すると、小穴２００ａから洗浄液が吐出されて基板の洗浄が行われるものである。この際、パイプ２００へ注入する洗浄液の流量を調整することにより、小穴２００ａからおよそ０．０５〜０．１ＭＰａの圧力で洗浄液を吐出することができる。

しかしながら、パイプ２００を配設した従来の洗浄装置においては、洗浄液がパイプ２００に等間隔で穿設された小穴２００ａから吐出されるので、小穴２００ａのピッチ間においては洗浄液が吐出されずに液流がないため、被洗浄物たる基板の表面に洗浄液が均一に供給されなくなってしまい、液かかりムラが生じるという問題点があった。

また、パイプ２００に代わって洗浄液を噴射口２１０ａから噴射するノズル２１０を等間隔に配設した洗浄装置も提案されている（図２参照）。こうした洗浄装置においても、ノズル２１０が配設されるピッチ間においては洗浄液が噴射されず液流がないので、液かかりムラを生じてしまう。しかも、等間隔で配設されたノズル２１０それぞれの噴射口２１０ａから洗浄液が噴射されるので、噴射口２１０ａから噴射された洗浄液が基板の表面に供給される際のシャワー打力にムラが生じるという新たな問題点が招来されるものであった。

また、およそ０．１〜０．５ｍｍの間隙２２０ａを有するようにして配設された２枚のプレートから構成されるアクアナイフノズル２２０を備えた洗浄装置も知られている（図３参照）。このアクアナイフノズル２２０を有する洗浄装置においては、洗浄液をアクアナイフノズル２２０内に注入すると、間隙２２０ａから洗浄液が流出してカーテン状のシャワーが形成される。

しかしながら、従来のアクアナイフノズル２２０を配設した洗浄装置においては、カーテン状のシャワーが形成されるものの、間隙２２０ａのような細いスリットから洗浄液が流出するために、およそ０．０５〜０．１ＭＰａの圧力が洗浄液にかかってしまい、洗浄液が基板の表面に供給される際のシャワー打力にムラが生じる恐れがあった。

そして、貯留槽２３０に洗浄液を一時的に貯留してからオーバーフローさせて、基板の表面に洗浄液を供給するようにした洗浄装置も提案されている（図４参照）。こうした洗浄装置においては、貯留槽２３０からオーバーフローされた洗浄液が重力に従って落下するだけなので、シャワー打力が低く抑えられるものの、液流を広範囲にわたって均一に維持することができないという問題点があった。このため、特に大型の基板を洗浄する場合などには洗い残しを生じ易くなっていた。

なお、本願出願人が特許出願の時に知っている先行技術は、図１乃至図４に示したような洗浄装置であって文献公知発明に係る発明ではないため、記載すべき先行技術文献情報はない。

本発明は、上記したような従来の技術の有する種々の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、洗浄液が均一に被洗浄物に供給されるようにして、均一な洗浄を行なうことができるスリットシャワーユニットを提供しようとするものである。

上記目的を達成するために、本発明のうち請求項１に記載の発明は、処理槽の内部において被洗浄物を搬送する搬送用ローラーコンベアの上方に配設されたスリットシャワーユニットにおいて、搬送用ローラーコンベアによって搬送される被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が処理槽の槽壁に支持され、上記被洗浄物の搬送方向に対して垂直方向に延長された第１のベース部材と、上記第１のベース部材の上端部と対向する一方の端部が上記第１のベース部材の上端部との間に形成する第１の間隙に比べて、上記第１のベース部材の下端部と対向する他方の端部が上記第１のベース部材の下端部との間に形成する第２の間隙が狭くなるようにして上記第１のベース部材と対向して配設され、上記被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が上記処理槽の槽壁に支持されて、内部に供給された洗浄液が下方方向に重力落下して上記第２の間隙から外部に流れ出す貯留部を上記第１のベース部材とともに構成するカバー部材と、上記被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が上記処理槽の槽壁に支持され、上記第１のベース部材の下端部から上記被洗浄物の搬送方向における搬送元の方向に屈曲して延設された第２のベース部材と、上記第２のベース部材と第３の間隙を有するようにして配設され、上記被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が上記処理槽の槽壁に支持されて、上記第２の間隙の下方側に一方の開口端が位置し、上記一方の開口端の下方側であって高さ方向における最も下方位置に他方の開口端が位置するスリットを形成し、上記一方の開口端を構成する端部における端面と上記第２のベース部材の表面と対向する対向面とのなす角が鈍角となるように形成され、上記他方の開口端を構成する端部における端面と上記第２のベース部材の表面と対向する対向面とのなす角が鋭角となるように形成され、上記貯留部の上記第２の間隙から上記第２のベース部材上に流れ出した洗浄液が、上記一方の開口端から上記第３の間隙内に流入して上記第３の間隙の他方の開口端から外部に流出する整流部を上記第２のベース部材とともに構成するプレートと、上記貯留部の内部に配設され、複数の孔が穿設されて洗浄液供給用配管を介して洗浄液が供給されるパイプとを有するようにしたものである。

従って、本発明のうち請求項１に記載の発明によれば、第１のベース部材とカバー部材により構成された貯留部の内部に供給された洗浄液が当該貯留部の下方に位置する第２の間隙を通過して下方方向に重力落下して外部に流れ出し、第２のベース部材とプレートにより構成された整流部における第３の間隙を通過して外部に流出して、カーテン状のシャワーを形成するようになるので、被洗浄物に洗浄液が均一に供給されて、均一な洗浄を行うことができる。

また、本発明のうち請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、上記第２の間隙を構成する上記第１のベース部材の下端部の表面と上記カバー部材の上記他方の端部の表面は略平行に位置し、上記第３の間隙を構成する上記第２のベース部材の表面と上記プレートの対向面は略平行に位置するようにしたものである。

また、本発明のうち請求項３に記載の発明は、請求項１または２のいずれか１項に記載の発明において、上記第２の間隙と上記第３の間隙のサイズは略同一であるようにしたものである。

また、本発明のうち請求項４に記載の発明は、請求項１または２のいずれか１項に記載の発明において、上記第２の間隙のサイズは０．５ｍｍであるようにしたものである。

本発明は、以上説明したように構成されているので、洗浄液が均一に被洗浄物に供給されるようになり、均一な洗浄を行なうことができるようになるという優れた効果を奏する。

以下、添付の図面に基づいて、本発明によるスリットシャワーユニットの実施の形態の一例を詳細に説明するものとする。

図５には、本発明によるスリットシャワーユニットを備えた洗浄装置の実施の形態の一例の一部を破断して示した概略構成説明図が示されており、図６は、図５の要部を示す断面図が示されている。

この洗浄装置１０は、中空の内部１２ａを有する処理槽１２と、列状に連なって内部１２ａの中央部を貫通する搬送用ローラーコンベア１４と、処理槽１２の内部１２ａにおいて搬送用ローラーコンベア１４の上方に配設されたスリットシャワーユニット１６とを有して構成されている。

ここで、列状に連なる搬送用ローラーコンベア１４は、被洗浄物たる基板１００を上面に載置し、当該搬送用ローラーコンベア１４の駆動によって、当該上面に載置した被処理物たる基板１００を順次に搬送するものである。この搬送用ローラーコンベア１４によって搬送される基板１００は、洗浄装置１０の処理槽１２の槽壁１２ｂに穿設された搬入側開口部１２ｃから洗浄装置１０の処理槽１２の内部１２ａに搬入され、搬出側開口部１２ｄを通り抜けて洗浄装置１０の外部に搬出される（図５ならびに図６の基板の搬送方向を示す矢印参照）。

なお、被洗浄物たる基板１００としては、例えば、基板の搬送方向における長手方向の長さがおよそ１２５０ｍｍで、基板の搬送方向に直交する方向における幅方向の長さがおよそ１１００ｍｍのサイズを有するような大型の基板を用いることができる。なお、本明細書のおいては、当該基板の搬送方向に直交する方向を、「幅方向」と適宜称することとする。

そして、スリットシャワーユニット１６は、内部１６ａに洗浄液が供給される貯留部１６ｂと、貯留部１６ｂから流れ出した洗浄液が流入するスリット１６ｃを備えた整流部１６ｄとを有して構成されている。

スリットシャワーユニット１６の貯留部１６ｂは、全体が略板状体であって、幅方向（即ち、図６の紙面と直交する方向）に延長され、当該幅方向に沿った両端が処理槽１２の槽壁１２ｂに固定的に取り付けられて支持された第１ベース部材２０と、第１ベース部材２０と対向して幅方向に延長して配設され、当該幅方向に沿った両端が処理槽１２の槽壁１２ｂに固定的に取り付けられて支持されたカバー部材２２とから構成されている。

なお、第１ベース部材２０は、幅方向に延長された両端が処理槽１２の槽壁１２ｂに固定されているのに加えて、上端部２０ａも処理槽１２の槽壁１２ｂの上面１２ｂｂに固定的に取り付けられて支持されている（図７参照）。

カバー部材２２は略板状体が所定の位置で屈曲して形成されており、第１ベース部材２０の上端部２０ａと対向する一方の端部２２ａが第１ベース部材２０の上端部２０ａとの間に形成する間隙Ｓ１に比べて、第１ベース部材２０の下端部２０ｂと対向する他方の端部２２ｂが第１ベース部材２０の下端部２０ｂとの間に形成する間隙Ｓ２が狭くなるようにして、第１ベース部材２０と対向して配設されている。

そして、互いに対向する第１ベース部材２０とカバー部材２２と、第１ベース部材２０ならびにカバー部材２２を支持する処理槽１２の槽壁１２ｂとによって、幅方向に延長されて全体が漏斗様で洗浄液が貯留可能な貯留部１６ｂの内部１６ａが形成される。

ここで、間隙Ｓ２を形成するカバー部材２２の他方の端部２２ｂと第１ベース部材２０の下端部２０ｂとはそれぞれ、平滑面たる表面２２ｂｂならびに表面２０ｂｂを備えている。これら端部２２ｂの表面２２ｂｂと下端部２０ｂの表面２０ｂｂとが略平行に位置して間隙Ｓ２が形成されるようにして、カバー部材２２が第１ベース部材２０に対向して配設されており、間隙Ｓ１に比べて狭い間隙Ｓ２は幅方向に延長されて、貯留部１６ｂの内部１６ａの下方に形成されたスリットとして機能する。なお、端部２２ｂの表面２２ｂｂと下端部２０ｂの表面２０ｂｂとの間の距離、即ち、スリットである間隙Ｓ２のサイズは、例えば、およそ０．５ｍｍに設定することができる。

一方、貯留部１６ｂの内部１６ａには、カバー部材２２の一方の端部２２ａと第１ベース部材２０の上端部２０ａとの間に形成される間隙Ｓ１に位置するようにして、幅方向に延長された注入用パイプ３０が配設されている。この注入用パイプ３０には、互いに所定の間隔を有するように等間隔で列状に連なって複数の孔３０ａが穿設されている。この孔３０ａの直径は、例えば、およそ数ミリに設定されている。また、注入用パイプ３０には洗浄液供給用配管３２が接続されており、洗浄液供給用配管３２を介して洗浄液（液体）を充填したタンク（図示せず）から、洗浄液が注入用パイプ３０に供給される。

なお、洗浄液（液体）としては、例えば、工場供給純水や循環水などの水や、あるいは、アルカリ洗浄剤のような各種薬品などの洗浄液を使用することができる。

また、スリットシャワーユニット１６の整流部１６ｄは、全体が略板状体であって、第１ベース部材２０の下端部２０ｂから所定の方向に延長されるとともに、幅方向に延長されて当該幅方向に沿った両端が処理槽１２の槽壁１２ｂに固定的に取り付けられて支持された第２ベース部材４０と、第２ベース部材４０と所定の間隙Ｓ３を有するようにして対向して配設され、幅方向に延長されて当該幅方向に沿った両端が処理槽１２の槽壁１２ｂに固定的に取り付けられて支持されたプレート４２とから構成されている。

ここで、第２ベース部材４０が第１ベース部材２０の下端部２０ｂから所定の方向に延長されているので、第１ベース部材２０の下端部２０ｂ側と第２ベース部材４０の上端部４０ａ側とによって屈曲部１６ｅが形成されている。なお、第２ベース部材４０が第１ベース部材２０の下端部２０ｂから屈曲して延長される方向は、基板の搬送方向における搬送元の方向に設定されている。

一方、プレート４２は、図６に示すように断面形状が略平行四辺形形状に形成された略板状体であって、先端面４２ａａと第２ベース部材４０の表面４０ｃと対向する対向面４２ｃとのなす角α（図６参照）が鋭角になるようにして先端部４２ａが加工されており、後端面４２ｂｂと対向面４２ｃとのなす角β（図６参照）が鈍角となるように後端部４２ｂが加工されている。

そして、間隙Ｓ３を形成するプレート４２の対向面４２ｃと第２ベース部材４０の表面４０ｃとはいずれも平滑面であり、これら対向面４２ｃと表面４０ｃとが略平行に位置して間隙Ｓ３が形成されるようにして、プレート４２が第２ベース４０に対向して配設されている。

こうして互いに対向する第２ベース部材４０とプレート４２と、第２ベース部材４０ならびにプレート４２を支持する処理槽１２の槽壁１２ｂとによって、間隙Ｓ３からなり幅方向に延長された整流部１６ｄのスリット１６ｃが形成されている。

スリット１６ｃの一方の開口端１６ｆは、貯留部１６ｂのカバー部材２２の他方の端部２２ｂが第１ベース部材２０の下端部２０ｂとの間に形成する間隙Ｓ２の近傍に位置している。また、プレート４２の後端部４２ｂが後端面４２ｂｂと対向面４２ｃとのなす角β（図６参照）が鈍角になるようにして形成されているので、スリット１６ｃの開口端１６ｆの近傍たる開放部１６ｇは、プレート４２の後端面４２ｂｂと第２ベース部材４０の表面４０ｃと処理槽１２の槽壁１２ｂとによって幅方向に延長された漏斗様に構成されている。

一方、スリット１６ｃの他方の開口端１６ｈは、第２ベース部材４０の下端部４０ｂとプレート４２の先端部４２ａとによって構成されている。

こうしてスリットシャワーユニット１６においては、貯留部１６ｂの間隙Ｓ１、Ｓ２ならびに整流部１６ｄのスリット１６ｃの開口端１６ｆ，１６ｈがそれぞれ、高さ方向における最も上方位置に間隙Ｓ１が位置し、間隙Ｓ１の下方側に間隙Ｓ２が位置し、間隙Ｓ２の下方側にスリット１６ｃの開口端１６ｆが位置し、開口端１６ｆの下方側であって最も下方位置にスリット１６ｃの開口端１６ｈが位置するように設定されている。

以上の構成において、本発明によるスリットシャワーユニット１６を備えた洗浄装置１０を用いて被洗浄物たる基板１００の表面１００ａを洗浄するには、まず、搬送用ローラーコンベア１４によって、基板１００を処理槽１２の搬入側開口部１２ｃから内部１２ａに自動的に搬入する。

こうして搬送用ローラーコンベア１４によって搬送される基板１００の表面１００ａが、搬送用ローラーコンベア１４の上方に配設されたスリットシャワーユニット１６と対向するようになる。

ここで、スリットシャワーユニット１６においては、まず、洗浄液（液体）を充填したタンク（図示せず）から洗浄液供給用配管３２を介して、洗浄液を注入用パイプ３０に供給する。すると、注入用パイプ３０に供給された洗浄液は、所定の圧力で注入用パイプ３０に穿設された孔３０ａから吐出する。この際、注入用パイプ３０の孔３０ａから吐出される洗浄液は所定の圧力で加圧されるが、注入用パイプ３０が貯留部１６ｂの内部１６ａに配設されているので、内部１６ａにおいて洗浄液が大気中に解放されることになる。

こうして間隙Ｓ１に位置する注入用パイプ３０から貯留部１６ｂの内部１６ａに供給された洗浄液は、その自重によって下方方向に重力落下し、貯留部１６ｂの漏斗様の内部１６ａに貯留して（図７に示す状態参照）、間隙Ｓ１の下方側に位置するスリットたる間隙Ｓ２を通過する。この際、貯留部１６ｂの内部１６ａにおいて大気中に解放されている洗浄液は、間隙Ｓ２を大気圧で通過することになる。

そして、間隙Ｓ２を通過して貯留部１６ｂから流れ出した洗浄液は、間隙Ｓ２の下方側に位置するスリット１６ｃの開口端１６ｆ近傍の開放部１６ｇに至る。この開放部１６ｇを漏斗様に構成するプレート４２の後端面４２ｂｂによって、間隙Ｓ２から流れ出した洗浄液が一度せき止められて、開口端１６ｆからスリット１６ｃ内に流入する。

開口端１６ｆからスリット１６ｃ内に流入した洗浄液は、スリット１６ｃ内を通過する際に表面張力で均一化されて、幅方向に延長するスリット１６ｃ内に均一に洗浄液が広がって、開口端１６ｆの下方側に位置するスリット１６ｃの開口端１６ｈから流れ出す。この際、開口端１６ｈを構成するプレートの先端部４２ａは、先端面４２ａａと対向面４２ｃとのなす角α（図６参照）が鋭角になるようにして加工されているので、洗浄液の開口端１６ｈから液離れがよい。

こうして、洗浄液はその自重によって下方方向に重力落下し、スリットシャワーユニット１６の高さ方向における最も上方位置に位置する間隙Ｓ１から順次、間隙２、開口端１６ｆと通過して、スリット１６ｃの開口端１６ｈから外部に流出し、洗浄液が幅方向に延長されたカーテン状のシャワーを形成して、基板１００の表面１００ａに供給される。

この際、貯留部１６ｂにおいて注入用パイプ３０の孔３０ａから所定の圧力で加圧されて洗浄液が吐出されたものの、洗浄液は内部１６ａにおいて大気中に解放され、間隙Ｓ２を大気圧で通過しているので、整流部１６ｄを経て、大気圧で洗浄液のカーテン状のシャワーが発生できる。このため、シャワー打力が低圧でムラがなく、幅方向に均一な流速（流量）で、幅方向にわたる広範囲に洗浄液が均一に供給されて被洗浄物が洗浄される。

そして、基板１００の表面１００ａに供給された洗浄液によって、基板１００の表面１００ａに残留している処理液やパーティクルなどの汚染物質などが除去されて、被洗浄物たる基板１００が洗浄が終了すると、搬送用ローラーコンベア１４によって、基板１００は処理槽１２の搬出側開口部１２ｄから洗浄装置１０の外部に自動的に搬出される。

上記したようにして、本発明によるスリットシャワーユニット１６を備えた洗浄装置１０においては、内部１６ａに洗浄液が供給される貯留部１６ｂと、貯留部１６ｂから流れ出した洗浄液が流入するスリット１６ｃを備えた整流部１６ｄとを有するようにしたため、洗浄液はその自重によって下方方向に重力落下し、間隙Ｓ１から順次、間隙２、開口端１６ｆと通過して、スリット１６ｃの開口端１６ｈから外部に流出して、洗浄液が幅方向に延長されたカーテン状のシャワーを形成するようになる。

その結果、本発明によるスリットシャワーユニット１６によれば、簡単な構成で、洗浄液が無加圧（自然落下）・均一・省流量で、幅方向にわたって途切れることなく延長されたカーテン状のシャワーとなり、被洗浄物たる基板１００の表面１００ａに均一に供給されて、液流を広範囲にわたって均一に維持することができ、液かかりムラを防止できるとともにシャワー打力にムラを生じない。こうして本発明によれば、洗浄液が均一に被洗浄物に供給されるので、均一な洗浄を行なうことができる。しかも、大型の基板を洗浄する場合でも、洗い残しを生じずに高精度の洗浄を実現することができる。

従って、本発明によれば、均一で圧力ムラの少ないシャワー洗浄が可能であるため、液リンスムラや置換ムラが低減でき、現像・エッチング処理の現像・エッチングムラの低減やエッチングレートの均一性を維持したり、ＬＣＤセル製造工程のラビング後の洗浄のファーストシャワーにおける配向ムラの発生を低減したりして、高品質の製品を製造することができる。

なお、上記した実施の形態は、以下の（１）乃至（４）に説明するように適宜に変形してもよい。

（１）上記した実施の形態においては、第１ベース部材２０と、第１ベース部材２０の下端部２０ｂから所定の方向に延長される第２ベース部材４０とを配設するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、略板状体を所定の位置で屈曲して屈曲部を形成することにより、第１ベース部材と第２ベース部材とを一体的に成形したベース部材を用いるようにしてもよい。

（２）上記した実施の形態においては、間隙Ｓ１に注入用パイプ３０を配設して洗浄液を貯留部１６ｂの内部１６ａに供給するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、例えば、注入用パイプ３０を配設せずに洗浄液供給用配管３２のみが間隙Ｓ１に位置するようにするなど、貯留部１６ｂの内部１６ａに洗浄液を供給するための各種構成を配設すればよい。

（３）上記した実施の形態においては、間隙Ｓ２のサイズを、例えば、およそ０．５ｍｍに設定することができるようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、間隙Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３の寸法をはじめ、本発明によるスリットシャワーユニット１６の各部材を形成する材料や寸法、あるいは、貯留部１６ｂの内部１６ａに供給される洗浄液の圧力やその流量、カバー部材２２やプレート４２の形状は、被洗浄物のサイズや種類あるいは使用する洗浄液の種類などに応じて適宜変更するようにしてよいものである。

（４）上記した実施の形態ならびに上記（１）乃至（３）に示す変形例は、適宜に組み合わせるようにしてもよい。

本発明は、ＬＣＤセル製造工程における洗浄洗浄などに利用することができる。

従来の洗浄装置の一例を示す概略構成説明図である。 従来の洗浄装置の一例を示す概略構成説明図である。 従来の洗浄装置の一例を示す概略構成説明図である。 従来の洗浄装置の一例を示す概略構成説明図である。 本発明によるスリットシャワーユニットを備えた洗浄装置の実施の形態の一例の一部を破断して示した概略構成説明図である。 図５の要部を示す断面図である。 本発明によるスリットシャワーユニットを備えた洗浄装置の動作を示す概略構成斜視説明図である。

符号の説明

１０ 洗浄装置
１２ 処理槽
１４ 搬送用ローラーコンベア
１６ スリットシャワーユニット
１６ａ 内部
１６ｂ 貯留部
１６ｃ スリット
１６ｄ 整流部
２０ 第１ベース部材
２２ カバー部材
３０ 注入用パイプ
４０ 第２ベース部材
４２ プレート
Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３ 間隙

Claims (4)

1. 処理槽の内部において被洗浄物を搬送する搬送用ローラーコンベアの上方に配設されたスリットシャワーユニットにおいて、
   搬送用ローラーコンベアによって搬送される前記被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が処理槽の槽壁に支持され、前記被洗浄物の搬送方向に対して垂直方向に延長された第１のベース部材と、
   前記第１のベース部材の上端部と対向する一方の端部が前記第１のベース部材の上端部との間に形成する第１の間隙に比べて、前記第１のベース部材の下端部と対向する他方の端部が前記第１のベース部材の下端部との間に形成する第２の間隙が狭くなるようにして前記第１のベース部材と対向して配設され、前記被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が前記処理槽の槽壁に支持されて、内部に供給された洗浄液が下方方向に重力落下して前記第２の間隙から外部に流れ出す貯留部を前記第１のベース部材とともに構成するカバー部材と、
   前記被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が前記処理槽の槽壁に支持され、前記第１のベース部材の下端部から前記被洗浄物の搬送方向における搬送元の方向に屈曲して延設された第２のベース部材と、
   前記第２のベース部材と第３の間隙を有するようにして配設され、前記被洗浄物の搬送方向と直交する方向に延長された両端が前記処理槽の槽壁に支持されて、前記第２の間隙の下方側に一方の開口端が位置し、前記一方の開口端の下方側であって高さ方向における最も下方位置に他方の開口端が位置するスリットを形成し、前記一方の開口端を構成する端部における端面と前記第２のベース部材の表面と対向する対向面とのなす角が鈍角となるように形成され、前記他方の開口端を構成する端部における端面と前記第２のベース部材の表面と対向する対向面とのなす角が鋭角となるように形成され、前記貯留部の前記第２の間隙から前記第２のベース部材上に流れ出した洗浄液が、前記一方の開口端から前記第３の間隙内に流入して前記第３の間隙の他方の開口端から外部に流出する整流部を前記第２のベース部材とともに構成するプレートと、
   前記貯留部の内部に配設され、複数の孔が穿設されて洗浄液供給用配管を介して洗浄液が供給されるパイプと
   を有することを特徴とするスリットシャワーユニット。
2. 請求項１に記載のスリットシャワーユニットにおいて、
   前記第２の間隙を構成する前記第１のベース部材の下端部の表面と前記カバー部材の前記他方の端部の表面は略平行に位置し、前記第３の間隙を構成する前記第２のベース部材の表面と前記プレートの対向面は略平行に位置する
   ことを特徴とするスリットシャワーユニット。
3. 請求項１または２のいずれか１項に記載のスリットシャワーユニットにおいて、
   前記第２の間隙と前記第３の間隙のサイズは略同一である
   ことを特徴とするスリットシャワーユニット。
4. 請求項１または２のいずれか１項に記載のスリットシャワーユニットにおいて、
   前記第２の間隙のサイズは０．５ｍｍである
   ことを特徴とするスリットシャワーユニット。

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