KR102351696B1 - 기판세정장치 - Google Patents

기판세정장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102351696B1
KR102351696B1 KR1020170104098A KR20170104098A KR102351696B1 KR 102351696 B1 KR102351696 B1 KR 102351696B1 KR 1020170104098 A KR1020170104098 A KR 1020170104098A KR 20170104098 A KR20170104098 A KR 20170104098A KR 102351696 B1 KR102351696 B1 KR 102351696B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
buffer unit
cleaning
cleaning liquid
fixing block
Prior art date
Application number
KR1020170104098A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20190020222A (ko
Inventor
박용석
서규원
박강순
조재연
박정환
장동민
Original Assignee
주식회사 디엠에스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 디엠에스 filed Critical 주식회사 디엠에스
Priority to KR1020170104098A priority Critical patent/KR102351696B1/ko
Publication of KR20190020222A publication Critical patent/KR20190020222A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102351696B1 publication Critical patent/KR102351696B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 기판으로 분사되는 세정액의 분사력에 대해 기판을 탄력적으로 지지할 수 있도록 하는 기판세정장치에 관한 것이다.
본 발명은 기판이 세정되는 공간을 형성하는 세정챔버; 상기 세정챔버의 내부에 설치되어, 상기 기판을 이송시키기 위한 복수개의 롤러를 갖는 롤러모듈; 상기 세정챔버의 내부에 설치되되, 상기 기판의 상부측에 설치되어 상기 기판의 상부로 세정액을 분사하기 위한 제1 분사노즐; 및 상기 기판을 기준으로 상기 제1 분사노즐의 반대방향에 배치되되, 상기 복수 개의 롤러들 사이에 배치되어 상기 제1 분사노즐로부터 상기 기판으로 분사되는 상기 세정액의 분사력에 대해 상기 기판을 탄력적으로 지지하기 위한 적어도 하나의 완충유닛;을 포함하는 기판세정장치를 제공한다.

Description

기판세정장치{SUBSTRATE CLEANING APPARATUS}
본 발명은 기판세정장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 기판으로 분사되는 세정액의 분사력에 대해 기판을 탄력적으로 지지하여 기판이 파손되는 것을 방지할 수 있도록 하는 기판세정장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이, 포토 마스크 및 LCD 모니터 등에 사용되는 글래스 기판(이하, 「기판」이라고 한다.)은 감광제 도포, 노광, 현상, 부식, 박리, 세정 및 건조 등의 공정을 거쳐 제조된다. 이러한 공정들에 있어서 상기 세정공정은 기판에 묻어 있는 이물질 등을 제거하는 공정이다.
한편, 기판은 미세한 먼지(파티클)에 무척 민감하게 반응하는데, 미세한 먼지 하나가 작게는 부품, 크게는 장치의 특성을 좌우하게 된다. 상기와 같은 이유로 인해 평판 디스플레이 제조 공정에서는 파티클을 최소화하는데 주력하고 있으며, 공정 진행 상황에 따라 세정작업을 반복하여 실시하고 있다. 보통 기판은 유리재질이므로 손상되거나 파손되기 쉽다. 특히, 그 표면은 먼지 등과 같은 이물질에 의해 손상되어 스크래치가 발생하기 쉽다.
따라서, 기판의 표면에 부착되어 있는 이물질 등을 제거하는 세정공정은 제품의 품질을 결정하는데 매우 중요한 공정이라 할 수 있다.
이러한 세정 공정에 사용되는 세정 방법으로는, 기판을 반송시키면서 초고압 분사노즐을 이용하여 초순수 등의 세정액을 기판의 상하면에 고압 분사시켜 기판의 표면에 묻은 이물질을 제거하였다. 이때, 기판은 다수의 롤러에 의해 반송되며, 분사노즐의 설치된 기판의 하부에는 장력조절을 위한 아이들 롤러(Idle roller)가 설치된다.
그라나, 종래에는 초고압 분사노즐에 의해 분사되는 세정액의 분사력에 의한 충격으로 기판이 파손되는 문제점이 있었다.
또한, 세정액의 분사력에 의해 기판은 떨림이 발생하게 되고, 기판의 떨리면서 아이들 롤러와 부딪히게 됨에 따라, 기판에 스크래치 및 파손되는 현상이 발생되는 문제점이 있었다.
또한, 기판의 하면을 향해 분사되는 세정액이 아이들 롤러에 간섭을 받아 기판의 하면으로 균일한 세정력을 제공하지 못하는 문제점이 있었다.
대한민국 공개특허공보 제10-2010-0059242호(발명의 명칭 : 기판 세정 장치, 2010. 06. 04. 공개)
본 발명의 목적은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판의 하부에 완충유닛을 구비함으로써, 기판으로 분사되는 세정액의 분사력에 대해 기판을 탄력적으로 지지할 수 있도록 하는 기판세정장치를 제공하는데 있다.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판세정장치는 기판이 세정되는 공간을 형성하는 세정챔버; 상기 세정챔버의 내부에 설치되어, 상기 기판을 이송시키기 위한 복수개의 롤러를 갖는 롤러모듈; 상기 세정챔버의 내부에 설치되되, 상기 기판의 상부측에 설치되어 상기 기판의 상부로 세정액을 분사하기 위한 제1 분사노즐; 및 상기 기판을 기준으로 상기 제1 분사노즐의 반대방향에 배치되되, 상기 복수 개의 롤러들 사이에 배치되어 상기 제1 분사노즐로부터 상기 기판으로 분사되는 상기 세정액의 분사력에 대해 상기 기판을 탄력적으로 지지하기 위한 적어도 하나의 완충유닛;을 포함한다.
이때, 상기 완충유닛은, 유연성을 가진 재질로 형성되어 상기 기판의 하면과 접촉되도록 설치되는 복수개의 플렉시블 지지부재; 및 상기 플렉시블 지지부재를 고정시키기 위한 고정블록;을 포함할 수 있다.
또한, 상기 완충유닛은, 상기 고정블록의 상하면이 관통된 상태로 형성되어, 상기 고정블록의 상면으로 분사된 상기 세정액이 통과되도록 하기 위한 복수개의 통과홀;을 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 고정블록의 폭방향 양측 단부는, 상기 고정블록의 상면으로 분사된 상기 세정액이 상기 세정챔버의 하부로 흐를 수 있도록 상기 세정액의 흐름을 안내하기 위해 라운드지게 형성될 수 있다.
또한, 상기 완충유닛은, 상기 기판의 하면과 상기 플렉시블 지지부재의 간격을 감지하는 감지센서; 및 상기 고정블록과 연결되도록 설치되어, 상기 간격이 미리 정해진 설정간격을 벗어나는 경우, 상기 고정블록을 상기 기판의 하면측으로 이동시키기 위한 이동수단;을 더 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판세정장치는 상기 세정챔버의 내부에 설치되되, 상기 기판의 하부측에 설치되어 상기 기판의 하부측으로 세정액을 분사하기 위한 제2 분사노즐을 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 완충유닛은, 상기 제2 분사노즐의 제2 노즐팁을 기준으로 상기 제2 노즐팁의 일측에 배치되는 제1 완충유닛; 및 상기 제1 완충유닛과 대응되는 형상으로 형성되어, 상기 제2 노즐팁의 타측에 배치되는 제2 완충유닛을 포함하고, 상기 제1 완충유닛과 상기 제2 완충유닛 사이에는 분사공간부가 형성되고, 상기 제2 분사노즐에 의해 분사되는 상기 세정액이 상기 분사공간부를 통하여 상기 기판의 하부측을 향해 분사될 수 있도록 할 수 있다.
이때, 상기 제1 완충유닛 및 제2 완충유닛은, 상기 제2 노즐팁의 양측 경사면에 각각 지지된 상태로 설치될 수 있다.
한편, 상기 제1 완충유닛 및 상기 제2 완충유닛의 하단부에는 상기 제2 노즐팁의 양측 경사면에 대응되는 제1 경사면 및 제2 경사면이 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 기판세정장치는 기판의 하부에 완충유닛을 구비하여 기판을 탄력적으로 지지함으로써, 세정액이 기판에 가하는 타력을 분산시키고 완충작용을 수 있어 기판이 파손되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 완충유닛의 고정블록에 통과홀이 형성되고 고정블록의 양측단부가 라운드지게 형성된 것에 의해, 고정블록 측으로 분사되는 세정액에 의한 상기 고정블록이 받는 저항을 줄일 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 종래의 아이들 롤러를 사용하지 않게 됨에 따라, 종래의 기판과 아이들 롤러의 부딪힘에 의해 발생되었던 기판에 스크래치 및 파손되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 제1 완충유닛과 제2 완충유닛 사이에 분사공간부가 형성됨에 따라 각 완충유닛의 간섭을 받지 않고 기판에 대해 균일한 세정력을 공급할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 구성을 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 요부 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 각 완충유닛의 양측 단부가 라운드지게 형성된 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판세정장치의 요부 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
이하, 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시 예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시 예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 구성을 개략적으로 나타낸 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 요부 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판세정장치는 세정챔버(100)와, 롤러모듈(200)과, 제1 분사노즐(300)과, 제2 분사노즐(500)과, 제 1 완충유닛(700) 및 제2 완충유닛(800)을 포함한다.
상기 세정챔버(100)는 세정공정이 수행되는 공간을 형성하고, 하부에는 세정액을 배출시키기 위한 배출구(미도시)가 형성될 수 있다.
상기 롤러모듈(200)은 복수개의 롤러(230)가 설치되는 이송축(210)과, 상기 이송축(210)을 구동시키기 위한 구동모터(미도시)를 포함할 수 있으며, 상기 세정챔버(100)의 내부에 설치된다. 이때, 상기 구동모터의 작동에 의해 상기 이송축(210)이 회전되면서 상기 복수의 롤러(230)가 회전되어 상기 기판(G)을 일방향으로 이동 시키게 된다.
한편, 상기 롤러모듈(200)은 상기 기판(G)의 상면 및 하면을 지지하는 한쌍의 지지롤러(250)를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 한쌍의 지지롤러(250)는 이동되는 기판(G)의 상면과 하면에 접촉되어 지지하는 역할을 수행한다.
상기 제1 분사노즐(300)은 상기 기판(G)의 상부를 가로지르는 바(bar) 형상으로 형성되어, 상기 롤러(230)들에 의해 일방향으로 이송되는 상기 기판(G)의 상면에 세정액 및 압축공기 등을 분사하여 상기 기판(G)의 상면에 묻은 이물질을 제거하게 된다. 이때, 상기 제1 분사노즐(300)은 상기 세정액을 토출시키기 위한 제1 노즐팁(310)이 구비될 수 있다.
상기 제2 분사노즐(500)은 상기 세정챔버(100)의 내부에 설치되되, 상기 기판(G)의 하부측에 설치되어 상기 기판(G)의 하부측으로 세정액을 분사하여 기판(G)의 하부에 묻어 있는 이물질을 제거한다.
상기 제2 분사노즐(500)의 구조는 상기 제1 분사노즐(300)의 구조와 동일하여 자세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 제1 완충유닛(700) 및 제2 완충유닛(800)은 상기 기판(G)을 기준으로 상기 제1 분사노즐(300)의 반대방향에 배치되되, 상기 복수 개의 롤러(230)들 사이에 배치되어 상기 제1 분사노즐(300) 및 상기 제2 분사노즐(500)로부터 상기 기판(G)으로 분사되는 상기 세정액의 분사력에 대해 상기 기판(G)을 탄력적으로 지지한다.
이때, 상기 제1 완충유닛(700)은 상기 제2 분사노즐(500)의 제2 노즐팁(510)을 기준으로 상기 제2 노즐팁(510)의 일측에 배치될 수 있고, 상기 제2 완충유닛(800)은 상기 제1 완충유닛(700)과 대응되는 형상으로 형성되어, 상기 제2 노즐팁(510)의 타측에 배치될 수 있다.
이때, 상기 제1 완충유닛(700) 및 제2 완충유닛(800)은 상기 제2 노즐팁(510)의 양측 경사면에 각각 지지된 상태로 설치될 수 있다.
한편, 상기 제1 완충유닛(700) 및 제2 완충유닛(800)이 상기 경사진 제2 노즐팁(510)에 지지된 상태로 설치시키기 위해서는, 상기 제1 완충유닛(700) 및 상기 제2 완충유닛(800)의 하단부에는 상기 제2 노즐팁(510)의 양측 경사면에 대응되는 제1 경사면(733) 및 제2 경사면(833)이 형성되는 것이 바람직하다.
이때, 상기 제1 경사면(733) 및 상기 제2 경사면(833)은 후술하는 제1 고정블록(730) 및 제2 고정블록(730)의 하단부에 형성될 수 있다.
상기 제1 완충유닛(700)은 제1 플렉시블 지지부재(710) 및 제1 고정블록(730)을 포함할 수 있다.
상기 제1 플렉시블 지지부재(710)는 유연성을 가진 재질로 형성되어 상기 기판(G)의 하면과 접촉되도록 설치될 수 있다.
이때, 상기 제1 플렉시블 지지부재(710)는 유연성을 가진 고분자 재질로 형성된 브러시가 사용될 수 있으며, 상기 제1 분사노즐(300) 및 상기 제2 분사노즐(500)로부터 상기 기판(G)으로 분사되는 상기 세정액의 분사력에 대해 상기 기판(G)을 탄력적으로 지지한다.
상기 제1 고정블록(730)은 사각 바 형상으로 형성되고, 상기 제1 플렉시블 지지부재(710)가 상면에 고정될 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른, 상기 제1 완충유닛(700)은 상기 제1 고정블록(730)의 상하면이 관통된 상태로 형성되어, 상기 제1 고정블록(730)의 상면으로 유동된 상기 세정액이 통과되도록 하기 위한 복수개의 제1 통과홀(731)을 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 제1 통과홀(731)은 상기 제1 고정블록(730)에서 상기 제1 플렉시블 지지부재(710)가 설치되지 않은 부위에 관통된 상태로 설치될 수 있다.
일예로, 상기 기판(G)이 세정을 위해 상기 세정챔버(100)로 유입되는 동안 상기 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐은(500)은 기판(G)의 세정을 위해 세정액을 분사시키게 된다.
이때, 상기 분사되는 세정액은 상기 제1 완충유닛(700) 측으로 분사되고, 상기 제1 완충유닛(700)의 제1 고정블록(730)이 상기 분사되는 세정액에 의해 저항을 받게 된다.
이때, 상기 분사되는 세정액이 상기 제1 고정블록(730)에 형성된 통과홀(731)로 통과되도록 함으로써, 상기 분사되는 세정액에 의한 상기 제1 고정블록(730)이 받는 저항을 줄일 수 있게 된다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 각 완충유닛의 폭방향 양측 단부가 라운드지게 형성된 상태를 나타낸 도면이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제1 고정블록(730)의 폭방향 양측 단부는 상기 제1 고정블록(730)의 상면으로 유동된 상기 세정액이 상기 세정챔버(100)의 하부로 흐를 수 있도록 상기 세정액의 흐름을 안내하기 위해 라운드지게 형성될 수 있다.
즉, 상기 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐(500)에서 분사되는 세정액이 상기 제1 고정블록(730)으로 분사되면, 상기 제1 고정블록(730)으로 분사된 세정액이 상기 라운드지게 형성된 상기 제1 고정블록(730)의 양측 단부를 따라 흐르게 되어 상기 분사되는 세정액에 의해 상기 제1 고정블록(730)이 받는 저항을 더욱 줄일 수 있게 된다.
이때, 상기 제1 고정블록(730)의 길이방향 양측 단부 또한 라운드지게 형성되는 것도 물론 가능하다.
상기 제2 완충유닛(800)은 제2 플렉시블 지지부재(810) 및 제2 고정블록(830)을 포함할 수 있다. 이때, 상기 제2 완충유닛(800)은 제2 고정블록(830)에 형성된 제2 통과홀(831)을 더 포함할 수 있다.
상기 제2 완충유닛(800)의 구성 및 동작은 상술한 제1 완충유닛(700)의 구성과 동일하여 상게한 설명은 생략한다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판세정장치는 상기 제1 완충유닛(700)과 상기 제2 완충유닛(800) 사이에는 분사공간부(900)가 형성될 수 있다.
이때, 상기 제2 분사노즐(500)에 의해 분사되는 상기 세정액이 상기 분사공간부(900)를 통과하여 상기 기판(G)의 하면을 향해 분사될 수 있다.
즉, 상기 제1 완충유닛(700)과 상기 제2 완충유닛(800) 사이에 상기 분사공간부(900)가 형성된 것에 의해 상기 제2 분사노즐(500)은 상기 각 완충유닛(700,800)의 간섭을 받지 않고 상기 기판(G)의 하면으로 세정액을 분사시킬 수 있다.
지금부터는 앞서 상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판세정장치의 작동과정에 대해서 설명한다.
상기 세정챔버(100)로 세정을 위해 기판(G)이 유입되면, 상기 세정챔버(100) 내부에 설치된 상기 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐(500)로부터 상기 세정액이 분사된다.
한편, 상기 기판(G)이 상기 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐(500) 측으로 이송되기 전에는 상기 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐(500)에 의해 분사되는 세정액의 상기 제1 완충유닛(700) 및 제2 완충유닛(800)의 각 고정블록(730,830) 측으로 분사된다.
이때, 상기 분사된 일부의 세정액은 상기 제1 고정블록(730) 및 제2 고정블록(830)에 형성된 제1 통과홀(731) 및 제2 통과홀(731)로 통과되고, 상기 분사된 일부의 세정액은 상기 각 고정블록(730,830)의 양측단이 라운드진 부위를 따라 상기 세정챔버(100)의 하부측으로 흐를 수 있도록 함에 따라, 상기 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐(500)로부터 분사되는 상기 세정액에 의해 상기 각 고정블록(730,830)이 받는 저항을 줄일 수 있다.
다음, 상기 제1 분사노즐(300)에 의해 분사되는 세정액은 상기 기판(G)의 상면에 묻은 이물질을 제거하고 상기 제2 분사노즐(500)에 의해 분사되는 세정액은 상기 기판(G)의 하면에 묻은 이물질을 제거한다.
한편, 상기 제1 분사노즐(300) 및 상기 제2 분사노즐(500)에 의해 분사되는 상기 세정액의 분사력에 의해 상기 기판(G)은 유동이 발생하게 된다.
이때, 상기 기판(G)의 하부에 설치된 상기 제1 완충유닛(700)의 제1 플렉시블 지지부재(710) 및 제2 완충유닛(800)의 제2 플렉시블 지지부재(810)가 상기 기판(G)에 가해지는 분사력을 분산시키면서 탄력적으로 지지할 수 있어, 상기 세정액이 상기 기판에 가하는 타력을 분산시키고 완충작용을 수 있어 기판(G)이 충격에 의해 파손되는 것을 방지할 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판세정장치의 요부 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판세정장치는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판세정장치는 세정챔버(100)와, 롤러모듈(200)과, 제1 분사노즐(300)과 제2 분사노즐(500) 및 완충유닛(400)을 포함한다.
이때, 상기 세정챔버(100)와 롤러모듈(200)과 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐(500)의 구성 및 동작은 상술한 본 발명의 일 실시예의 구성 및 동작과 동일하여 상세한 설명은 생략한다.
본 발명의 일 실시예에서는 완충유닛 2개 설치된 것이 제시되었지만 본 발명의 다른 실시예에서는 완충유닛 1개가 설치된 것이 제시된다.
상기 완충유닛(400)은 상기 기판(G)을 기준으로 상기 제1 분사노즐(300)의 반대방향에 배치되되, 상기 복수 개의 롤러(230)들 사이에 배치되어 상기 제1 분사노즐(300) 및 제2 분사노즐(500)로부터 상기 기판(G)으로 분사되는 상기 세정액의 분사력에 대해 상기 기판(G)을 탄력적으로 지지한다.
상기 완충유닛(400)은 플렉시블 지지부재(410) 및 고정블록(430)을 포함할 수 있다. 상기 완충유닛(400)의 구성 및 동작은 상술한 본 발명의 일 실시예의 제1 완충유닛(700)의 구성 및 동작과 동일하여 상세한 설명은 생략한다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 상기 완충유닛(400)은 상기 고정블록(430)의 하부에 형성되어 상기 제2 분사노즐(500)이 배치되는 배치홈부(450) 및 상기 고정블록(430)의 상부에 형성되어 상기 제2 분사노즐(500)에 의해 분사되는 세정액이 상기 고정블록(430)을 통과하여 상기 기판(G) 측으로 분사될 수 있도록 하는 슬릿홀부(470)를 더 포함할 수 있다.
즉, 상기 완충유닛(400)의 고정블록(430)의 상단 중심 부외를 슬릿 형태로 절개한 슬릿홀부(470)를 형성하여 상기 제2 분사노즐(500)에서 분사되는 세정액이 통과될 수 있도록 한다.
이에 따라, 상기 제2 분사노즐(500)은 상기 고정블록(430)의 배치홈부(450)에 밀착된 상태로 설치될 수 있고, 상기 제2 분사노즐(500)에서 분사되는 세정액은 슬릿홀부(470)를 통과하여 상기 기판(G)의 하면으로 분사될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 상기 완충유닛(400)은 감지센서와, 이동수단을 더 포함할 수 있다.
도시되지는 않았지만, 상기 감지센서는 상기 고정블록(430)의 일측에 설치되어 상기 기판(G)의 하면과 상기 플렉시블 지지부재(410)의 간격을 감지한다.
도시되지는 않았지만, 상기 이동수단은 상기 고정블록(430)과 연결되도록 설치되어, 상기 간격이 미리 정해진 설정간격을 벗어나는 경우, 상기 고정블록(430)을 상기 기판(G)의 하면측으로 이동시킨다.
이때, 상기 고정블록(430)을 이송시키기 위한 이동수단으로는 상기 고정블록(430)과 연결되어 상기 고정블록(430)을 상측 방향으로 이동시킬 수 있는 구조라면 어떠한 구조가 사용되어도 무방하여 상기 이동수단의 구조를 굳이 한정하지는 않는다.
더욱 구체적으로, 상기 완충유닛(400)의 플렉시블 지지부재(410)들이 상기 분사되는 세정액 및 이송되는 기판(G)과 접촉되면서 상기 플렉시블 지지부재(410)들의 상단이 마모될 수 있다.
이때, 마모에 의해 상기 플렉시블 지지부재(410)들의 높이가 줄어들어 상기 기판(G)의 하면에 대해 상기 플렉시블 지지부재(410)의 간격이 미리 정해진 설정간격을 벗어나는 상태가 될 수 있다.
이때, 상기 감지센서가 상기 기판(G)의 하면과 상기 플렉시블 지지부재(410)의 간격을 감지하여, 상기 기판(G)의 하면과 상기 플렉시블 지지부재(410) 사이 간격이 미리 정해진 설정간격을 벗어난 경우, 상기 이동수단을 이용하여 상기 고정블록(430)을 상측으로 이동시켜 상기 기판(G)의 하면과 상기 플렉시블 지지부재(410) 사이 간격이 미리 정해진 설정간격 범위로 이동시키게 된다.
이상 상술한 바와 같은, 본 발명의 따른 상기 기판세정장치는 상기 기판의 하부에 상기 완충유닛을 구비하여 상기 기판을 탄력적으로 지지함으로써, 상기 세정액이 상기 기판에 가하는 타력을 분산시키고 완충작용을 수 있어 상기 기판이 파손되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 상기 완충유닛의 상기 고정블록에 상기 통과홀이 형성되고 상기 고정블록의 양측단부가 라운드지게 형성된 것에 의해, 상기 고정블록 측으로 분사되는 세정액에 의한 상기 고정블록이 받는 저항을 줄일 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 종래의 아이들 롤러를 사용하지 않게 됨에 따라, 종래의 상기 기판과 아이들 롤러의 부딪힘에 의해 발생되었던 상기 기판에 스크래치 및 파손되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 제1 완충유닛과 제2 완충유닛 사이에 분사공간부가 형성됨에 따라 각 완충유닛의 간섭을 받지 않고 기판에 대해 균일한 세정력을 공급할 수 있는 효과가 있다.
상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.
100: 세정참버 200: 롤러모듈
210: 이송축 230: 롤러
250: 지지롤로 300: 제1 분사노즐
310: 제1 노즐팁 400: 완충유닛
410: 플렉시블 지지부재 430: 고정블록
450: 배치홈부 470: 슬릿홀부
500: 제2 분사노즐 510: 제2 노즐팁
700: 제1 완충유닛 710: 제1 플렉시블 지지부재
730: 제1 고정블록 731: 제1 통과홀
733: 경사면 800: 제2 완충유닛
810: 제2 플렉시블 지지부재 830: 제1 고정블록
831: 제2 통과홀 833: 제2 경사면
900: 유체분사공간 G: 기판

Claims (9)

  1. 기판이 세정되는 공간을 형성하는 세정챔버;
    상기 세정챔버의 내부에 설치되어, 상기 기판을 이송시키기 위한 복수개의 롤러를 갖는 롤러모듈;
    상기 세정챔버의 내부에 설치되되, 상기 기판의 상부측에 설치되어 상기 기판의 상부로 세정액을 분사하기 위한 제1 분사노즐; 및
    상기 기판을 기준으로 상기 제1 분사노즐의 반대방향에 배치되되, 상기 복수 개의 롤러들 사이에 배치되어 상기 제1 분사노즐로부터 상기 기판으로 분사되는 상기 세정액의 분사력에 대해 상기 기판을 탄력적으로 지지하기 위한 적어도 하나의 완충유닛;을 포함하는 기판세정장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 완충유닛은,
    유연성을 가진 재질로 형성되어 상기 기판의 하면과 접촉되도록 설치되는 복수개의 플렉시블 지지부재; 및
    상기 플렉시블 지지부재를 고정시키기 위한 고정블록;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 완충유닛은,
    상기 고정블록의 상하면이 관통된 상태로 형성되어, 상기 고정블록의 상면으로 분사된 상기 세정액이 통과되도록 하기 위한 복수개의 통과홀;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 고정블록의 폭방향 양측 단부는,
    상기 고정블록의 상면으로 분사된 상기 세정액이 상기 세정챔버의 하부로 흐를 수 있도록 상기 세정액의 흐름을 안내하기 위해 라운드지게 형성된 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 완충유닛은,
    상기 기판의 하면과 상기 플렉시블 지지부재의 간격을 감지하는 감지센서; 및
    상기 고정블록과 연결되도록 설치되어, 상기 간격이 미리 정해진 설정간격을 벗어나는 경우, 상기 고정블록을 상기 기판의 하면측으로 이동시키기 위한 이동수단;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 세정챔버의 내부에 설치되되, 상기 기판의 하부측에 설치되어 상기 기판의 하부측으로 세정액을 분사하기 위한 제2 분사노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 완충유닛은,
    상기 제2 분사노즐의 제2 노즐팁을 기준으로 상기 제2 노즐팁의 일측에 배치되는 제1 완충유닛; 및
    상기 제1 완충유닛과 대응되는 형상으로 형성되어, 상기 제2 노즐팁의 타측에 배치되는 제2 완충유닛을 포함하고,
    상기 제1 완충유닛과 상기 제2 완충유닛 사이에는 분사공간부가 형성되고, 상기 제2 분사노즐에 의해 분사되는 상기 세정액이 상기 분사공간부를 통하여 상기 기판의 하부측을 향해 분사될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1 완충유닛 및 제2 완충유닛은,
    상기 제2 노즐팁의 양측 경사면에 각각 지지된 상태로 설치되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1 완충유닛 및 상기 제2 완충유닛의 하단부에는 상기 제2 노즐팁의 양측 경사면에 대응되는 제1 경사면 및 제2 경사면이 형성된 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
KR1020170104098A 2017-08-17 2017-08-17 기판세정장치 KR102351696B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170104098A KR102351696B1 (ko) 2017-08-17 2017-08-17 기판세정장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170104098A KR102351696B1 (ko) 2017-08-17 2017-08-17 기판세정장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190020222A KR20190020222A (ko) 2019-02-28
KR102351696B1 true KR102351696B1 (ko) 2022-01-17

Family

ID=65584469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170104098A KR102351696B1 (ko) 2017-08-17 2017-08-17 기판세정장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102351696B1 (ko)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100894045B1 (ko) * 2002-11-07 2009-04-20 삼성전자주식회사 로드락 챔버
KR20070050806A (ko) * 2006-08-28 2007-05-16 주식회사 대우일렉트로닉스 기판 이송 장치
KR100942588B1 (ko) * 2008-04-18 2010-02-16 주식회사 에이앤디코퍼레이션 기판에 작용하는 충격을 감지하기 위한 기판처리장치와 기판처리방법
KR101020676B1 (ko) 2008-11-26 2011-03-09 세메스 주식회사 기판 세정 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190020222A (ko) 2019-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101577850B1 (ko) 유리의 수직형 처리를 위한 장치
KR102011538B1 (ko) 와이핑 패드 및 이 패드를 사용한 노즐 메인터넌스 장치와 도포 처리 장치
KR101118394B1 (ko) 판재의 세정설비
KR20080090070A (ko) 에어나이프 및 이를 포함하는 기판 건조 장치
JP6315547B2 (ja) 基板処理装置
KR20170048136A (ko) 클리닝 헤드 및 청소 방법
KR102351696B1 (ko) 기판세정장치
JP2006303149A (ja) ウェーハ洗浄装置及びウェーハ洗浄方法
JP4730771B2 (ja) 処理液供給ノズル及び基板処理装置
JP2000254605A (ja) 可撓性基板の洗浄装置
KR20100091036A (ko) 글라스 기판 세정 유닛 및 이를 갖는 글라스 기판 세정 시스템
KR102157973B1 (ko) 이물질 제거 장치 및 이물질 제거 방법
KR200482218Y1 (ko) 노즐 간격 조절이 가능한 나이프
KR200443051Y1 (ko) 기판 건조용 에어 나이프
CN104668217A (zh) 基板处理装置
TWI559432B (zh) Substrate processing device
KR101145851B1 (ko) 기판세정용 분사노즐
JP3857265B2 (ja) スリットシャワーユニット
JP2005019991A (ja) 基板処理装置
KR102278073B1 (ko) 기판 처리 장치
JP2009279477A (ja) 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法
KR101075483B1 (ko) 기판 세정장치 및 방법
KR100809596B1 (ko) 기판 세정 장치
CN110596958B (zh) 液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置
KR102024615B1 (ko) 약액 세정 장치 및 약액 세정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant